專利名稱：復(fù)合層結(jié)構(gòu)及具有其的觸控顯示裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是有關(guān)于一種復(fù)合層結(jié)構(gòu)及具有其的顯示裝置，且特別是有關(guān)于一種以非導(dǎo)電金屬層與透明導(dǎo)電層形成一抗刻蝕痕的復(fù)合層結(jié)構(gòu)及具有其的顯示裝置。
背景技術(shù)：
隨著科技的進(jìn)步，生活中已經(jīng)充斥著各式各樣的顯示器產(chǎn)品。不論是液晶顯示器、有機發(fā)光二極管顯示器、電子書或是觸控式顯示器都需要有電極結(jié)構(gòu)，使得電壓得以施加于電極結(jié)構(gòu)以形成一電路。當(dāng)電極結(jié)構(gòu)設(shè)置在顯示器的可視區(qū)(Active Area,AA)時，通常會選擇透明的導(dǎo)電材料作為電極，如圖1A所示，一透明導(dǎo)電層12設(shè)置于一基板10上，透明導(dǎo)電層12的光穿透率及光反射率與基板10的光穿透率及光反射率不相同。因此，當(dāng)可視區(qū)的透明導(dǎo)電層12的大小并非涵蓋到整個基板10的范圍時，觀測者在可視區(qū)會同時看到具有透明導(dǎo)電層12的區(qū)域及不具有透明導(dǎo)電層12的區(qū)域(例如是暴露出的基板10)，造成觀測者在可視區(qū)會察覺具有電極結(jié)構(gòu)的區(qū)域(透明導(dǎo)電層12)及不具有電極結(jié)構(gòu)的區(qū)域(基板10)的差異，也就是本發(fā)明所屬領(lǐng)域的人所知的刻蝕痕可視性問題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是有關(guān)于一種改善透明導(dǎo)電層刻蝕痕的復(fù)合層結(jié)構(gòu)及具有此結(jié)構(gòu)的顯示裝置。通過非導(dǎo)電金屬層與透明導(dǎo)電層形成的復(fù)合層結(jié)構(gòu)取代傳統(tǒng)的透明導(dǎo)電層以達(dá)到抗刻蝕痕的效果，使得具有此種復(fù)合層結(jié)構(gòu)的顯示裝置的可視區(qū)的刻蝕痕問題獲得改善。根據(jù)本發(fā)明的第一方面，提出一種復(fù)合層結(jié)構(gòu)，用于一觸控顯示裝置，復(fù)合層結(jié)構(gòu)包括一基材、一非導(dǎo)電金屬層及一透明導(dǎo)電層。非導(dǎo)電金屬層設(shè)置于基材上。透明導(dǎo)電層與非導(dǎo)電金屬層相疊而設(shè)。根據(jù)本發(fā)明的 第二方面，提出一種觸控顯示裝置，具有一可視區(qū)及一非可視區(qū)，觸控顯不裝置包括一第一基板、一第一非導(dǎo)電金屬層及一第一圖案化透明導(dǎo)電層。第一非導(dǎo)電金屬層設(shè)置于第一基板的一側(cè)且位于可視區(qū)。第一圖案化透明導(dǎo)電層，與第一非導(dǎo)電金屬層相疊而設(shè)。本發(fā)明所提供的改善透明導(dǎo)電層刻蝕痕的復(fù)合層結(jié)構(gòu)及具有此結(jié)構(gòu)的顯示裝置，是通過非導(dǎo)電金屬層與透明導(dǎo)電層形成的復(fù)合層結(jié)構(gòu)取代傳統(tǒng)的透明導(dǎo)電層以達(dá)到抗刻蝕痕的效果，使得具有此種復(fù)合層結(jié)構(gòu)的顯示裝置的可視區(qū)的刻蝕痕問題獲得改善。


圖1A繪示現(xiàn)有的透明導(dǎo)電層設(shè)置于基板上的示意圖。圖1B繪示發(fā)明人所知悉的改善透明導(dǎo)電層設(shè)置于基板上產(chǎn)生刻蝕痕的結(jié)構(gòu)的示意圖。圖2A 圖2B繪示依照本發(fā)明一實施例的復(fù)合層結(jié)構(gòu)的制造流程圖。
