專利名稱：具有抗翹曲表面的光學(xué)膜的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明整體涉及光學(xué)膜。本發(fā)明還適用于組裝此類光學(xué)膜的光學(xué)系統(tǒng)，例如顯示系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
顯示系統(tǒng)(例如液晶顯示(LCD)系統(tǒng))用于多種應(yīng)用和市售的裝置中，例如(如)計(jì)算機(jī)監(jiān)視器、個(gè)人數(shù)字助理(PDA)、移動(dòng)電話、微型音樂播放器、和薄LCD電視。大多數(shù)LCD包括液晶面板和用于照射液晶面板的擴(kuò)展區(qū)域光源(通常稱為背光源)。背光源通常包括一個(gè)或多個(gè)燈以及多個(gè)光控制膜(例如光導(dǎo)、反射鏡膜、光重定向膜、延遲膜、光偏振膜和漫射膜)。一直存在一種需要，即通過改進(jìn)光學(xué)膜和光學(xué)系統(tǒng)獲得具有較少可見和/或光學(xué)缺陷的更亮、更緊湊、低功率的顯示器。本發(fā)明滿足了這些需求和其他需求，并且提供了優(yōu)于現(xiàn)有技術(shù)的其他優(yōu)點(diǎn)。

發(fā)明內(nèi)容
一個(gè)實(shí)施例涉及包括第一光學(xué)膜和第二光學(xué)膜的光學(xué)膜疊堆，其中第一光學(xué)膜具有第一主表面和第二主表面，第二主表面具有包括多個(gè)微結(jié)構(gòu)的糙面表面，第二光學(xué)膜具有第三主表面和第四主表面，第二光學(xué)膜的第三主表面與第一光學(xué)膜的糙面表面相鄰，其中第一光學(xué)膜與第二光學(xué)膜之間的摩擦系數(shù)小于約1。另一個(gè)實(shí)施例涉及具有第一主表面和第二主表面的偏振層。棱柱層設(shè)置在第一主表面上。糙面層設(shè)置在第二主表面上，糙面層包括多個(gè)具有傾斜度分布的微結(jié)構(gòu)，其中傾斜度分布的HWHM不大于約6至約度，糙面層在與平滑表面相鄰時(shí)，可使光學(xué)膜與平滑表面之間的摩擦系數(shù)小于約1。另一個(gè)實(shí)施例涉及具有偏振層的光學(xué)膜，其中偏振層具有第一主表面和第二主表面。棱柱層設(shè)置在第一主表面上，糙面層設(shè)置在第二主表面上，糙面層具有多個(gè)微結(jié)構(gòu)，其中糙面層與平滑表面之間的摩擦系數(shù)小于約1。另一個(gè)實(shí)施例涉及光學(xué)膜疊堆。第一光學(xué)膜具有第一主表面和第二主表面，第二主表面具有多個(gè)微結(jié)構(gòu)。第二光學(xué)膜具有第三主表面和第四主表面，第二光學(xué)膜的第三主表面朝向第一光學(xué)膜的第二主表面，其中光學(xué)膜疊堆的翹曲程度小于沒有多個(gè)微結(jié)構(gòu)的相同光學(xué)膜疊堆。另一個(gè)實(shí)施例涉及包括光源和漫射體的背光源。第一光學(xué)膜包括具有第一主表面、第二主表面和多個(gè)邊緣的第一基層；設(shè)置在第一基層的第一主表面上的第一棱柱層；設(shè)置在第一基層的第二主表面上的第一糙面層，其中糙面層具有微結(jié)構(gòu)。第二光學(xué)膜包括具有第一主表面和第二主表面的第二基層，以及設(shè)置在第二基層的第一主表面上的第二棱柱層，第二光學(xué)膜的棱柱層朝向第一糙面層，第二基層的第二主表面朝向漫射體，其中第一光學(xué)膜被約束在邊緣處，第一光學(xué)膜與第二光學(xué)膜之間的摩擦系數(shù)小于1。


圖1為包括具有糙面表面的光學(xué)膜的光學(xué)膜疊堆的示意性側(cè)視圖；圖2A為包括頂部光學(xué)膜和底部光學(xué)膜的光學(xué)膜疊堆的示意性側(cè)視圖，其中頂部光學(xué)膜具有微結(jié)構(gòu)化的頂面和糙面底面；圖2B為包括正交棱柱膜的光學(xué)膜疊堆，其中頂部膜具有糙面表面；圖3為頂部具有棱柱層并且底部具有糙面表面的光學(xué)膜；圖4為切削工具系統(tǒng)400的示意性側(cè)視圖，所述切削工具系統(tǒng)400可用于制造具有可被微復(fù)制以產(chǎn)生微結(jié)構(gòu)的圖案的工具。圖5A-5D為切割器，其可用于制備根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的微結(jié)構(gòu)；圖6-8為可用結(jié)合圖4所述的方法加工而成的糙面表面圖案的顯微圖；圖9A-9B示出了被構(gòu)造用于制備根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的糙面表面的系統(tǒng)；圖10A-10B為用圖9A-9B中所述的方法加工而成的微結(jié)構(gòu)化表面的顯微圖；圖11為微結(jié)構(gòu)的側(cè)視圖；圖12-13為光學(xué)膜的側(cè)視圖；圖14為計(jì)算的光學(xué)霧度對(duì)表面分率“f”的曲線圖；圖15為計(jì)算的光學(xué)清晰度對(duì)表面分率“f”的曲線圖；圖16為微結(jié)構(gòu)化表面的AFM表面輪廓；圖17A-17B為圖16的微結(jié)構(gòu)化表面沿兩個(gè)相互正交方向的橫截面輪廓；圖18為圖16的微結(jié)構(gòu)化表面的傾斜度分布百分比圖；圖19為圖16的微結(jié)構(gòu)化表面的高度分布圖；圖20為圖16的微結(jié)構(gòu)化表面的傾斜度大小分布百分比圖；圖21為圖16的微結(jié)構(gòu)化表面的累計(jì)傾斜度分布百分比圖；圖22為多個(gè)微結(jié)構(gòu)化表面的累計(jì)傾斜度分布百分比圖；圖23為用于測(cè)定有效透射率的光學(xué)系統(tǒng)的示意性側(cè)視圖；圖M為用于視覺翹曲測(cè)試的測(cè)試裝置的示意性側(cè)視圖；圖25A-25B分別為用于測(cè)定翹曲云紋(Mura)得分的測(cè)試構(gòu)造的側(cè)視圖和俯視圖；圖沈?yàn)橐曈X翹曲得分對(duì)COF的曲線圖；圖27為翹曲“云紋得分”對(duì)COF的曲線4
