專利名稱：Mpet片基醫(yī)用膠片的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種醫(yī)療用品，特別涉及一種醫(yī)用成像膠片。
背景技術(shù)：
傳統(tǒng)的醫(yī)用成像膠片，其片基有紙質(zhì)片基和MPET片基(聚酯材料制成的片基)兩種形式。紙質(zhì)片基雖然有制造成本低、環(huán)保等優(yōu)點，但由于紙質(zhì)片基容易強度不夠，容易破損，因此導(dǎo)致膠片容易損壞。MPET片基雖然具有強度好、不易破損等優(yōu)點，但由于MPET片基的表面光滑，其與感光層結(jié)合時需要使用粘接劑，導(dǎo)致膠片制造工序復(fù)雜，生產(chǎn)成本高。因此需要對現(xiàn)有技術(shù)中的醫(yī)用膠片進行改進，以克服現(xiàn)有醫(yī)用膠片的缺點。

實用新型內(nèi)容有鑒于此，本實用新型的目的是提供一種MPET片基醫(yī)用膠片，其可解決傳統(tǒng)紙質(zhì)片基膠片易破損、傳統(tǒng)MPET膠片存在粘接層生產(chǎn)工藝復(fù)雜的缺點。本MPET片基醫(yī)用膠片的具體技術(shù)方案為本實用新型MPET片基醫(yī)用膠片，包括MPET片基和直接涂覆在MPET片基上的納米氧化硅成像層。進一步，所述MPET片基的厚度為O. 10-0. 30mm，所述納米氧化硅成像層的厚度為
O.01-1. OOmm ；進一步，所述MPET片基為矩形。本實用新型的有益效果本實用新型MPET片基醫(yī)用膠片，其采用的MPET片基耐磨性好，強度好，因此膠片不易破損，壽命長；MPET片基直接和納米氧化硅成像層結(jié)合，兩者間不采用粘接劑，使得膠片的制造工藝簡單，制造成本低；并且采用納米氧化硅成像層成像，成像后圖像穩(wěn)定清晰，不存在二次曝光缺陷。

圖I為本實用新型MPET片基醫(yī)用膠片的主視圖；圖2為圖I沿A-A的剖視圖。
具體實施方式
以下結(jié)合附圖和實施例對本實用新型作進一步描述。如圖所示，本實施例MPET片基醫(yī)用膠片，包括MPET片基I和直接涂覆在MPET片基I上的納米氧化硅成像層2。由于MPET片基表面光滑，在常溫狀態(tài)下，MPET片基和納米氧化硅成像層之間的結(jié)合較為困難；但在實際生產(chǎn)過程中，將納米氧化硅材料加熱到30°C左右，納米氧化硅粉末材料與MPET片基便有良好的粘接性，這樣便可將納米氧化硅成像層2直接涂覆在MPET片基上，使兩者牢固結(jié)合。本實施例MPET片基醫(yī)用膠片，克服了傳統(tǒng)紙質(zhì)片基膠片易損壞的缺點，其MPET片基耐磨性好，強度好，壽命長；其MPET片基直接和納米氧化硅成像層結(jié)合，兩者間不采用粘接劑，使得膠片的制造工藝簡單，制造成本低；并且采用納米氧化硅成像層成像，成像后圖像穩(wěn)定清晰，不存在二次曝光缺陷。本實施例中，所述MPET片基I的厚度為O. 10mm，所述納米氧化硅成像層的厚度為O. Olmm ;當然在不同實施方式中，所述MPET片基和納米氧化硅成像層的厚度還可以為其它值，如 MPET 片基的厚度還可為 O. 05 mm、0. 10 mm、O. 15 mm、O. 20 mm、O. 25 mm、0. 30_等，所述納米氧化娃成像層的厚度還可為O. 01mm、O. 10mm、O. 20mm、O. 30mm、O. 40mm、
0.50mm、0. 60mm、0. 70mm、0. 80mm、0. 90mm、I. OOmm 等；在具體實施中，MPET 片基的厚度在
O.10-0. 30mm范圍內(nèi)，所述納米氧化娃成像層的厚度在O. 01-1. OOmm范圍內(nèi)均較合適,成像效果均較好。本實施例中，所述MPET片基I為矩形，其具體尺寸可制成常規(guī)A4紙大小，便于打印。
權(quán)利要求1.一種MPET片基醫(yī)用膠片，其特征在于包括MPET片基和直接涂覆在MPET片基上的納米氧化娃成像層。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的MPET片基醫(yī)用膠片，其特征在于所述MPET片基的厚度為O.10-0. 30mm,所述納米氧化娃成像層的厚度為O. 01-1. 00mm。
3.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的MPET片基醫(yī)用膠片，其特征在于所述MPET片基為矩形。
專利摘要本實用新型公開了一種MPET片基醫(yī)用膠片，包括MPET片基和直接涂覆在MPET片基上的納米氧化硅成像層；本實用新型MPET片基醫(yī)用膠片，其采用的MPET片基耐磨性好，強度好，因此膠片不易破損，壽命長；MPET片基直接和納米氧化硅成像層結(jié)合，兩者間不采用粘接劑，使得膠片的制造工藝簡單，制造成本低；并且采用納米氧化硅成像層成像，成像后圖像穩(wěn)定清晰，不存在二次曝光缺陷。
文檔編號B32B27/36GK202720443SQ201220440610
公開日2013年2月6日 申請日期2012年8月31日 優(yōu)先權(quán)日2012年8月31日
發(fā)明者何小玉, 陳平, 何澤維, 彭皓 申請人:重慶中迪醫(yī)療設(shè)備有限公司