圖3A 圖3B繪示依照本發(fā)明另一實施例的復(fù)合層結(jié)構(gòu)的制造流程圖。圖4繪示應(yīng)用本發(fā)明一實施例的觸控顯示裝置的上視圖。圖5A 圖5B是繪示圖4的觸控顯示裝置于切線2_2的剖面的一種實施態(tài)樣的示意圖。圖6A、圖6B及圖6C繪示如圖4的觸控顯示裝置以切線2_2切割的剖面的另一種實施態(tài)樣的示意圖。圖7A、圖7B及圖7C繪示如圖4的觸控顯示裝置以切線2_2切割的剖面的另一種實施態(tài)樣的示意圖。圖8是繪示依照本發(fā)明一實施例的復(fù)合層結(jié)構(gòu)應(yīng)用于一觸控顯示裝置的示意圖。附圖標(biāo)號:2_2:切線4、4-1、4-2、5-1、5-2、5-3、6-1、6-2、6-3、7:顯示裝置10、40-1、40-2、50-1、50-2、50-3、60-1、60-2、60-3、65-1、65-2、65-3、70:基板12、22、22’、32、74:透明導(dǎo)電層14:調(diào)整層20、30:基材24、34、41·-1、41-2、51-1、51-2、51-3、53-1、53-2、61-1、61-2、61-3、63-1、63-2:非
導(dǎo)電金屬層42、44、42-1、42-2、52-1、52-2、52-3、54-1、54-2、54-3、62-1、62-2、62-3、64-1、64-2、64-3:電極75:觸控面板76:顯示面板78:蓋板AA:可視區(qū)A1、A2、P1、P2:區(qū)L1、L2:復(fù)合層結(jié)構(gòu)NA:非可視區(qū)
具體實施例方式為了對本發(fā)明的上述及其他方面有更佳的了解，下文特舉較佳實施例，并配合所附附圖，作詳細(xì)說明如下:以下先舉例說明本申請案的發(fā)明人所知悉的改善刻蝕痕的方法。接著會說明由發(fā)明人所知悉的改善刻蝕痕方法的缺點及問題，以及為了改善問題而研發(fā)出的改善刻蝕痕的復(fù)合層結(jié)構(gòu)，以及具有此種復(fù)合層結(jié)構(gòu)的顯示裝置。請參考圖1B，其繪示發(fā)明人所知悉的改善透明導(dǎo)電層設(shè)置于基板上產(chǎn)生刻蝕痕的結(jié)構(gòu)示意圖。如圖1B所示，于一基板10上形成一調(diào)整層14，再形成透明導(dǎo)電層12。通過控制調(diào)整層14的材料及膜厚，使僅具有調(diào)整層14區(qū)域與具有調(diào)整層14及透明導(dǎo)電層區(qū)域的反射率接近，可以改善傳統(tǒng)的刻蝕痕可視性問題。調(diào)整層14的材質(zhì)是陶瓷介電材料或有機高分子復(fù)合材料，然而，上述材料在制造工藝上有許多缺點。以陶瓷介電材料來說，所形成的調(diào)整層14是以反應(yīng)式干式成膜的方式形成，制造工藝耗時且穩(wěn)定性控制不易，且疊構(gòu)設(shè)計復(fù)雜導(dǎo)致成品率較低，又陶瓷材質(zhì)硬且脆不利于可撓式顯示器的應(yīng)用。另外，以有機高分子復(fù)合材料來說，所形成的調(diào)整層14是以濕式涂布的方式成膜，因此，不易與透明導(dǎo)電層12的干式成膜制造工藝整合，且不易達(dá)到光學(xué)等級的平整成膜，有機高分子復(fù)合材料的材料選擇性少，制造工藝成品率不佳且涂布模具價格昂貴。第一實施例請參考圖2A 圖2B，其繪示復(fù)合層結(jié)構(gòu)LI的形成方法。如圖2A所示，提供一基材20，依序形成一非導(dǎo)電金屬層24及一透明導(dǎo)電層22。非導(dǎo)電金屬層24的厚度小于10納米(rim)，非導(dǎo)電金屬層24的材質(zhì)是選擇自銦(In)、錫(Sn)、銦錫合金、銦合金、錫合金、鉭(Ta)、或者其他面阻值大于106歐姆/平方(Ω/sq)的非導(dǎo)電金屬材料及其組合所組成的群組。由于非導(dǎo)電金屬層24具有很高的阻抗，因此不會影響透明導(dǎo)電層22的電信號的傳輸，也不會有信號短路的問題。于此實施例中，非導(dǎo)電金屬層24例如是以非導(dǎo)電真空金屬鍍膜技術(shù)(NonConductiveVacuum Metalization, NCVM)而形成，即為干式成膜的方式之一。透明導(dǎo)電層22例如是由銦錫氧化物(Indium Tin Oxide, ITO)、銦鋅氧化物(Indium Zinc Oxide,IZ0)或氧化鋅(Zinc Oxide, ZnO)以干式成膜的方式形成于非導(dǎo)電金屬層24上。