圖觀-四為多個(gè)光學(xué)膜的翹曲“云紋得分”的統(tǒng)計(jì)圖；圖30示出了表1中所列的選擇的樣品的微復(fù)制型糙面表面的表面特性；圖31示出了從表4中所選擇的樣品的用正面輥法制備的糙面表面的表面特性。圖32為顯示系統(tǒng)的示意圖。
具體實(shí)施例方式光學(xué)膜用于(例如)通過使光偏振和/或?qū)膺M(jìn)行重定向并且同時(shí)遮蔽和/或消除物理缺陷和/或光學(xué)缺陷來調(diào)節(jié)從光源發(fā)出的光。物理缺陷可以包括翹曲和刮傷，光學(xué)缺陷可以包括(例如)光耦合、波紋和彩色云紋。然而，通常需要較薄的顯示器，特別是當(dāng)薄膜布置成光學(xué)膜疊堆時(shí)，膜和/或膜疊堆容易翹曲。已發(fā)現(xiàn)，相鄰薄膜之間的糙面表面可降低膜之間的摩擦系數(shù)(COF)并可減輕翹曲。本文所述的糙面表面還提供用以保持亮度的足夠低的光學(xué)霧度和用以實(shí)現(xiàn)缺陷遮蔽的足夠低的光學(xué)清晰度。本文所述的糙面表面可以結(jié)合偏振層、棱柱層、漫射體和/或其他光學(xué)結(jié)構(gòu)或?qū)邮褂谩D1為包括具有糙面表面121的光學(xué)膜120的光學(xué)膜疊堆100的示意性側(cè)視圖。光學(xué)膜疊堆100中的光學(xué)膜110、120被布置成使得糙面表面121介于疊堆100中的兩個(gè)光學(xué)膜110、120之間。糙面表面121具有以下詳述的多個(gè)微結(jié)構(gòu)160。光學(xué)膜110包括第一主表面111和與第一主表面111相對(duì)的第二主表面112。光學(xué)膜120包括作為糙面表面的第一主表面121和與第一主表面121相對(duì)的第二主表面122。糙面表面121與光學(xué)膜疊堆100中的光學(xué)膜110的第二主表面112相鄰。糙面表面121的微結(jié)構(gòu)160可以被構(gòu)造用于獲得本文所述的摩擦系數(shù)(COF)、抗翹曲性質(zhì)、傾斜度分布、傾斜度大小、霧度和/或清晰度性質(zhì)。圖1中只有光學(xué)膜120顯示有糙面表面121，但在某些實(shí)施方式中，光學(xué)膜110也可以包括糙面底面。光學(xué)膜110、120可以是多層膜。圖2A為包括光重定向膜220的光學(xué)膜疊堆200的示意性側(cè)視圖。光重定向膜220包括第一主表面221和相對(duì)的第二主表面222，其中第一主表面221為具有微結(jié)構(gòu)160的糙面表面。第二主表面222包括多個(gè)光定向微結(jié)構(gòu)沈0，例如圖2A中所示的線性棱柱。光學(xué)膜疊堆包括光學(xué)膜110，如結(jié)合圖1所述。光學(xué)疊堆200被布置為使得光重定向膜220的糙面表面(即第一主表面221)位置鄰近光學(xué)膜疊堆200中的光學(xué)膜110的第二主表面112。糙面表面221的微結(jié)構(gòu)160可以被構(gòu)造用于獲得本文所述的摩擦系數(shù)(COF)、抗翹曲性質(zhì)、傾斜度分布、傾斜度大小、霧度和/或清晰度性質(zhì)。在一些應(yīng)用中，可以將光學(xué)膜220、110制成多層結(jié)構(gòu)。例如，可以將光學(xué)膜220制成棱柱層和/或設(shè)置在基層上的糙面層。這些層中的一者或多者(如基層)可以包括多個(gè)層。在一些應(yīng)用中，有利的是光學(xué)疊堆中包括兩個(gè)光重定向膜。每個(gè)光重定向膜可以包括線性棱柱，其中膜被布置成使得其中一個(gè)膜的棱柱的方向相對(duì)于另一個(gè)膜的線性棱柱的方向成一角度。在圖2B中示出了這種布置方式。圖2B示出了正交的棱柱膜230J40。膜230的線性棱柱270的方向相對(duì)于膜240的線性棱柱280的方向成90度或其他角度。膜230包括第一主表面231和相對(duì)的第二主表面232，第二主表面232包括微結(jié)構(gòu)，例如圖2B中所示的線性棱柱270。膜230的底部主表面231也可以具有包括與表面241相似的微結(jié)構(gòu)的糙面表面。光重定向膜240與圖2A中所示的膜220相似。膜240包括第一主表面Ml。表面241包括微結(jié)構(gòu)160。相對(duì)的第二主表面242包括如圖2B中所示的線性棱柱280的微結(jié)構(gòu)。作為糙面表面的第一主表面241被布置成與光學(xué)膜疊堆201中的光學(xué)膜230的第二主表面232相鄰。糙面表面Ml的微結(jié)構(gòu)160可以被構(gòu)造用于獲得本文所述的摩擦系數(shù)(COF)、抗翹曲性質(zhì)、傾斜度分布、傾斜度大小、霧度和/或清晰度性質(zhì)。在一些應(yīng)用中，可以將光學(xué)膜230,240制成多層結(jié)構(gòu)。例如，可以將光學(xué)膜230、230中的任一者或兩者制成棱柱層和/或設(shè)置在基層上的糙面層。這些層中的一者或多者(如基層)可以包括多個(gè)層。在一些情況下，例如當(dāng)光學(xué)疊堆201包括在液晶顯示器的背光源中時(shí)，線性微結(jié)構(gòu)280和/或270可產(chǎn)生波紋。在一些情況下，兩個(gè)光重定向膜并且具體地講頂部光重定向膜可產(chǎn)生彩色云紋。彩色云紋起因于光重定向膜的折射率色散。第一級(jí)彩色云紋通常在靠近光重定向膜的視角極限處可見，而較高級(jí)的彩色云紋通常在較大角處可見。在一些情況下，例如當(dāng)主表面241和231具有足夠低的光學(xué)霧度和清晰度時(shí)，光學(xué)疊堆可在未顯著降低顯示器亮度的情況下有效地遮蔽或消除波紋和彩色云紋。在這種情況下，主表面Ml、231中的每一者均具有不大于約5%、或不大于約4.5%、或不大于約4%、或不大于約3.5%、或不大于約3 %、或不大于約2. 5 %、或不大于約2 %、或不大于約1. 5 %、或不大于約的光學(xué)霧度；并且主表面對(duì)1、231中的每一者均具有不大于約85%、或不大于約80%、或不大于約75%、或不大于約70%、或不大于約65%、或不大于約60%的光學(xué)清晰度。在一些情況下，例如當(dāng)光學(xué)疊堆201用于顯示系統(tǒng)中以增加亮度時(shí)，光學(xué)疊堆的平均有效透射率(ETA)不小于約2. 