專利名稱：導(dǎo)電性層積體、等離子顯示器用的電磁波屏蔽膜及保護(hù)板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及導(dǎo)電性層積體、為了保護(hù)等離子顯示板(以下簡(jiǎn)稱PDP)本體而設(shè)置于PDP的觀察者側(cè)的具有屏蔽由PDP產(chǎn)生的電磁噪聲的電磁波屏蔽能力的等離子顯示器用電磁波屏蔽膜及等離子顯示器用保護(hù)板。
背景技術(shù)：
具有透明性的導(dǎo)電性層積體被用作液晶顯示元件等的透明電極、汽車擋風(fēng)玻璃、熱鏡、電磁波屏蔽窗玻璃等。例如，專利文獻(xiàn)1揭示了在透明基板上設(shè)有交錯(cuò)層積了由氧化鋅形成的透明氧化物層和銀層的總計(jì)(2n+1)層(n為1以上的整數(shù))的涂層的導(dǎo)電性層積體。該導(dǎo)電性層積體被認(rèn)為具有充分的導(dǎo)電性(電磁波屏蔽性)和可見光透射性。但是，為了使導(dǎo)電性層積體的導(dǎo)電性(電磁波屏蔽性)進(jìn)一步提高而增加層積數(shù)n和銀層的數(shù)量的情況下，存在可見光透射性下降的問(wèn)題。
此外，導(dǎo)電性層積體也被用作等離子顯示器用電磁波屏蔽膜。電磁波被從PDP的正面放出，因此為了屏蔽該電磁波，在PDP的觀察者側(cè)配置在塑料膜等基體上形成了導(dǎo)電膜的電磁波屏蔽膜。
例如，專利文獻(xiàn)2中記載了具有交錯(cuò)層積了氧化物層和金屬層的層積體作為導(dǎo)電膜的等離子顯示器用保護(hù)板。
對(duì)于電磁波屏蔽膜，要求在整個(gè)可見光區(qū)域中透射率高且反射率低，即透射·反射帶寬，還要求在近紅外區(qū)域中屏蔽性高。為了使透射·反射帶變寬，可以增加氧化物層和金屬層的層積數(shù)即可。但是，如果增加層積數(shù)，則電磁波屏蔽膜中的內(nèi)部應(yīng)力增加，產(chǎn)生該膜卷曲或?qū)щ娔て屏讯娮柚瞪叩葐?wèn)題。此外，如果增加層積數(shù)，則可見光透射性可能下降。因此，以往導(dǎo)電膜中的氧化物層和金屬層的層積數(shù)存在極限，還未曾發(fā)現(xiàn)即使減少層積數(shù)透射·反射帶也寬且導(dǎo)電性(電磁波屏蔽性)和可見光透射性良好的電磁波屏蔽膜。
專利文獻(xiàn)1日本專利特公平8-32436號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)2國(guó)際公開第98/13850號(hào)文本發(fā)明的揭示本發(fā)明的目的在于提供即使減少層積數(shù)透射·反射帶也寬且導(dǎo)電性(電磁波屏蔽性)、可見光透射性和近紅外線屏蔽性良好的導(dǎo)電性層積體、等離子顯示器用電磁波屏蔽膜及等離子顯示器用保護(hù)板。
本發(fā)明的導(dǎo)電性層積體為具有基體和形成于基體上的導(dǎo)電膜的導(dǎo)電性層積體，其特征在于，導(dǎo)電膜為自基體側(cè)總計(jì)交錯(cuò)層積了(2n+1)層[n為1以上的整數(shù)]氧化物層和金屬層的多層結(jié)構(gòu)體，氧化物層含有氧化鋅和折射率在2.3以上的高折射率金屬氧化物作為主要成分，金屬層含有銀或銀合金作為主要成分。
高折射率金屬氧化物較好是氧化鈦和/或氧化鈮。
金屬層較好是設(shè)有2～8層。
金屬層較好是純銀或含有金和/或鉍的銀合金。
本發(fā)明的等離子顯示器用電磁波屏蔽膜的特征在于，由本發(fā)明的導(dǎo)電性層積體構(gòu)成。
本發(fā)明的等離子顯示器用保護(hù)板的特征在于，具有支承基體、設(shè)置于該支承基體上的本發(fā)明的等離子顯示器用電磁波屏蔽膜、與該等離子顯示器用電磁波屏蔽膜的導(dǎo)電膜電連接的電極。
本發(fā)明的等離子顯示器用保護(hù)板可以還具有導(dǎo)電網(wǎng)格膜。
本發(fā)明的導(dǎo)電性層積體即使減少層積數(shù)，透射·反射帶也寬，而且導(dǎo)電性(電磁波屏蔽性)、可見光透射性和近紅外線屏蔽性良好。
本發(fā)明的等離子顯示器用電磁波屏蔽膜即使減少層積數(shù)，透射·反射帶也寬，而且導(dǎo)電性(電磁波屏蔽性)、可見光透射性和近紅外線屏蔽性良好。
本發(fā)明的等離子顯示器用保護(hù)板的電磁波屏蔽能力良好，透射·反射帶寬，可見光透射率高，近紅外線屏蔽性良好。
附圖的簡(jiǎn)單說(shuō)明
圖1為表示本發(fā)明的導(dǎo)電性層積體的一種實(shí)施方式的截面圖。
圖2為表示本發(fā)明的導(dǎo)電性層積體的另一種實(shí)施方式的截面圖。
圖3為表示本發(fā)明的保護(hù)板的第1實(shí)施方式的截面圖。
圖4為表示本發(fā)明的保護(hù)板的第2實(shí)施方式的截面圖。
圖5為表示本發(fā)明的保護(hù)板的第3實(shí)施方式的截面圖。
圖6為表示實(shí)施例1、2和比較例1、2的保護(hù)板的反射圖譜的圖。
圖7為表示實(shí)施例1、2和比較例1、2的保護(hù)板的透射圖譜的圖。
符號(hào)的說(shuō)明1、2、3保護(hù)板，10導(dǎo)電性層積體，11基體，12導(dǎo)電膜，12a氧化物層，12b金屬層，12c阻擋層，12d保護(hù)膜，20支承基體，30著色陶瓷層，40防飛散膜，70粘接劑層，50電極，80導(dǎo)電網(wǎng)格膜，90電極。
實(shí)施發(fā)明的最佳方式“導(dǎo)電性層積體”對(duì)本發(fā)明的導(dǎo)電性層積體的一種實(shí)施方式(以下稱為實(shí)施方式)進(jìn)行說(shuō)明。
圖1中表示本實(shí)施方式的導(dǎo)電性層積體10。該導(dǎo)電性層積體10具有基體11和導(dǎo)電膜12。
<基體>
作為基體11的材料，可以例舉玻璃板(包括風(fēng)冷強(qiáng)化玻璃、化學(xué)強(qiáng)化玻璃等強(qiáng)化玻璃)和聚對(duì)苯二甲酸乙二酯(PET)、三乙?；w維素(TAC)、聚碳酸酯(PC)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)等透明塑料材料等。