干式成膜法可為物理蒸發(fā)方式或化學(xué)蒸發(fā)方式，例如，化學(xué)蒸發(fā)方式可為等離子增強式化學(xué)氣相法(Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition, PECVD)、低壓化學(xué)汽相沉積法(LoWPressure Chemical Vapor Deposition, LPCVD)或高分子聚合化學(xué)汽相沉積法(PolymerPolymerization Chemical Vapor Deposition, PPCVD)。請接著參考圖2B，以微影制造工藝圖案化透明導(dǎo)電層22 (繪示于圖2A)，以形成圖案化透明導(dǎo)電層22’。如圖2B所示，復(fù)合層結(jié)構(gòu)LI包括基材20、圖案化透明導(dǎo)電層22’及非導(dǎo)電金屬層24，且復(fù)合層結(jié)構(gòu)LI可以分為第一區(qū)Al及第二區(qū)A2。當(dāng)觀測者于復(fù)合層結(jié)構(gòu)LI的側(cè)朝向基材20看的時候，觀測者于第一區(qū)Al看到的是圖案化透明導(dǎo)電層22’，于第二區(qū)A2看到的是非導(dǎo)電金屬層24。于第一區(qū)Al中，圖案化透明導(dǎo)電層22’及非導(dǎo)電金屬層24的復(fù)合結(jié)構(gòu)具有一第一光穿透率及一第一光反射率。于第二區(qū)A2中，非導(dǎo)電金屬層24具有一第二光穿透率及一第二光反射率。 以下是以銦為材質(zhì)制成的非導(dǎo)電金屬層24為例，將非導(dǎo)電金屬層24的厚度、第一及第二光反射率的差異，以及第一及第二光穿透率差異的實驗結(jié)果列于表一。表一
權(quán)利要求
1.一種復(fù)合層結(jié)構(gòu)，其特征在于，用于一觸控顯示裝置，所述復(fù)合層結(jié)構(gòu)包括 一基材； 一非導(dǎo)電金屬層，設(shè)置于所述基材上；以及 一透明導(dǎo)電層，與所述非導(dǎo)電金屬層相疊而設(shè)。
2.如權(quán)利要求I所述的復(fù)合層結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述透明導(dǎo)電層為一圖案化透明導(dǎo)電層。
3.如權(quán)利要求2所述的復(fù)合層結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述非導(dǎo)電金屬層的面積大于所述圖案化透明導(dǎo)電層的面積。
4.如權(quán)利要求2所述的復(fù)合層結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述復(fù)合層包括一第一區(qū)及一第二區(qū)，所述第一區(qū)具有所述非導(dǎo)電金屬層及所述圖案化透明導(dǎo)電層，所述第二區(qū)具有所述非導(dǎo)電金屬層。
5.如權(quán)利要求4所述的復(fù)合層結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述第一區(qū)具有一第一光穿透率及一第一光反射率，所述第二區(qū)具有一第二光穿透率及一第二光反射率，所述第一光穿透率及所述第二光穿透率的差小于2. 01，所述第一光反射率及所述第二光反射率的差小于I.63。
6.如權(quán)利要求I所述的復(fù)合層結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述非導(dǎo)電金屬層的材質(zhì)的面阻值大于106歐姆/平方。
7.如權(quán)利要求I所述的復(fù)合層結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述非導(dǎo)電金屬層的材質(zhì)選擇自銦、錫、銦錫合金、銦合金、錫合金、鉭或其組合所組成。
8.如權(quán)利要求I所述的復(fù)合層結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述非導(dǎo)電金屬層的厚度小于10納米。