4、或不小于約2. 45、或不小于約2. 5、或不小于約2. 55、或不小于約2. 6、或不小于約2. 65、或不小于約2. 7、或不小于約2. 75、或不小于約2. 8。在一些情況下，表面231和241都是糙面表面，光學(xué)疊堆201的平均有效透射率比具有相同構(gòu)造(包括材料組成)但包括平滑的底部主表面的光學(xué)疊堆低不到約1%、或約0. 75%、或約0. 5%、或約0. 25%、或約0. 1%。在一些情況下，底部主表面231和241都具有糙面表面，光學(xué)疊堆201的平均有效透射率不比具有相同構(gòu)造但包括平滑的底部主表面的光學(xué)疊堆低。在一些情況下，底部主表面241和231都具有糙面表面，光學(xué)疊堆201的平均有效透射率比具有相同構(gòu)造但包括平滑的底部主表面的光學(xué)疊堆高至少約0. 1%、或約0. 2%、或約0. 3%。例如，制備與具有表面Ml、231的光學(xué)疊堆201類似的光學(xué)疊堆，其中表面Ml、231包括具有微結(jié)構(gòu)的糙面表面，該光學(xué)疊堆具有約2. 773的平均有效透射率。各個(gè)主表面231、241中的每一者具有約1.5%的光學(xué)霧度和約83%的光學(xué)清晰度。線性棱柱具有約1. 65的折射率。相比之下，具有相同構(gòu)造但包括平滑主表面的類似光學(xué)疊堆具有約2. 763的平均有效透射率。因此，結(jié)構(gòu)化的底部主表面231、241通過將平均有效透射率提高約0. 36%來提供額外增益。又如，制備與具有糙面底部主表面241、231的光學(xué)疊堆201類似的光學(xué)疊堆，它具有約2. 556的平均有效透射率。各個(gè)主表面241、231中的每一者具有約1.的光學(xué)霧度和約86. 4%的光學(xué)清晰度。線性棱柱具有約M微米的間距、約90度的頂角和約1.567的折射率。相比之下，具有相同構(gòu)造但包括平滑底部主表面的類似光學(xué)疊堆具有約2. 552的平均有效透射率。因此，結(jié)構(gòu)化的底部主表面241、231通過將平均有效透射率提高約0. 16%來提供額外增益。再如，制備與具有糙面底部主表面Ml、231的光學(xué)疊堆201類似的光學(xué)疊堆，它具有約2. 415的平均有效透射率。各個(gè)底部主表面Ml、231中的每一者具有約1. 32%的光學(xué)霧度和約84. 8%的光學(xué)清晰度。線性棱柱具有約M微米的間距、約90度的頂角和約1.567的折射率。相比之下，具有相同構(gòu)造但包括平滑底部主表面的類似光學(xué)疊堆具有約2. 404的平均有效透射率。因此，結(jié)構(gòu)化的底部主表面241、231通過將平均有效透射率提高約0. 46%來提供額外增益。圖3為光學(xué)膜300的示意性側(cè)視圖。示例性的光學(xué)膜300包括三個(gè)層330、370和340。通常，光學(xué)膜300可以具有一個(gè)或多個(gè)層。例如，在一些情況下，光學(xué)膜可具有包括相應(yīng)的第一主表面310和第二主表面320的單個(gè)層。又如，在一些情況下，光學(xué)膜可具有多個(gè)層。例如，在這種情況下，基層370可具有多個(gè)層。光學(xué)膜300的總厚度可以低至約40微米或35微米，或甚至低至30微米，其中棱柱層330的厚度低至12微米或8微米，基層370的厚度低至30微米或25微米或20微米，糙面層的厚度低至5微米或3微米或小于約2微米。膜300包括第一主表面310，所述第一主表面310包括沿y方向延伸的多個(gè)微結(jié)構(gòu)350。膜300還包括第二主表面320，所述第二主表面320與第一主表面310相對(duì)并包括多個(gè)微結(jié)構(gòu)360。膜300還包括基層370，所述基層370設(shè)置在相應(yīng)的第一主表面310和第二主表面320之間并且包括第一主表面372和相對(duì)的第二主表面374。膜300還包括棱柱層330和糙面層340，所述棱柱層330設(shè)置在基層370的第一主表面372上并包括膜的第一主表面310，所述糙面層340設(shè)置在基層370的第二主表面374上并包括膜300的第二主表面320。糙面層340具有與主表面320相對(duì)的主表面342。微結(jié)構(gòu)350主要被設(shè)計(jì)為沿所需方向(例如沿正ζ方向)來重定向入射到光學(xué)膜300的主表面320上的光。在示例性的光學(xué)膜300中，微結(jié)構(gòu)350為棱柱線性結(jié)構(gòu)。一般來講，微結(jié)構(gòu)350可以是能夠通過(例如)折射入射光的一部分并循環(huán)利用入射光的不同部分來重定向光的任何類型的微結(jié)構(gòu)。例如，微結(jié)構(gòu)350的橫截面輪廓可為或可包括彎曲和/或分段的線性部分。例如，在一些情況下，微結(jié)構(gòu)350可為沿y方向延伸的線性圓柱透鏡。每個(gè)線性棱柱微結(jié)構(gòu)350均包括頂角152和從公共基準(zhǔn)面372測(cè)得的高度154。在一些情況下，例如當(dāng)希望減少光學(xué)耦合或光耦合并且/或者改善光重定向膜的耐久性時(shí)，棱柱微結(jié)構(gòu)150的高度可沿y方向變化。例如，棱柱線性微結(jié)構(gòu)151的棱柱高度沿y方向變化。在這種情況下，棱柱微結(jié)構(gòu)151具有沿y方向變化的局部高度、最大高度155、和平均高度。在一些情況下，棱柱線性微結(jié)構(gòu)(例如線性微結(jié)構(gòu)153)沿y方向具有恒定的高度。在這種情況下，微結(jié)構(gòu)具有等于最大高度和平均高度的恒定局部高度。在一些情況下，例如當(dāng)希望減少光學(xué)耦合或光耦合時(shí)，線性微結(jié)構(gòu)中的一些為較短的并且線性微結(jié)構(gòu)中的一些為較高的。例如，線性微結(jié)構(gòu)153的高度156低于線性微結(jié)構(gòu)157的高度158。頂角或二面角152可具有可在應(yīng)用中需要的任何值。