<導(dǎo)電膜>
導(dǎo)電膜12為自基體11側(cè)總計(jì)交錯(cuò)層積了(2n+1)層[n為1以上的整數(shù)]氧化物層12a和金屬層12b的多層結(jié)構(gòu)體。
導(dǎo)電膜12中，金屬層較好是設(shè)有2～8層，更好是設(shè)有2～6層。如果金屬層在2層以上，可以充分降低電阻值，如果在8層以下，可以進(jìn)一步抑制導(dǎo)電性層積體10的內(nèi)部應(yīng)力增加。
導(dǎo)電膜12中，為了充分確保電磁波屏蔽能力，電阻值較好是0.4～3.5Ω，更好是0.5～2.5Ω，特別好是0.5～1.5Ω。
導(dǎo)電膜12中的氧化物層12a為含有折射率在2.3以上的高折射率金屬氧化物和氧化鋅作為主要成分的層。氧化物層12a較好是總計(jì)含有90質(zhì)量％以上的折射率在2.3以上的高折射率金屬氧化物和氧化鋅，更好是含有95質(zhì)量％以上，特別好是含有99質(zhì)量％以上。
折射率在2.3以上的高折射率金屬氧化物中，因?yàn)榭梢允狗瓷鋷нM(jìn)一步變寬，較好是氧化鈦(折射率2.5)和/或氧化鈮(折射率2.4)。本發(fā)明中，“折射率”是指波長(zhǎng)550nm處的折射率。
通過(guò)高折射率金屬氧化物的存在，可以提高氧化物層12a的折射率，可以使導(dǎo)電膜12的透射·反射帶變寬。氧化物層12a中，高折射率金屬氧化物的金屬相對(duì)于該金屬和鋅的總和的比例較好是1～50原子％，特別好是5～20原子％。通過(guò)使其在該范圍內(nèi)，不僅可以保持透射·反射帶較寬，而且可以獲得耐濕性良好的導(dǎo)電膜。其理由并不清楚，但認(rèn)為通過(guò)使其在該范圍內(nèi)，可以在保持氧化鋅的良好的物性狀態(tài)下，緩解氧化物層12a和金屬層12b的應(yīng)力。
氧化物層12a可以在不損害物性的范圍內(nèi)含有除氧化鋅、氧化鈦和氧化鈮以外的金屬氧化物。例如，為了賦予導(dǎo)電性，可以混合氧化鎵、氧化銦、氧化鋁、氧化鎂、氧化錫等。
氧化物層12a的幾何學(xué)膜厚(以下簡(jiǎn)稱膜厚)理想的是，最接近基體的氧化物層和離基體最遠(yuǎn)的氧化物層為20～60nm(特別好是30～50nm)，除此以外的氧化物層為40～120nm(特別好是40～100nm)。
金屬層12b為含有銀或銀合金作為主要成分的層。通過(guò)由銀或銀合金形成金屬層12b，可以降低導(dǎo)電膜12的電阻值。
從降低導(dǎo)電膜12的電阻值的角度來(lái)看，金屬層12b較好是由純銀形成的層。本發(fā)明中的“純銀”是指金屬層12b(100質(zhì)量％)中含有99.9質(zhì)量％以上的銀。
從抑制銀的擴(kuò)散而提高耐濕性的角度來(lái)看，金屬層12b較好是由含有金和/或鉍的銀合金形成的層。為了使電阻率在4.5μΩcm以下，金和鉍的總和在金屬層12b(100質(zhì)量％)中較好是0.2～1.5質(zhì)量％。
金屬層12b的總膜厚在例如將得到的導(dǎo)電性層積體10的電阻值的目標(biāo)設(shè)為1.5Ω的情況下較好是25～60nm(特別好是25～50nm)，在將電阻值的目標(biāo)設(shè)為0.9Ω的情況下較好是35～80nm(特別好是35～70nm)。各金屬層的膜厚由前述總膜厚按金屬層數(shù)適當(dāng)分配得到。另外，如果金屬層的數(shù)量增加，各金屬層的電阻率上升，所以為了降低電阻，存在總膜厚增加的傾向。
向基體11上的導(dǎo)電膜12(氧化物層12a、金屬層12b)的形成方法沒(méi)有限定，可以使用例如濺射法、真空蒸鍍法、離子鍍法、化學(xué)氣相沉積法等。其中，因?yàn)槠焚|(zhì)、特性的穩(wěn)定性良好，較好是濺射法。作為濺射法，可以例舉脈沖濺射法、AC濺射法等。
采用濺射法的導(dǎo)電膜12的形成例如可以如下進(jìn)行。首先，使用由氧化鋅和高折射率金屬氧化物構(gòu)成的靶材(以下稱為ZnO混合靶材)，導(dǎo)入混合了氧氣的氬氣，進(jìn)行脈沖濺射，在基體11表面形成氧化物層12a。
接著，使用銀靶材或銀合金的靶材，導(dǎo)入氬氣，進(jìn)行脈沖濺射，形成金屬層12b。通過(guò)重復(fù)該操作，最后以與前述同樣的方法形成氧化物層12a，從而形成多層結(jié)構(gòu)體的導(dǎo)電膜12。
ZnO混合靶材可以通過(guò)混合各成分的高純度(通常99.9％)粉末，使用熱壓法或HIP(熱等靜壓)法進(jìn)行燒結(jié)來(lái)制造。采用熱壓法的情況下，具體通過(guò)將含有高折射率金屬氧化物的氧化鋅粉末在真空或惰性氣體氣氛中于最高溫度1000～1200℃的溫度下進(jìn)行熱壓來(lái)制造。該ZnO混合靶材較好是氣孔率在5.0％以下，電阻率不到1Ωcm。
本實(shí)施方式的導(dǎo)電膜12中，最上層的氧化物層12a上設(shè)有保護(hù)膜12d。保護(hù)膜12d保護(hù)氧化物層12a和金屬層12b不受水分侵害，可以保護(hù)氧化物層12a不受在表面的氧化物層12a上粘接任意的樹脂膜(防濕膜、防飛散膜、防反射膜、近紅外線屏蔽用等的保護(hù)膜、近紅外線吸收膜等功能性膜等)時(shí)的粘接劑(特別是堿性粘接劑)侵害。另外，該保護(hù)膜12d在本發(fā)明中是任選的構(gòu)成要素，可以略去。
作為保護(hù)膜12d，具體可以例舉Sn、In、Ti、Si等金屬的氧化物膜和氮化物膜等，特別好是銦-錫氧化物(ITO)膜。
保護(hù)膜12d的膜厚較好是2～30nm，更好是3～20nm。
如圖2所示，導(dǎo)電膜12中，氧化物層12a和金屬層12b交錯(cuò)層積，在氧化物層12a和金屬層12b間設(shè)有阻擋層12c。如果在金屬層12b上設(shè)置阻擋層12c，如上所述，在氧氣氛下形成氧化物層12a的情況下，可以防止金屬層12b的氧化。作為阻擋層12c，可以例舉能夠在不存在氧的條件下形成的層，作為材質(zhì)，可以使用例如摻鋁氧化鋅、摻錫氧化銦等。