9.一種觸控顯示裝置，其特征在于，具有一可視區(qū)及一非可視區(qū)，所述觸控顯示裝置包括 一第一基板; 一第一非導(dǎo)電金屬層，設(shè)置于所述第一基板的一側(cè)且位于所述可視區(qū)；以及 一第一圖案化透明導(dǎo)電層，與所述第一非導(dǎo)電金屬層相疊而設(shè)。
10.如權(quán)利要求9所述的觸控顯示裝置，其特征在于，所述第一圖案化透明導(dǎo)電層包括多個第一電極，所述多個第一電極以一第一方向排列。
11.如權(quán)利要求10所述的觸控顯示裝置，其特征在于，所述觸控顯示裝置更包括一第二圖案化透明導(dǎo)電層，設(shè)置于所述可視區(qū)，其中所述第二圖案化透明導(dǎo)電層包括多個第二電極，所述多個第二電極以一第二方向排列，所述第一方向與所述第二方向不相同。
12.如權(quán)利要求11所述的觸控顯示裝置，其特征在于，所述觸控顯示裝置更包括一第二非導(dǎo)電金屬層，與所述第二圖案化透明導(dǎo)電相疊而設(shè)。
13.如權(quán)利要求11所述的觸控顯示裝置，其特征在于，所述第二圖案化透明導(dǎo)電層設(shè)置于所述第一基板的另一側(cè)。
14.如權(quán)利要求13所述的觸控顯示裝置，其特征在于，所述觸控顯示裝置更包括一第二非導(dǎo)電金屬層，其中所述第二非導(dǎo)電金屬層設(shè)置于所述第一基板與所述第二圖案化透明導(dǎo)電層之間。
15.如權(quán)利要求11所述的觸控顯示裝置，其特征在于，所述觸控顯示裝置更包括一第二基板，與所述第一基板相對設(shè)置，其中所述第二圖案化透明導(dǎo)電層設(shè)置于所述第二基板的一側(cè)。
16.如權(quán)利要求15所述的觸控顯示裝置，其特征在于，所述觸控顯示裝置更包括一第二非導(dǎo)電金屬層，其中所述第二非導(dǎo)電金屬層設(shè)置于所述第二基板與所述第二圖案化透明導(dǎo)電層之間。
17.如權(quán)利要求9所述的觸控顯示裝置，其特征在于，所述第一非導(dǎo)電金屬層設(shè)置于所述第一基板與所述第一圖案化透明導(dǎo)電層之間。
18.如權(quán)利要求9所述的觸控顯示裝置，其特征在于，所述非導(dǎo)電金屬層的材質(zhì)的面阻值大于106歐姆/平方。
19.如權(quán)利要求9所述的觸控顯示裝置，其特征在于，所述非導(dǎo)電金屬層的厚度小于10納米。
20.如權(quán)利要求9所述的觸控顯示裝置，其特征在于，所述可視區(qū)包括一第一區(qū)及一第二區(qū)，所述第一區(qū)具有所述第一非導(dǎo)電金屬層及所述第一圖案化透明導(dǎo)電層，所述第一圖案化透明導(dǎo)電層與所述第一非導(dǎo)電金屬層相疊而設(shè)，所述第二區(qū)具有所述第一非導(dǎo)電金屬層。
21.如權(quán)利要求20所述的觸控顯示裝置，其特征在于，所述第一區(qū)具有一第一光穿透率及一第一光反射率，所述第二區(qū)具有一第二光穿透率及一第二光反射率，所述第一光穿透率及所述第二光穿透率的差小于2. 01，所述第一光反射率及所述第二光反射率的差小于I.63。
22.如權(quán)利要求9所述的觸控顯示裝置，其特征在于，所述觸控顯示裝置更包括一顯示面板，與所述第一基板相對設(shè)置，其中所述顯示面板為液晶面板、有機發(fā)光二極管面板或發(fā)光二極管面板。
全文摘要
本發(fā)明提供一種復(fù)合層結(jié)構(gòu)及具有其的觸控顯示裝置。該復(fù)合層結(jié)構(gòu)，用于一觸控顯示裝置，復(fù)合層結(jié)構(gòu)包括一基材、一非導(dǎo)電金屬層及一透明導(dǎo)電層。非導(dǎo)電金屬層設(shè)置于基材上。透明導(dǎo)電層與非導(dǎo)電金屬層相疊而設(shè)。
文檔編號B32B15/00GK103252936SQ20121003669
公開日2013年8月21日 申請日期2012年2月17日 優(yōu)先權(quán)日2012年2月17日
發(fā)明者賴思維 申請人:群康科技(深圳)有限公司, 奇美電子股份有限公司