例如，在一些情況下，頂角152可在約70度至約110度、或約80度至約100度、或約85度至約95度的范圍內(nèi)。在一些情況下，微結(jié)構(gòu)150具有可(例如)在約88或89度至約92或91度范圍內(nèi)(例如90度)的相等頂角。棱柱層330可具有可在應(yīng)用中需要的任何折射率。例如，在一些情況下，棱柱層的折射率在約1.4至約1.8、或者約1.5至約1.8、或者約1.5至約1.7的范圍內(nèi)。在一些情況下，棱柱層的折射率不小于約1. 5、或不小于約1. 55、或不小于約1. 6、或不小于約1. 65、或不小于約1. 7?；鶎?70可為或包括可適于應(yīng)用的任何材料，例如電介質(zhì)、半導(dǎo)體、或金屬。例如，基層370可包括玻璃和聚合物(例如聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚碳酸酯和丙烯酸類樹脂)，或由其制成。基層370可以是剛性或柔性的?；鶎?70可具有應(yīng)用中需要的任何厚度和/或折射率。例如，在一些情況下，基層370可為PET并且具有約23微米或約50微米或約175微米的厚度?；鶎?70可以包括光偏振層，例如反射型偏振器。顯示光源通常產(chǎn)生非偏振光，該非偏振光在被導(dǎo)向液晶(LC)矩陣之前被偏振。吸收型偏振器通過只傳輸一種偏振態(tài)并吸收另一種偏振態(tài)的光使導(dǎo)向LC矩陣的光偏振。然而，可以用反射型偏振器反射會(huì)以其他方式吸收的光，所以這種光可以循環(huán)使用。反射型偏振器所反射的光中的至少一部分可以被消偏振，并且隨后以通過反射型偏振器傳輸至LC層的偏振態(tài)返回至反射型偏振器。這樣，反射偏振器可用于增加光源發(fā)出的光中到達(dá)LC矩陣的部分?？梢允褂萌魏魏线m類型的反射偏振器，例如，多層光學(xué)薄膜(MOF)反射偏振器；漫反射偏振膜(DRPF)，如連續(xù)相/分散相偏振器或膽留型反射偏振器。MOF反射型偏振器、膽留型反射偏振器以及連續(xù)相/分散相反射型偏振器均依靠改變薄膜(通常為聚合物薄膜)內(nèi)的折射率分布來選擇性反射一種偏振狀態(tài)的光，而透射正交偏振狀態(tài)內(nèi)的光。MOF反射型偏振器的一些例子在美國(guó)專利No. 5，882，774中有所描述，該專利以引用的方式并入本文。市售的MOF反射型偏振器的例子包括具有漫射表面的Vikuiti DBEF-II和DBEF-D400、BEF-RP多層反射偏振器，它們均可得自3M公司(St. Paul,Minn.)。美國(guó)專利No. 5，882，774中所述的循環(huán)反射型偏振器為多層光學(xué)偏振膜，其中組成膜的交替的層具有基本匹配的沿著垂直于膜方向的折射率，以使得對(duì)于P偏振光在膜中任何給定界面的反射率基本上是取決于入射角的常數(shù)。在一些情況下，例如當(dāng)光重定向膜300用于液晶顯示系統(tǒng)中時(shí)，光學(xué)膜300的棱柱層330可提高或改善顯示器的亮度。在這種情況下，膜300具有大于1的有效透射率或相對(duì)增益。如本文所用，有效透射率為其中存在就位膜的顯示系統(tǒng)的亮度與其中不存在就位膜的顯示器的亮度的比率。下文結(jié)合圖23描述了平均有效透射率(ETA)的測(cè)量。當(dāng)膜300作為可提高亮度的增亮薄膜用于顯示系統(tǒng)中并且線性棱柱具有大于約1.6的折射率時(shí)，膜的ETA不小于約1. 5、或不小于約1. 55、或不小于約1. 6、或不小于約1. 65、或不小于約1. 7、或不小于約1. 75、或不小于約1. 8、或不小于約1. 85。當(dāng)膜用作反射型偏振器并用于增強(qiáng)亮度時(shí)，膜的ETA不小于2，或不小于2. 2，或不小于2. 5。層340包括提供糙面表面的微結(jié)構(gòu)360。糙面層340可降低光學(xué)膜疊堆中的光學(xué)膜300與相鄰層之間的摩擦系數(shù)(COF)。降低薄層之間的COF可允許兩個(gè)相鄰的層相對(duì)于彼此移動(dòng)，而不會(huì)(例如)在由于溫度和/或濕度變化而使層膨脹和/或收縮時(shí)發(fā)生粘結(jié)。根據(jù)本文所公開的實(shí)施例的糙面層可被設(shè)計(jì)為通過將相鄰層之間的COF降至小于約1、或小于約0. 8、或小于約0. 6提供增大的翹曲特性，同時(shí)還提供所需的霧度、清晰度和/或ETA特性。當(dāng)在平滑表面上測(cè)試本文所述的糙面表面時(shí)，與兩個(gè)平滑表面之間的COF相比，該COF有所降低。
糙面層340中的微結(jié)構(gòu)360還可以隱藏不良的物理缺陷(例如刮痕)和/或光學(xué)缺陷(例如，顯示器或照射系統(tǒng)中的燈發(fā)出的不良亮點(diǎn)或“熱”點(diǎn))，同時(shí)對(duì)光重定向膜重定向光和增強(qiáng)亮度的能力沒有或只有極小的不利影響。在這種情況下，第二主表面320具有不大于約5%、或不大于約4.5%、或不大于約4%、或不大于約3.5%、或不大于約3%、或不大于約2.5%、或不大于約2%、或不大于約1.5%、或不大于約的光學(xué)霧度；以及不大于約85%、或不大于約80%、或不大于約75%、或不大于約70%、或不大于約65%、或不大于約60%的光學(xué)清晰度。如本文所用，光學(xué)霧度被定義為偏離法向大于4度的透射光與總透射光的比率。本文所公開的霧度值是使用Haze-Gard Plus霧度計(jì)(得自BKardiner (SilverSpringS，Md.))，按照ASTM D1003中所述的工序測(cè)定的。如本文所用，光學(xué)清晰度是指比率(T1-T2) / (T^T2)，其中Tl為偏離法向1. 6至2度的透射光，T2為與法向?yàn)?至0. 7度的透射光。本文所公開的清晰度值是使用得自BI-Gardiner的Haze-Gard Plus霧度計(jì)測(cè)得的。微結(jié)構(gòu)360可以是應(yīng)用中需要的任何類型的微結(jié)構(gòu)。例如，微結(jié)構(gòu)360可以形成規(guī)則圖案、不規(guī)則圖案、隨機(jī)圖案或看起來為隨機(jī)的偽隨機(jī)圖案。微結(jié)構(gòu)360可以用任何合適的制造方法制備。