本發(fā)明的導(dǎo)電性層積體的可見光透射率較好是在55％以上，更好是在60％以上。此外，本發(fā)明的導(dǎo)電性層積體的波長(zhǎng)850nm處的透射率較好是在5％以下，特別好是在2％以下。
本發(fā)明的導(dǎo)電性層積體的導(dǎo)電性(電磁波屏蔽性)、可見光透射性和近紅外線屏蔽性良好，而且層積于玻璃等支承基體的情況下，透射·反射帶變寬，所以可用作等離子顯示器用電磁波屏蔽膜。
此外，本發(fā)明的導(dǎo)電性層積體可以用作液晶顯示元件等的透明電極。該透明電極由于表面電阻低，因此應(yīng)答性好，反射率被抑制到玻璃的水平，因此辨識(shí)性好。
此外，本發(fā)明的導(dǎo)電性層積體可以用作汽車擋風(fēng)玻璃。該汽車擋風(fēng)玻璃通過(guò)給導(dǎo)電膜通電，可以發(fā)揮防霧或融冰的功能，而且電阻低，所以通電所需的電壓低，反射率被抑制到玻璃的水平，因此不會(huì)損害駕駛者的辨識(shí)性。
此外，本發(fā)明的導(dǎo)電性層積體的紅外線區(qū)域內(nèi)的反射率非常高，因此可以用作設(shè)置于建筑物的窗等的熱鏡。
此外，本發(fā)明的導(dǎo)電性層積體的電磁波屏蔽效果好，因此可以用作防止從電氣·電子設(shè)備放射的電磁波漏到室外且防止影響電氣·電子設(shè)備的電磁波從室外侵入到室內(nèi)的電磁波屏蔽窗玻璃。
“等離子顯示器用保護(hù)板”以下，對(duì)將本發(fā)明的導(dǎo)電性層積體用作等離子顯示器用保護(hù)板(以下稱為保護(hù)板)的電磁波屏蔽膜的例子進(jìn)行說(shuō)明。
(第1實(shí)施方式)圖3中表示第1實(shí)施方式的保護(hù)板。該保護(hù)板1具有支承基體20、設(shè)于支承基體20上的上述導(dǎo)電性層積體10、設(shè)于支承基體20中的導(dǎo)電性層積體10側(cè)的面的周緣部的著色陶瓷層30、粘合于支承基體20中的與導(dǎo)電性層積體10側(cè)相反側(cè)的面的防飛散膜40、以導(dǎo)電性層積體10的導(dǎo)電膜12的周緣部電連接的電極50和設(shè)于導(dǎo)電性層積體10上的保護(hù)膜60。
在導(dǎo)電性層積體10和支承基體20之間、導(dǎo)電性層積體10和保護(hù)膜60之間、支承基體20和防飛散膜40之間設(shè)有粘接劑層70。
此外，該保護(hù)板1中，導(dǎo)電性層積體10設(shè)于支承基體20的PDP側(cè)。
<支承基體>
保護(hù)板1中的支承基體20為剛性比導(dǎo)電性層積體10的基體11高的透明基體。通過(guò)設(shè)置支承基體20，導(dǎo)電性層積體10的基體11的材料即使是PET等塑料，也不會(huì)因與PDP側(cè)的表面相反側(cè)產(chǎn)生的溫度差而發(fā)生翹曲。
作為支承基體20的材料，可以例舉與上述的導(dǎo)電性層積體10的基體11的材料同樣的材料等。
<著色陶瓷層>
著色陶瓷層30為用于隱蔽電極50而使其無(wú)法直接從觀察者側(cè)看到的層。著色陶瓷層30可以通過(guò)例如印刷于支承基體20上或粘貼著色帶來(lái)形成。
<防飛散膜>
防飛散膜40為用于防止支承基體20損傷時(shí)的支承基體20碎片的飛散的層。作為防飛散膜40，沒(méi)有特別限定，可以使用一般用于保護(hù)板的材料。
防飛散膜40可以具有防反射功能。已知各種兼具防飛散功能和防反射功能的膜，只要是該種膜，可以任意使用。例如，可以例舉旭硝子公司制的ARCTOP(商品名)。ARCTOP(商品名)為在具有自我修復(fù)性和防飛散特性的聚氨酯類軟質(zhì)樹脂膜的一面形成由非結(jié)晶性的含氟聚合物構(gòu)成的低折射率的防反射層而實(shí)施防反射處理的膜。此外，還可以例舉在由PET等塑料形成的膜上以濕法或干法形成了低折射率的防反射層的膜等。
<電極>
電極50與導(dǎo)電膜12電連接地設(shè)置，使導(dǎo)電性層積體10的導(dǎo)電膜12的電磁波屏蔽效果得到發(fā)揮。
為了確保導(dǎo)電膜12的電磁波屏蔽效果，電極50較好是設(shè)于導(dǎo)電膜12的整個(gè)周緣部。
作為電極50的材質(zhì)，從電磁波屏蔽能力的角度來(lái)看，優(yōu)選電阻低的材質(zhì)。例如，優(yōu)選使用涂布銀(Ag)糊料(含有Ag和玻璃料的糊料)或銅(Cu)糊料(含有Cu和玻璃料的糊料)并燒結(jié)得到的材質(zhì)。
<保護(hù)膜>
保護(hù)膜60為保護(hù)導(dǎo)電性層積體10的導(dǎo)電膜12的膜。具體來(lái)說(shuō)，在保護(hù)導(dǎo)電膜12不受水分侵害的情況下，設(shè)置防濕膜。作為防濕膜，沒(méi)有特別限定，可以使用一般用于保護(hù)板的膜，可以例舉例如PET、聚偏氯乙烯等塑料制的膜等。
此外，作為保護(hù)膜60，可以使用上述的防飛散膜。
<粘接劑層>
作為粘接劑層70的粘接劑，可以使用市售的粘接劑。作為優(yōu)選的具體例子，可以例舉丙烯酸酯共聚物、聚氯乙烯、環(huán)氧樹脂、聚氨酯、乙酸乙烯酯共聚物、苯乙烯-丙烯酸共聚物、聚酯、聚酰胺、聚烯烴、苯乙烯-丁二烯共聚物類橡膠、丁基橡膠、有機(jī)硅樹脂等粘接劑。因?yàn)榭梢垣@得良好的耐濕性，特別好是丙烯酸類粘接劑。
此外，該粘接劑層70中可以摻入紫外線吸收劑等具有各種功能的添加劑。
(第2實(shí)施方式)圖4中表示第2實(shí)施方式的保護(hù)板。該保護(hù)板2具有支承基體20、設(shè)于支承基體20的一面的導(dǎo)電性層積體10、設(shè)于導(dǎo)電性層積體10上的防飛散膜40、以周緣部電連接于導(dǎo)電性層積體10的導(dǎo)電膜12的電極50、設(shè)于支承基體20中的與導(dǎo)電性層積體10側(cè)相反側(cè)的面的周緣部的著色陶瓷層30。此外，防飛散膜40設(shè)于電極50的內(nèi)側(cè)。
另外，本實(shí)施方式中，對(duì)于與第1實(shí)施方式相同的結(jié)構(gòu)，標(biāo)注與圖3同樣的符號(hào)，略去說(shuō)明。
該第2實(shí)施方式的保護(hù)板2中，導(dǎo)電性層積體10設(shè)于支承基體20的觀察者側(cè)。
(第3實(shí)施方式)圖5中表示第3實(shí)施方式的保護(hù)板。該保護(hù)板3具有支承基體20、通過(guò)粘接劑層70粘合于支承基體20表面的導(dǎo)電性層積體10、通過(guò)粘接劑層70粘合于導(dǎo)電性層積體10表面上的防飛散膜40、設(shè)于與導(dǎo)電性層積體10相反側(cè)的支承基體20表面的周緣部的著色陶瓷層30、以導(dǎo)電網(wǎng)格膜80的周緣部與著色陶瓷層30重疊的狀態(tài)通過(guò)粘接劑層70粘合于支承基體20表面的導(dǎo)電網(wǎng)格膜80、以電連接導(dǎo)電性層積體10的導(dǎo)電膜12和導(dǎo)電網(wǎng)格膜80的導(dǎo)電性網(wǎng)眼層(圖示略)的狀態(tài)設(shè)于保護(hù)板3的周邊部的電極90。保護(hù)板3為導(dǎo)電性層積體10設(shè)于支承基體20的觀察者側(cè)，導(dǎo)電網(wǎng)格膜80設(shè)于支承基體20的PDP側(cè)的例子。
另外，第3實(shí)施方式中，對(duì)于與第1實(shí)施方式相同的結(jié)構(gòu)，標(biāo)注與圖3同樣的符號(hào)，略去說(shuō)明。
導(dǎo)電網(wǎng)格膜80為在透明膜上形成由銅構(gòu)成的導(dǎo)電性網(wǎng)眼層而得的膜。通常通過(guò)在透明膜上粘合銅箔后，加工成網(wǎng)眼狀來(lái)制造。
銅箔可以是壓延銅、電解銅中任一種，根據(jù)需要適當(dāng)使用公知的材料即可。銅箔可以進(jìn)行各種表面處理。作為表面處理，可以例舉鉻酸鹽處理、粗化處理、酸洗、鉻酸鋅處理等。銅箔的厚度較好是3～30μm，更好是5～30μm，特別好是7～10μm。通過(guò)使銅箔的厚度在30μm以下，可以縮短蝕刻時(shí)間，通過(guò)使其在3μm以上，電磁波屏蔽性升高。
導(dǎo)電性網(wǎng)眼層的開口率較好是在60～95％，更好是65～90％，特別好是70～85％。
導(dǎo)電性網(wǎng)眼層的開口部的形狀為正三角形、正四邊形、正六邊形、圓形、長(zhǎng)方形、菱形等。開口部較好是形狀一致且排列于面內(nèi)。
開口部的尺寸較好是1邊或直徑為5～200μm，更好是10～150μm。通過(guò)使開口部的1邊或直徑在200μm以下，電磁波屏蔽性提高，通過(guò)使其在5μm以上，對(duì)PDP圖像的影響少。
除開口部以外的金屬部的寬度較好是5～50μm。即，開口部的排列間距較好是10～250μm。通過(guò)使金屬部的寬度在5μm以上，加工變得容易，通過(guò)使其在50μm以下，對(duì)PDP圖像的影響少。
如果導(dǎo)電性網(wǎng)眼層的面電阻過(guò)低，則膜變厚，變得無(wú)法充分確保開口部，對(duì)保護(hù)板3的光學(xué)性能等產(chǎn)生不良影響。另一方面，如果導(dǎo)電性網(wǎng)眼層的面電阻過(guò)高，則變得無(wú)法得到足夠的電磁波屏蔽性。因此，導(dǎo)電性網(wǎng)眼層的面電阻較好是0.01～10Ω/□，更好是0.01～2Ω/□，特別好是0.05～1Ω/□。
導(dǎo)電性網(wǎng)眼層的面電阻使用比開口部的1邊或直徑大5倍以上的電極以開口部的排列間隔的5倍以上的電極間隔通過(guò)4端子法測(cè)定即可。例如，開口部為1邊100μm的正方形，隔著20μm的金屬部的寬度規(guī)則地排列的情況下，將直徑1mm的電極以1mm間隔排列測(cè)定即可?；蛘?，可以將導(dǎo)電網(wǎng)格膜加工成長(zhǎng)方形，將電極設(shè)于其長(zhǎng)邊方向的兩端，測(cè)定其電阻R，由長(zhǎng)邊方向的長(zhǎng)度a、短邊方向的長(zhǎng)度b根據(jù)下述求得。
面電阻＝R×b/a將銅箔層疊于透明膜上時(shí)，使用透明的粘接劑。作為粘接劑，可以例舉丙烯酸類粘接劑、環(huán)氧類粘接劑、聚氨酯類粘接劑、有機(jī)硅類粘接劑、聚酯類粘接劑等。作為粘接劑的類型，較好是2液型或熱固化型。此外，作為粘接劑，較好是耐藥品性良好的粘接劑。
作為將銅箔加工成網(wǎng)眼狀的方法，可以例舉光刻法。印刷法中，通過(guò)絲網(wǎng)印刷進(jìn)行開口部的圖形形成。光刻法中，通過(guò)輥涂法、旋涂法、整面印刷法、轉(zhuǎn)印法等將光致抗蝕材料形成于銅箔上，通過(guò)曝光、顯影、蝕刻形成開口部的圖形。作為形成導(dǎo)電性網(wǎng)眼層的其它方法，可以例舉通過(guò)絲網(wǎng)印刷等印刷法形成開口部的圖形的方法。
電極90電連接導(dǎo)電性層積體10的導(dǎo)電膜12和導(dǎo)電網(wǎng)格膜80的導(dǎo)電性網(wǎng)眼層。作為電極90，可以例舉導(dǎo)電性帶等。通過(guò)電連接導(dǎo)電性層積體10的導(dǎo)電膜12和導(dǎo)電網(wǎng)格膜80的導(dǎo)電性網(wǎng)眼層，可以進(jìn)一步降低整體的面電阻值，因此可以使電磁波屏蔽效果進(jìn)一步提高。
保護(hù)板1～3設(shè)置于PDP的正面，較好是可見光透射率在40％以上，使PDP的圖像易于觀看。此外，可見光反射率較好是不到6％，特別好是不到3％。此外，波長(zhǎng)850nm處的透射率較好是在5％以下，特別好是在2％以下。