例如，可以通過在基層370上涂布物質(zhì)形成具有微結(jié)構(gòu)360的糙面層340。涂層物質(zhì)可以包括可形成微結(jié)構(gòu)的顆粒。涂布方法包括模具涂布法、浸涂、輥涂、擠壓涂布、擠壓復(fù)制和/或其他涂布方法?？梢允褂玫米怨ぞ叩奈?fù)制來制備微結(jié)構(gòu)360，其中所述工具可利用任何可用的制備方法(例如通過使用雕刻或金剛石車削)進(jìn)行制備。示例性的金剛石車削系統(tǒng)和方法可包括并且利用描述于(例如)PCT已公布的專利申請(qǐng)?zhí)朩O 00/48037以及美國(guó)專利No. 7，350，442和No. 7，328，638中的快速刀具伺服機(jī)構(gòu)(FST)，上述專利的公開內(nèi)容以全文引用的方式并入本文。糙面表面的COF可取決于形成糙面表面的結(jié)構(gòu)的幾何形狀并可取決于玻璃化轉(zhuǎn)變溫度Tg。要獲得小于1的COF值，所選擇的用于形成糙面表面的材料可以具有小于約100°C、或小于約90°C、或小于約80°C、或小于約70°C的Tg。可以用本文所述的正面輥方法形成糙面表面，如以引用方式并入本文中的2009/00290M進(jìn)一步描述的。如此前所述，糙面表面的COF取決于形成糙面表面的結(jié)構(gòu)的幾何形狀和轉(zhuǎn)變溫度Tg。在基部涂料樹脂中添加表面活性劑可以對(duì)涂層的表面化學(xué)進(jìn)行改性，并且還可以提高用正面輥法制備的膜的C0F。圖4為切削工具系統(tǒng)400的示意性側(cè)視圖，該工具系統(tǒng)可用于制造具有可通過微復(fù)制形成微結(jié)構(gòu)360的圖案的工具。切削工具系統(tǒng)400采用螺紋切削車床車削工藝，并包括可通過驅(qū)動(dòng)器430圍繞中心軸420旋轉(zhuǎn)和/或沿中心軸420移動(dòng)的輥410，以及用于切削輥材料的切削器440。切削器安裝在伺服機(jī)構(gòu)450上，并且可通過驅(qū)動(dòng)器460沿χ方向移動(dòng)至輥內(nèi)和/或沿輥移動(dòng)。通常，切削器440垂直于輥和中心軸420安裝，并且在輥圍繞中心軸旋轉(zhuǎn)的同時(shí)被驅(qū)動(dòng)到輥410的可雕刻材料內(nèi)。然后平行于中心軸驅(qū)動(dòng)切削器以產(chǎn)生螺紋切削?？赏瑫r(shí)以高頻率和低位移來致動(dòng)切削器440以在輥中產(chǎn)生復(fù)制時(shí)得到微結(jié)構(gòu)360的特征。伺服機(jī)構(gòu)450為快速刀具伺服機(jī)構(gòu)(FTS)，并且包括可快速調(diào)節(jié)切削器440位置的固態(tài)壓電(PZT)裝置(通常稱為PZT疊堆)。FTS 450允許切削器440在x、y和/或ζ方向上，或在偏軸方向上的高精度和高速移動(dòng)。伺服機(jī)構(gòu)450可以是能夠相對(duì)靜止位置產(chǎn)生受控移動(dòng)的任何高品質(zhì)位移伺服機(jī)構(gòu)。在一些情況下，伺服機(jī)構(gòu)450可牢靠地且可重復(fù)地提供分辨率為約0. 1微米或更好的0至約20微米范圍內(nèi)的位移。驅(qū)動(dòng)器460可沿平行于中心軸420的χ方向移動(dòng)切削器440。在一些情況下，驅(qū)動(dòng)器1060的位移分辨率優(yōu)于約0. 1微米，或優(yōu)于約0. 01微米。驅(qū)動(dòng)器430產(chǎn)生的旋轉(zhuǎn)移動(dòng)與驅(qū)動(dòng)器460產(chǎn)生的平移移動(dòng)同步進(jìn)行，以便精確地控制微結(jié)構(gòu)360的所得形狀。輥410的可雕刻材料可以是能夠通過切削器440進(jìn)行雕刻的任何材料。示例性的輥材料包括金屬(如銅)、各種聚合物和各種玻璃材料。切削器440可為任何類型的切削器，并且可具有可在應(yīng)用中需要的任何形狀。例如，圖5Α為切削器510的示意性側(cè)視圖，所述切削器510具有半徑為“R”的弧形切削刀頭515。在一些情況下，切削刀頭515的半徑R為至少約100微米、或至少約150微米、或至少約200微米、或至少約300微米、或至少約400微米、或至少約500微米、或至少約1000微米、或至少約1500微米、或至少約2000微米、或至少約2500微米、或至少約3000微米。又如，圖5Β為切削器520的示意性側(cè)視圖，所述切削器520具有頂角β的V形切削刀頭525。在一些情況下，切削刀頭525的頂角β為至少約100度、或至少約110度、或至少約120度、或至少約130度、或至少約140度、或至少約150度、或至少約160度、或至少約170度。作為其他例子，圖5C為具有分段線性切削刀頭535的切削器530的示意性側(cè)視圖，并且圖5D為具有彎曲切削刀頭Μ5的切削器MO的示意性側(cè)視圖。重新參考圖4，當(dāng)切削輥材料時(shí)，輥410沿中心軸420的旋轉(zhuǎn)以及切削器440沿χ方向的移動(dòng)限定圍繞輥的沿中心軸具有間距P1的螺紋路徑。當(dāng)切削器沿垂直于輥表面的方向移動(dòng)以切削輥材料時(shí)，由切削器切削的材料的寬度隨切削器移入和移出或者切入和切出而變化。參見(例如)圖5Α，切削器的最大穿透深度對(duì)應(yīng)于切削器切削的最大寬度Ρ2?？梢杂门c結(jié)合圖4所述的方法相似的方法制備光學(xué)膜300的棱柱層330?？梢灾苽鋯为?dú)的工具，即糙面工具和棱柱工具，以便分別制備糙面層340和棱柱層330。工具制好之后，可以用糙面工具和棱柱工具形成用基層370做基底的光學(xué)膜。在第一回程，可以通過用糙面工具形成糙面層340來形成基層370的主表面374。在第二回程，可以用棱柱工具形成基層370的相對(duì)的主表面342。圖6-8為可用結(jié)合圖4所述的方法制成的糙面表面圖案的顯微圖。圖6A-6C為樣品在三個(gè)不同放大率下的俯視掃描電子顯微圖(SEM)。圖6A-6C的樣品是用類似于切削器520的切削器制成的，其中切削刀頭525的頂角為約176度。樣品為幾何對(duì)稱的。利用共焦顯微鏡法測(cè)定微結(jié)構(gòu)的平均高度為約2. 