以上說(shuō)明的第1實(shí)施方式～第3實(shí)施方式的保護(hù)板1～3具有支承基體20、設(shè)于支承基體20上的導(dǎo)電性層積體10、與導(dǎo)電性層積體10的導(dǎo)電膜12的電極50或電極90。另外，如上所述，導(dǎo)電性層積體10的導(dǎo)電膜12為自基體11側(cè)總計(jì)交錯(cuò)層積了(2n+1)層[n為1以上的整數(shù)]氧化物層12a和金屬層12b的多層結(jié)構(gòu)體，氧化物層12a含有折射率在2.3以上的高折射率金屬氧化物和氧化鋅作為主要成分，金屬層12b含有銀或銀合金作為主要成分。這樣的導(dǎo)電性層積體10中，由于導(dǎo)電膜12的氧化物層12a含有高折射率金屬氧化物，所以可以使透射·反射帶變寬。因此，即使不增加層積數(shù)，也可以得到透射·反射帶寬的保護(hù)板。另外，通過(guò)不增加層積數(shù)，可以提高可見光透射性。而且，由于氧化物層12a所含的氧化鋅具有結(jié)晶性，因此形成于氧化物層12a上的金屬層12b中的金屬也容易結(jié)晶化，不易發(fā)生遷移。其結(jié)果，保護(hù)板的導(dǎo)電性高，電磁波屏蔽能力強(qiáng)。
另外，本發(fā)明的保護(hù)板并不局限于上述的實(shí)施方式。例如，上述的實(shí)施方式中，設(shè)置粘接劑層70來(lái)層積膜，但也可以不使用粘合劑或粘接劑，進(jìn)行采用加熱的粘合。
此外，本發(fā)明的保護(hù)板中，根據(jù)需要可以具有防反射膜或作為低折射率薄膜的防反射層。作為防反射膜，沒(méi)有特別限定，可以使用一般用于保護(hù)板的膜。特別是如果使用含氟樹脂類的膜，防反射性更好。
因?yàn)榈玫降谋Ｗo(hù)板的反射率變低，得到理想的反射色，所以對(duì)于該防反射層本身，可見光區(qū)域內(nèi)的反射率達(dá)到最低的波長(zhǎng)較好是500～600nm，特別好是530～590nm。
此外，可以使保護(hù)板具有近紅外線屏蔽功能。作為使其具有近紅外線屏蔽功能的方法，可以例舉使用近紅外線屏蔽膜的方法、使用近紅外線吸收基體的方法、在膜層積時(shí)使用添加了近紅外線吸收劑的粘接劑的方法、在防反射樹脂膜等中添加近紅外線吸收劑而使其同時(shí)具有近紅外線吸收功能的方法、使用具有近紅外線反射功能的導(dǎo)電膜的方法等。
實(shí)施例(實(shí)施例1)將高純度的氧化鋅粉末和氧化鈦粉末以氧化鋅∶氧化鈦＝80∶20(質(zhì)量比)的條件用球磨機(jī)進(jìn)行混合，調(diào)制混合粉末。將該混合粉末填充于碳制的熱壓用模具，以在氬氣氣氛中于1100℃保持1小時(shí)的條件實(shí)施熱壓，得到氧化鋅和氧化鈦混合靶材。熱壓的壓力為100kg/cm2。
如下制成圖2所示的導(dǎo)電性層積體。
首先，如下進(jìn)行用于清洗作為基體11的厚100μm的PET膜表面的采用離子束的干法清洗。先在氬氣中混合約30％的氧，施加100W的電力。將通過(guò)離子束源離子化得到的氬離子和氧離子照射于基體表面。
接著，使用氧化鋅和氧化鈦混合靶材[氧化鋅∶氧化鈦＝80∶20(質(zhì)量比)]，在氬氣中混合10體積％的氧氣后導(dǎo)入，以0.73Pa的壓力進(jìn)行頻率50kHz、電功率密度4.5W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度2微秒的脈沖濺射，在實(shí)施了干法清洗處理的基體表面形成厚35nm的氧化物層12a。通過(guò)盧瑟福背散射法進(jìn)行了測(cè)定，結(jié)果在該氧化物層12a中，鋅和鈦的總和(100原子％)中，鋅為80原子％，鈦為20原子％。此外，氧化物層12a中，所有原子總和(100原子％)中，鋅為34.3原子％，鈦為8.0原子％，氧為57.7原子％。若將其換算為ZnO和TiO2，則氧化物的總和為96.7質(zhì)量％。
接著，使用摻入了1.0質(zhì)量％金的銀合金靶材，導(dǎo)入氬氣，以0.73Pa的壓力進(jìn)行頻率50kHz、電功率密度2.3W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度10微秒的脈沖濺射，形成厚10nm的金屬層12b。
接著，使用摻入了5質(zhì)量％氧化鋁的氧化鋅靶材，導(dǎo)入氬氣，以0.45Pa的壓力進(jìn)行頻率50kHz、電功率密度2.7W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度2微秒的脈沖濺射，形成厚5nm的氧化鋅膜(阻擋層12c)。
接著，使用氧化鋅和氧化鈦混合靶材[氧化鋅∶氧化鈦＝80∶20(質(zhì)量比)]，在氬氣中混合10體積％的氧氣后導(dǎo)入，以0.73Pa的壓力進(jìn)行頻率50kHz、電功率密度4.5W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度2微秒的脈沖濺射，形成厚65nm的氧化鋅·氧化鈦混合膜。以這樣得到的氧化鋅膜和氧化鋅·氧化鈦混合膜形成氧化物層12a。
接著，使用摻入了1.0質(zhì)量％金的銀合金靶材，導(dǎo)入氬氣，以0.73Pa的壓力進(jìn)行頻率50kHz、電功率密度2.3W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度10微秒的脈沖濺射，形成厚14nm的金屬層12b。
接著，使用摻入了5質(zhì)量％氧化鋁的氧化鋅靶材，導(dǎo)入氬氣，以0.45Pa的壓力進(jìn)行頻率50kHz、電功率密度2.7W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度2微秒的脈沖濺射，形成厚5nm的氧化鋅膜(阻擋層12c)。
接著，使用氧化鋅和氧化鈦混合靶材[氧化鋅∶氧化鈦＝80∶20(質(zhì)量比)]，在氬氣中混合10體積％的氧氣后導(dǎo)入，以0.73Pa的壓力進(jìn)行頻率50kHz、電功率密度4.5W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度2微秒的脈沖濺射，形成厚65nm的氧化鋅·氧化鈦混合膜。以這樣得到的氧化鋅膜和氧化鋅·氧化鈦混合膜形成氧化物層12a。
接著，使用摻入了1.0質(zhì)量％金的銀合金靶材，導(dǎo)入氬氣，以0.73Pa的壓力進(jìn)行頻率50kHz、電功率密度2.3W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度10微秒的脈沖濺射，形成厚14nm的金屬層12b。
接著，使用摻入了5質(zhì)量％氧化鋁的氧化鋅靶材，導(dǎo)入氬氣，以0.45Pa的壓力進(jìn)行頻率50kHz、電功率密度2.7W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度2微秒的脈沖濺射，形成厚5nm的氧化鋅膜(阻擋層12c)。
接著，使用氧化鋅和氧化鈦混合靶材[氧化鋅∶氧化鈦＝80∶20(質(zhì)量比)]，在氬氣中混合10體積％的氧氣后導(dǎo)入，以0.73Pa的壓力進(jìn)行頻率50kHz、電功率密度4.5W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度2微秒的脈沖濺射，形成厚65nm的氧化鋅·氧化鈦混合膜。以這樣得到的氧化鋅膜和氧化鋅·氧化鈦混合膜形成氧化物層12a。
接著，使用摻入了1.0質(zhì)量％金的銀合金靶材，導(dǎo)入氬氣，以0.73Pa的壓力進(jìn)行頻率50kHz、電功率密度2.3W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度10微秒的脈沖濺射，形成厚10nm的金屬層12b。
接著，使用摻入了5質(zhì)量％氧化鋁的氧化鋅靶材，導(dǎo)入氬氣，以0.45Pa的壓力進(jìn)行頻率50kHz、電功率密度2.7W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度2微秒的脈沖濺射，形成厚5nm的氧化鋅膜(阻擋層12c)12c。
接著，使用氧化鋅和氧化鈦混合靶材[氧化鋅∶氧化鈦＝80∶20(質(zhì)量比)]，在氬氣中混合10體積％的氧氣后導(dǎo)入，以0.73Pa的壓力進(jìn)行頻率50kHz、電功率密度4.5W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度2微秒的脈沖濺射，形成厚30nm的氧化鋅·氧化鈦混合膜。以這樣得到的氧化鋅膜和氧化鋅·氧化鈦混合膜形成氧化物層12a。
接著，使用ITO靶材[銦∶錫＝90∶10(質(zhì)量比)]，在氬氣中混合5體積％的氧氣后導(dǎo)入，以0.35Pa的壓力進(jìn)行頻率100kHz、電功率密度1.3W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度1微秒的脈沖濺射，在最上層的氧化物層12a上形成作為保護(hù)膜12d的厚5nm的ITO膜。
由此，得到在基體11上交錯(cuò)層積了含有氧化鈦和氧化鋅作為主要成分的氧化物層12a與由金-銀合金形成的金屬層12b的導(dǎo)電性層積體10，氧化物層12a有5層，金屬層12b有4層。
對(duì)于實(shí)施例1的導(dǎo)電性層積體，通過(guò)東京電色公司制色彩分析儀TC1800測(cè)得的可見光透射率(JIS Z 8701中規(guī)定的刺激值Y)為71.40％，可見光反射率為6.50％。此外，波長(zhǎng)850nm處的透射率為0.96％。
此外，通過(guò)Nagy公司制渦流型電阻測(cè)定器SRM12測(cè)得的薄層電阻(表面電阻)為0.942Ω。結(jié)果示于表1。
然后，在該導(dǎo)電性層積體10的基體11側(cè)表面設(shè)置粘接劑層。
使用該導(dǎo)電性層積體10如下制成圖3所示的保護(hù)板1。
將作為支承基體20的玻璃板切割、倒角成規(guī)定的大小，清洗后，將著色陶瓷層用的油墨絲網(wǎng)印刷于玻璃板周緣，充分干燥，形成著色陶瓷層30。接著，作為玻璃強(qiáng)化處理，將該玻璃板加熱至660℃，然后風(fēng)冷，實(shí)施玻璃強(qiáng)化處理。
在該玻璃板的著色陶瓷層30側(cè)通過(guò)粘接劑層70粘附上述導(dǎo)電性層積體10。接著，為了保護(hù)導(dǎo)電性層積體10，在導(dǎo)電性層積體10上通過(guò)粘接劑層70粘合保護(hù)膜60(旭硝子公司制，商品名ARCTOP CP21)。但是，為了形成電極，周緣部留有未粘合保護(hù)膜的部分(電極形成部)。
接著，在電極形成部以尼龍篩網(wǎng)#180、乳劑厚度20μm的條件絲網(wǎng)印刷銀糊料(太陽(yáng)インキ制造公司制，AF4810)，在熱風(fēng)循環(huán)爐中于85℃干燥35分鐘，形成電極50。
接著，在玻璃板的背面(粘合了導(dǎo)電性層積體10的一側(cè)的相反側(cè)的面)通過(guò)粘合劑層70粘合作為防飛散膜40的聚氨酯類軟質(zhì)樹脂膜(旭硝子公司制，商品名ARCTOP URP2199)。該聚氨酯類軟質(zhì)樹脂膜也具有防反射功能。另外，通常在該聚氨酯類軟質(zhì)樹脂膜中添加著色劑，進(jìn)行色調(diào)校正、橘黃調(diào)色(Neカツト)，實(shí)現(xiàn)色彩再現(xiàn)性的提高，本實(shí)施例中不評(píng)價(jià)色調(diào)校正、橘黃調(diào)色，因此未著色。
對(duì)于實(shí)施例1的保護(hù)板，通過(guò)東京電色公司制色彩分析儀TC1800測(cè)得的可見光透射率(JIS Z 8701中規(guī)定的刺激值Y)為71.5％，可見光反射率為1.92％。此外，波長(zhǎng)850nm處的透射率為0.76％。結(jié)果示于表2。該保護(hù)板的反射圖譜示于圖6，透射圖譜示于圖7。
(實(shí)施例2)
除了氧化鋅和氧化鈦混合靶材都使用氧化鋅∶氧化鈦＝50∶50(質(zhì)量比)的靶材之外，與實(shí)施例1同樣地操作，制成導(dǎo)電性層積體和保護(hù)板。實(shí)施例2的氧化物層12a中，鋅和鈦的總和(100原子％)中，鋅為50原子％，鈦為50原子％。此外，氧化物層12a中，所有原子總和(100原子％)中，鋅為23.6原子％，鈦為16.7原子％，氧為59.7原子％。若將其換算為ZnO和TiO2，則氧化物的總和為97.7質(zhì)量％。
對(duì)于實(shí)施例2的導(dǎo)電性層積體，通過(guò)東京電色公司制色彩分析儀TC1800測(cè)得的可見光透射率(JIS Z 8701中規(guī)定的刺激值Y)為62.94％，可見光反射率為4.96％。此外，波長(zhǎng)850nm處的透射率為0.69％。