67微米。圖7A-7C為樣品在三個(gè)不同放大率下的俯視SEM。樣品是用類似于切削器510的切削器制成的，其中切削刀頭515的半徑為約480微米。樣品為幾何對(duì)稱的。利用共焦顯微鏡法測(cè)定微結(jié)構(gòu)的平均高度為約2. 56微米。圖8A-8C為樣品在三個(gè)不同放大率下的俯視SEM。樣品是用類似于切削器510的切削器制成的，其中切削刀頭515的半徑為約3300微米。樣品為幾何不對(duì)稱的。利用共焦顯微鏡法測(cè)定微結(jié)構(gòu)的平均高度為約1. 46微米。用于形成糙面層340的可供選擇的方法不涉及圖案化工具。一種此類方法的例子在共同擁有的美國(guó)專利公布2009/00290Μ中有所描述，該專利此前以引用方式并入本文中。在該方法中，通過處理涂覆在基底上的材料使可涂覆型材料的粘度從第一或初始粘度變?yōu)榈诙扯??？赏扛残筒牧系恼扯茸優(yōu)榈诙扯群?，?duì)材料施加正面壓力，以便在其上形成糙面精整層。通過糙面精整，可以任選地使可涂覆型材料進(jìn)一步硬化、固化或凝固。圖9A為能夠制備糙面層340的系統(tǒng)的示意圖。將未涂布的基底922 (如基層370)在未涂布狀態(tài)下輸送至第一工位924，但至少一個(gè)表面上可以涂覆底漆。用支撐輥擬6和空轉(zhuǎn)輥932將基底移至第一工位924。在工位擬4處，用涂布機(jī)構(gòu)擬8將可涂覆型材料沉積到未涂布基底922上，形成被涂覆基底930。在圖9A所示的實(shí)施例中，示出的基底922為連續(xù)或未切材料。在其他實(shí)施例中，提供的基底可以是不連續(xù)的形式或單個(gè)的小片(如進(jìn)行預(yù)切或預(yù)制，以適合具體的應(yīng)用)。用涂布機(jī)構(gòu)擬6進(jìn)行沉積時(shí)，可涂覆型材料可以具有低于第二粘度的初始粘度。或者，可涂覆型材料可以具有高于第二粘度的初始粘度。在本發(fā)明的實(shí)施例中，在最初涂覆到基底上時(shí)，可涂覆型材料通常是液體或凝膠狀的，并可流動(dòng)或可散開，以便在基底922的主表面上形成液體或凝膠狀膜材料?？赏扛残筒牧峡梢园辽僖环N固化性組分。在一些實(shí)施例中，可涂覆型材料包括至少一種溶劑，并且可涂覆型材料可直接施加到基底922上。在其他實(shí)施例中，可涂覆型材料可以是無溶劑的(如100%固體)，可以將可涂覆型材料施加到輥上，然后轉(zhuǎn)移到基底922上。第二工位934提供用于改變可涂覆型材料粘度的裝置。在所述的實(shí)施例中，第二工位934可提高可涂覆型材料的粘度。在可涂覆型材料包含至少一種溶劑的實(shí)施例中，可以將可涂覆型材料暴露于熱源(如烘箱)、加熱元件等，使可涂覆型材料經(jīng)受足夠的高溫，以蒸發(fā)溶劑和/或部分固化可涂覆型材料中的至少一種組分。在第二工位934時(shí)，可涂覆型材料的粘度升至第二粘度或更高的粘度，以便使可涂覆型材料充分硬化、干燥和/或固化，從而使其可耐受如本文所述的進(jìn)一步加工。第二工位934的精確溫度將部分地取決于可涂覆型材料的組成、可涂覆型材料離開第二工位934后的所需粘度，以及被涂覆基底在工位934的停留時(shí)間?；蛘?，在工位934處，可以(例如)通過施加熱量以軟化可涂覆型材料使可涂覆型材料的粘度從初始粘度降低，或者可以(例如)通過冷卻可涂覆型材料和/或通過部分固化可涂覆型材料使可涂覆型材料的粘度從初始粘度提高。在一些實(shí)施方式中，可涂覆型材料無需加熱或冷卻就可以獲得合格的第二粘度。對(duì)于某些可涂覆型材料而言，在環(huán)境條件下將被涂覆基底930暴露于空氣中就足以使可涂覆型材料固化或軟化，以便進(jìn)行如本文所述的進(jìn)一步加工。將基底930從第二工位9；34輸送至第三工位936，在這里基底930上的可涂覆型材料直接接觸一個(gè)或多個(gè)正面輥938。在圖9A所示的實(shí)施例中，正面輥包括三個(gè)輥938a、938b、938c。可以使用更多或更少的正面輥。使被涂覆基底930以足夠的張力保持在正面輥938周圍，以便在基底930上產(chǎn)生糙面精整層。糙面表面不是通過將正面輥表面上的圖案印刷到可涂覆型材料上形成的。相反，據(jù)信糙面表面是通過可涂覆型材料與正面輥的不顯眼表面的相互作用形成的。該方法示于圖9B中?？赏扛残筒牧?80具有足夠的粘性，可使可涂覆型材料的一部分粘附到正面輥938的表面上。在該方法中，此時(shí)可涂覆型材料980已經(jīng)受了第二工位934處的條件，這使得可涂覆型材料980具有粘性和流動(dòng)阻力，不會(huì)過度轉(zhuǎn)移至正面輥938的表面或在壓貼正面輥938時(shí)變形。然而，可涂覆型材料的最外層粘附到正面輥938上，然后將其從輥上釋放，從而在基底930上形成可通過放大觀察到細(xì)節(jié)的糙面表面982。不希望受任何理論的約束，在一些實(shí)施例中，最初可以將少量可涂覆型材料附著到正面輥938上。當(dāng)以與用正面輥拾取可涂覆型材料幾乎相同的速率將可涂覆型材料從正面輥938上連續(xù)釋放時(shí)，通?？色@得穩(wěn)態(tài)條件。換句話講，被涂覆基底930的進(jìn)入段包括接觸正面輥的可涂覆型材料，其中正面輥已用來自被涂覆基底上游段的相同可涂覆型材料預(yù)濕。當(dāng)可涂覆型材料的所述段接觸正面輥時(shí)，它會(huì)拾取一些已沉積在輥上的可涂覆型材料。當(dāng)被涂覆基底的同一段脫離正面輥時(shí)，被涂覆基底上的可涂覆型材料的表面層的一部分分離，從而使一些可涂覆型材料保留在正面輥上，同時(shí)保留在基底上的可涂覆型材料的凈量平均等于進(jìn)入正面輥的可涂覆型材料的量。被涂覆基底930離開第三工位936，其表面具有由正面輥938提供的糙面表面精整層。可以用任選的第四工位940進(jìn)一步硬化或固化可涂覆型材料。第四工位940是任選的，因?yàn)榭赏扛残筒牧峡蔁o需進(jìn)行此類處理?？梢栽谛纬刹诿姹砻嬷盎蛑笤诨鶎由衔?fù)制棱柱膜。圖IOA和IOB為用結(jié)合圖9所述的正面輥方法制成的糙面表面的一部分的顯微圖。在該具體的膜中，糙面層在基底頂部具有約2微米的厚度。圖IOA的放大率為50X，圖IOB是放大率為125X的同一表面。