此外，通過(guò)Nagy公司制渦流型電阻測(cè)定器SRM12測(cè)得的薄層電阻(表面電阻)為0.965Ω。結(jié)果示于表1。
對(duì)于實(shí)施例2的保護(hù)板，通過(guò)東京電色公司制色彩分析儀TC1800測(cè)得的可見光透射率(JIS Z 8701中規(guī)定的刺激值Y)為62.6％，可見光反射率為1.92％。此外，波長(zhǎng)850nm處的透射率為0.51％。結(jié)果示于表2。該保護(hù)板的反射圖譜示于圖6，透射圖譜示于圖7。
(比較例1)除了如下制成導(dǎo)電性層積體之外，與實(shí)施例1同樣地操作，制成導(dǎo)電性層積體和保護(hù)板。
首先，如下進(jìn)行用于清洗作為基體11的厚100μm的PET膜表面的采用離子束的干法清洗。先在氬氣中混合約30％的氧，施加100W的電力，將通過(guò)離子束源離子化得到的氬離子和氧離子照射于基體表面。
接著，使用摻入了5質(zhì)量％氧化鋁的氧化鋅靶材，在氬氣中混合3體積％的氧氣后導(dǎo)入，以0.35Pa的壓力進(jìn)行頻率100kHz、電功率密度5.8W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度1微秒的脈沖濺射，在實(shí)施了干法清洗處理的基體表面形成厚40nm的氧化物層a。
接著，使用摻入了1.0質(zhì)量％金的銀合金靶材，導(dǎo)入氬氣，以0.5Pa的壓力進(jìn)行頻率100kHz、電功率密度0.6W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度5微秒的脈沖濺射，形成厚9nm的金屬層。
接著，使用摻入了5質(zhì)量％氧化鋁的氧化鋅靶材，在氬氣中混合3體積％的氧氣后導(dǎo)入，以0.35Pa的壓力進(jìn)行頻率100kHz、電功率密度5.8W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度1微秒的脈沖濺射，形成厚80nm的氧化物層。
接著，使用摻入了1.0質(zhì)量％金的銀合金靶材，導(dǎo)入氬氣，以0.5Pa的壓力進(jìn)行頻率100kHz、電功率密度0.9W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度5微秒的脈沖濺射，形成厚11nm的金屬層。
接著，使用摻入了5質(zhì)量％氧化鋁的氧化鋅靶材，在氬氣中混合3體積％的氧氣后導(dǎo)入，以0.35Pa的壓力進(jìn)行頻率100kHz、電功率密度5.8W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度1微秒的脈沖濺射，形成厚80nm的氧化物層。
接著，使用摻入了1.0質(zhì)量％金的銀合金靶材，導(dǎo)入氬氣，以0.5Pa的壓力進(jìn)行頻率100kHz、電功率密度1.0W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度5微秒的脈沖濺射，形成厚13nm的金屬層。
接著，使用摻入了5質(zhì)量％氧化鋁的氧化鋅靶材，在氬氣中混合3體積％的氧氣后導(dǎo)入，以0.35Pa的壓力進(jìn)行頻率100kHz、電功率密度5.8W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度1微秒的脈沖濺射，形成厚80nm的氧化物層。
接著，使用摻入了1.0質(zhì)量％金的銀合金靶材，導(dǎo)入氬氣，以0.5Pa的壓力進(jìn)行頻率100kHz、電功率密度1.0W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度5微秒的脈沖濺射，形成厚13nm的金屬層。
接著，使用摻入了5質(zhì)量％氧化鋁的氧化鋅靶材，在氬氣中混合3體積％的氧氣后導(dǎo)入，以0.35Pa的壓力進(jìn)行頻率100kHz、電功率密度5.8W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度1微秒的脈沖濺射，形成厚80nm的氧化物層。
接著，使用摻入了1.0質(zhì)量％金的銀合金靶材，導(dǎo)入氬氣，以0.5Pa的壓力進(jìn)行頻率100kHz、電功率密度0.9W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度5微秒的脈沖濺射，形成厚11nm的金屬層。
接著，使用摻入了5質(zhì)量％氧化鋁的氧化鋅靶材，在氬氣中混合3體積％的氧氣后導(dǎo)入，以0.35Pa的壓力進(jìn)行頻率100kHz、電功率密度5.8W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度1微秒的脈沖濺射，形成厚80nm的氧化物層。
接著，使用摻入了1.0質(zhì)量％金的銀合金靶材，導(dǎo)入氬氣，以0.5Pa的壓力進(jìn)行頻率100kHz、電功率密度0.6W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度5微秒的脈沖濺射，形成厚9nm的金屬層。
接著，使用摻入了5質(zhì)量％氧化鋁的氧化鋅靶材，在氬氣中混合3體積％的氧氣后導(dǎo)入，以0.35Pa的壓力進(jìn)行頻率100kHz、電功率密度5.2W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度1微秒的脈沖濺射，形成厚35nm的氧化物層。
接著，使用ITO靶材[銦∶錫＝90∶10(質(zhì)量比)]，在氬氣中混合5體積％的氧氣后導(dǎo)入，以0.35Pa的壓力進(jìn)行頻率100kHz、電功率密度0.5W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度1微秒的脈沖濺射，在最上層的氧化物層上形成作為保護(hù)膜的厚5nm的ITO膜。