圖11為可以(例如)用上文所述的方法形成的糙面層340(圖3)的一部分的示意性側(cè)視圖。具體地講，圖11示出了位于主表面320中并且面向主表面342的微結(jié)構(gòu)360。微結(jié)構(gòu)360具有在整個(gè)微結(jié)構(gòu)表面上的傾斜度分布。例如，微結(jié)構(gòu)在位置1110處具有傾斜度Θ，其中θ為在位置1110處垂直于微結(jié)構(gòu)表面的法線1120 (α =90度)與在相同位置處相切于微結(jié)構(gòu)表面的切線1530之間的角度。傾斜度θ也為切線1130和糙面層的主表面342之間的角度。利用類似于市售光線跟蹤程序(例如(如)TracePro (得自LambdaResearchCorp. (Littleton, MA)))的程序來計(jì)算糙面層340的光學(xué)霧度和清晰度。在實(shí)施計(jì)算中，假定各個(gè)微結(jié)構(gòu)均具有半峰半寬(HWHM)等于σ的高斯傾斜度分布。另外還假定糙面層具有等于1.5的折射率。計(jì)算結(jié)果示于圖14和15中。圖14為針對(duì)九種不同的ο值而言相對(duì)表面分率“f”的計(jì)算的光學(xué)霧度，其中f為主表面320中由微結(jié)構(gòu)360覆蓋的面積百分比。圖15為相對(duì)f的計(jì)算的光學(xué)清晰度。在一些情況下，例如當(dāng)微結(jié)構(gòu)360在未降低或極少降低亮度的情況下能有效隱藏物理和/或光學(xué)缺陷時(shí)，多個(gè)微結(jié)構(gòu)360覆蓋第二主表面320的至少約70%、或至少約75%、或至少約80%、或至少約85%、或至少約90%、或至少約95%。在一些情況下，例如當(dāng)微結(jié)構(gòu)具有高斯或正態(tài)傾斜度分布時(shí)，該分布的HWHMo不大于約4. 5度、或不大于約4度、或不大于約3. 5度、或不大于約3度、或不大于約2. 5度、或不大于約2度。在上文所公開的示例性計(jì)算中，假定微結(jié)構(gòu)360具有HWHM等于ο的高斯傾斜度分布。一般來講，微結(jié)構(gòu)可具有在應(yīng)用中需要的任何分布。例如，在一些情況下，例如當(dāng)微結(jié)構(gòu)為球形部分時(shí)，微結(jié)構(gòu)可具有介于兩個(gè)臨界角之間的均勻分布。其他示例性的傾斜度分布包括洛倫茲分布、拋物線分布，以及不同分布(例如高斯分布)的組合。例如，在一些情況下，微結(jié)構(gòu)可具有結(jié)合或合并第二高斯分布的第一高斯分布，其中第一高斯分布具有較小的HWHM Q1，第二高斯分布具有較大的HWHM σ 2。在一些情況下，微結(jié)構(gòu)可具有不對(duì)稱的傾斜度分布。在一些情況下，微結(jié)構(gòu)可具有對(duì)稱的分布。圖12為光學(xué)膜1200的示意性側(cè)視圖，所述光學(xué)膜1200包括設(shè)置在類似于基層370的基底1250上的糙面層1260。糙面層1260包括附接至基底1250的第一主表面1210、背對(duì)第一主表面的第二主表面1220、和分散于粘結(jié)劑1240中的多個(gè)顆粒1230。第二主表面1220包括多個(gè)微結(jié)構(gòu)1270。微結(jié)構(gòu)1270的相當(dāng)大一部分(例如至少約50%、或至少約60%、或至少約70%、或至少約80%、或至少約90% )設(shè)置在顆粒1230上并且主要因顆粒1230而形成。換句話講，顆粒1230為微結(jié)構(gòu)1270形成的主要原因。在這種情況下，顆粒1230具有大于約0. 25微米、或大于約0. 5微米、或大于約0. 75微米、或大于約1微米、或大于約1. 25微米、或大于約1. 5微米、或大于約1. 75微米、或大于約2微米的平均粒度。在一些情況下，糙面層340可類似于糙面層1260并且可包括多個(gè)顆粒，所述多個(gè)顆粒為第二主表面320中形成微結(jié)構(gòu)360的主要原因。顆粒1230可為可在應(yīng)用中需要的任何類型的顆粒。例如，顆粒1230可由聚甲基丙烯酸甲酯(ΡΜΜΑ)、聚苯乙烯(PS)、或可在應(yīng)用中需要的任何其他材料構(gòu)成。一般來講，顆粒1230的折射率不同于粘結(jié)劑1240的折射率，但在一些情況下，它們可具有相同的折射率。例如，顆粒1230的折射率可為約1. 35、或約1. 48、或約1. 49、或約1. 50，并且粘結(jié)劑1240的折射率可為約1. 48、或約1. 49、或約1. 50。在一些情況下，糙面層340不包括顆粒。在一些情況下，糙面層340包括顆粒，但顆粒并非為微結(jié)構(gòu)360形成的主要原因。例如，圖13為光學(xué)膜1300的示意性側(cè)視圖，所述光學(xué)膜1300包括設(shè)置在類似于基底370的基底1350上的類似于糙面層340的糙面層1360。糙面層1360包括附接至基底1350的第一主表面1310、背對(duì)第一主表面的第二主表面1320、和分散于粘結(jié)劑1340中的多個(gè)顆粒1330。第二主表面1370包括多個(gè)微結(jié)構(gòu)1370。盡管糙面層1360包括顆粒1330，但顆粒并非為微結(jié)構(gòu)1370形成的主要原因。例如，在一些情況下，顆粒遠(yuǎn)小于微結(jié)構(gòu)的平均尺寸。在這種情況下，可以通過(例如)微復(fù)制結(jié)構(gòu)化的工具或正面輥形成微結(jié)構(gòu)。在這種情況下，顆粒1330的平均粒度小于約0. 5微米、或小于約0. 4微米、或小于約0. 3微米、或小于約0. 2微米、或小于約0. 1微米。在這種情況下，微結(jié)構(gòu)970的相當(dāng)大一部分(例如至少約50%、或至少約60%、或至少約70%、或至少約80%、或至少約90% )未設(shè)置在平均粒度大于約0. 5微米、或大于約0. 75微米、或大于約1微米、或大于約1. 25微米、或大于約1. 5微米、或大于約1. 75微米、或大于約2微米的顆粒上。在一些情況下，微結(jié)構(gòu)1330的平均尺寸是顆粒1330的平均粒度的至少約2倍、或至少約3倍、或至少約4倍、或至少約5倍、或至少約6倍、或至少約7倍、或至少約8倍、或至少約9倍、或至少約10倍。在一些情況下，如果糙面層1360包括顆粒1330，則糙面層1360的平均厚度“t”比顆粒的平均粒度大至少約0. 5微米、或至少約1微米、或至少約1. 5微米、或至少約2微米、或至少約2. 5微米、或至少約3微米。在一些情況下，如果糙面層包括多個(gè)顆粒，則糙面層的平均厚度是顆粒的平均厚度的至少約2倍、或至少約3倍、或至少約4倍、或至少約5倍、或至少約6倍、或至少約7倍、或至少約8倍、或至少約9倍、或至少約10倍。再次參考圖3，在一些情況下，光重定向膜300在層的至少一些(例如棱柱層330、
13基層370或糙面層340)中具有小顆粒以用于提高層的折射率。例如，光重定向膜300中的一個(gè)或多個(gè)層可包括(例如)美國(guó)專利No. 7，074，463 (Jones等人)和美國(guó)專利公布No. 2006/02107 中的所述的無機(jī)納米粒子，例如二氧化硅或氧化鋯納米粒子。在一些情況下，光重定向膜300不包括平均粒度大于約2微米、或約1. 5微米、或約1微米、或約0. 75微米、或約0. 5微米、或約0. 25微米、或約0. 2微米、或約0. 15微米、或約0. 1微米的任何顆粒。用原子力顯微鏡(AFM)在約200微米X約200微米的區(qū)域上對(duì)多個(gè)樣品的表面進(jìn)行表征。圖16為一個(gè)此類樣品(標(biāo)記為樣品A)的示例性AFM表面輪廓。樣品具有約94. 9%的光學(xué)透射率、約1. 73%的光學(xué)霧度和約79. 5%的光學(xué)清晰度。圖17A和17B分別為樣品A沿著χ和y方向的示例性截面圖。圖18示出了樣品A沿χ和y方向的傾斜度分布百分比。沿相應(yīng)χ和y方向的傾斜度Sx和Sy是利用下述兩個(gè)表達(dá)式計(jì)算的Sx-^yysx⑴^=⑵其中H(x，y)為表面輪廓。傾斜度SjJPSy是利用0.5度的傾斜度面元(bin size)來計(jì)算的。如從圖18顯而易見的是，樣品A沿χ和y方向具有對(duì)稱的傾斜度分布。樣品A沿χ方向具有較寬的傾斜度分布并且沿y方向具有較窄的傾斜度分布。圖19示出了樣品A的整個(gè)分析表面上的高度分布百分比。如從圖19顯而易見的是，樣品相對(duì)于其峰值高度(為約4. 7微米)具有基本上對(duì)稱的高度分布。圖20示出了樣品A的傾斜度大小百分比，其中傾斜度大小Sm是利用下述表達(dá)式計(jì)算的
權(quán)利要求
1.一種光學(xué)膜疊堆，其包括第一光學(xué)膜，所述第一光學(xué)膜具有第一主表面和第二主表面，所述第二主表面具有包括多個(gè)微結(jié)構(gòu)的糙面表面；以及第二光學(xué)膜，所述第二光學(xué)膜具有第三主表面和第四主表面，所述第二光學(xué)膜的所述第三主表面與所述第一光學(xué)膜的所述糙面表面相鄰，其中所述第一光學(xué)膜與所述第二光學(xué)膜之間的摩擦系數(shù)小于約1。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜疊堆，其中所述第一光學(xué)膜的厚度小于約30微米。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜疊堆，其中所述第一光學(xué)膜的所述第一主表面具有沿著第一方向延伸的微結(jié)構(gòu)；以及所述第二光學(xué)膜的所述第三主表面具有沿著第二方向延伸的微結(jié)構(gòu)，所述第二方向與所述第一方向不同。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜疊堆，其中所述光學(xué)膜疊堆的平均有效透射率與具有相同構(gòu)造但沒有所述多個(gè)微結(jié)構(gòu)的光學(xué)膜疊堆相比不小于約5%。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜疊堆，其中所述微結(jié)構(gòu)具有傾斜度分布，以及所述傾斜度分布的HWHM不大于約6至約4度。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜疊堆，其中所述第三主表面具有線性棱柱。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜疊堆，其中所述糙面表面具有不大于約2.5%的光學(xué)霧度。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜疊堆，其中所述糙面表面具有不大于約70%的光學(xué)清晰度。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜疊堆，其中所述微結(jié)構(gòu)的大部分不是設(shè)置在平均粒度大于約0.5微米的顆粒上。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)膜疊堆，其中所述光學(xué)膜疊堆顯示的翹曲量小于沒有所述微結(jié)構(gòu)的相同光學(xué)膜疊堆顯示的翹曲量。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種光學(xué)膜疊堆，所述光學(xué)膜疊堆包括具有第一主表面和第二主表面的第一光學(xué)膜(220)。所述第二主表面(160)為具有多個(gè)微結(jié)構(gòu)(241)的糙面表面。所述光學(xué)膜疊堆包括具有第三主表面和第四主表面的第二光學(xué)膜(230)。所述第二光學(xué)膜的所述第三主表面與所述第一光學(xué)膜的所述糙面表面相鄰。所述第一光學(xué)膜的所述糙面表面與所述第二光學(xué)膜的所述第三主表面之間的摩擦系數(shù)小于約1。所述糙面表面提供的所述小于約1的摩擦系數(shù)可提高所述光學(xué)膜疊堆的所述翹曲性能。
文檔編號(hào)B32B33/00GK102596571SQ201080046770
公開日2012年7月18日 申請(qǐng)日期2010年10月22日 優(yōu)先權(quán)日2009年10月27日
發(fā)明者安東尼·H·巴爾比耶 申請(qǐng)人:3M創(chuàng)新有限公司