由此，得到在基體上交錯(cuò)層積了由AZO形成的氧化物層與由金-銀合金形成的金屬層的導(dǎo)電性層積體，氧化物層有7層，金屬層有6層。
對(duì)于比較例1的導(dǎo)電性層積體，通過(guò)東京電色公司制色彩分析儀TC1800測(cè)得的可見光透射率(JIS Z 8701中規(guī)定的刺激值Y)為59.75％，可見光反射率為5.79％。此外，波長(zhǎng)850nm處的透射率為0.5％。
此外，通過(guò)Nagy公司制渦流型電阻測(cè)定器SRM12測(cè)得的薄層電阻(表面電阻)為0.957Ω。結(jié)果示于表1。
對(duì)于比較例1的保護(hù)板，通過(guò)東京電色公司制色彩分析儀TC1800測(cè)得的可見光透射率(JIS Z 8701中規(guī)定的刺激值Y)為60.3％，可見光反射率為1.98％。此外，波長(zhǎng)850nm處的透射率為0.28％。結(jié)果示于表2。反射圖譜示于圖6，透射圖譜示于圖7。
(比較例2)除了如下制成導(dǎo)電性層積體之外，與實(shí)施例1同樣地操作，制成導(dǎo)電性層積體和保護(hù)板。
首先，如下進(jìn)行用于清洗作為基體的PET膜表面的采用離子束的干法清洗。先在氬氣中混合約30％的氧，施加100W的電力。將通過(guò)離子束源離子化得到的氬離子和氧離子照射于基體表面。
接著，使用摻入了5質(zhì)量％氧化鋁的氧化鋅靶材，在氬氣中混合3體積％的氧氣后導(dǎo)入，以0.35Pa的壓力進(jìn)行頻率100kHz、電功率密度5.7W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度1微秒的脈沖濺射，在實(shí)施了干法清洗處理的基體表面形成厚40nm的氧化物層。
接著，使用摻入了1.0質(zhì)量％金的銀合金靶材，導(dǎo)入氬氣，以0.5Pa的壓力進(jìn)行頻率100kHz、電功率密度0.6W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度5微秒的脈沖濺射，形成厚13nm的金屬層。
接著，使用摻入了5質(zhì)量％氧化鋁的氧化鋅靶材，在氬氣中混合3體積％的氧氣后導(dǎo)入，以0.35Pa的壓力進(jìn)行頻率100kHz、電功率密度4.7W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度1微秒的脈沖濺射，形成厚80nm的氧化物層。
接著，使用摻入了1.0質(zhì)量％金的銀合金靶材，導(dǎo)入氬氣，以0.5Pa的壓力進(jìn)行頻率100kHz、電功率密度0.9W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度5微秒的脈沖濺射，形成厚16nm的金屬層。
接著，使用摻入了5質(zhì)量％氧化鋁的氧化鋅靶材，在氬氣中混合3體積％的氧氣后導(dǎo)入，以0.35Pa的壓力進(jìn)行頻率100kHz、電功率密度4.7W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度1微秒的脈沖濺射，形成厚80nm的氧化物層。
接著，使用摻入了1.0質(zhì)量％金的銀合金靶材，導(dǎo)入氬氣，以0.5Pa的壓力進(jìn)行頻率100kHz、電功率密度1.0W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度5微秒的脈沖濺射，形成厚16nm的金屬層。
接著，使用摻入了5質(zhì)量％氧化鋁的氧化鋅靶材，在氬氣中混合3體積％的氧氣后導(dǎo)入，以0.35Pa的壓力進(jìn)行頻率100kHz、電功率密度4.7W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度1微秒的脈沖濺射，形成厚80nm的氧化物層。
接著，使用摻入了1.0質(zhì)量％金的銀合金靶材，導(dǎo)入氬氣，以0.5Pa的壓力進(jìn)行頻率100kHz、電功率密度0.6W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度5微秒的脈沖濺射，形成厚13nm的金屬層。
接著，使用摻入了5質(zhì)量％氧化鋁的氧化鋅靶材，在氬氣中混合3體積％的氧氣后導(dǎo)入，以0.35Pa的壓力進(jìn)行頻率100kHz、電功率密度5.2W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度1微秒的脈沖濺射，形成厚35nm的氧化物層。
接著，使用ITO靶材[銦∶錫＝90∶10(質(zhì)量比)]，在氬氣中混合3體積％的氧氣后導(dǎo)入，以0.35Pa的壓力進(jìn)行頻率100kHz、電功率密度1.0W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度1微秒的脈沖濺射，在最上層的氧化物層上形成作為保護(hù)膜的厚5nm的ITO膜。
由此，得到在基體上交錯(cuò)層積了由AZO形成的氧化物層與由金-銀合金形成的金屬層的導(dǎo)電性層積體，氧化物層有5層，金屬層有4層。
對(duì)于比較例2的導(dǎo)電性層積體，通過(guò)東京電色公司制色彩分析儀TC1800測(cè)得的可見光透射率(JIS Z 8701中規(guī)定的刺激值Y)為60.9％，可見光反射率為6.85％。此外，波長(zhǎng)850nm處的透射率為0.40％。
此外，通過(guò)Nagy公司制渦流型電阻測(cè)定器SRM12測(cè)得的薄層電阻(表面電阻)為0.981Ω。結(jié)果示于表1。
對(duì)于比較例2的保護(hù)板，通過(guò)東京電色公司制色彩分析儀TC1800測(cè)得的可見光透射率(JIS Z 8701中規(guī)定的刺激值Y)為61.8％，可見光反射率為4.22％。此外，波長(zhǎng)850nm處的透射率為0.27％。結(jié)果示于表2。該保護(hù)板的反射圖譜示于圖6，透射圖譜示于圖7。
氧化物層含有氧化鋅和氧化鈦?zhàn)鳛橹饕煞?、金屬層含有銀合金作為主要成分的實(shí)施例1的保護(hù)板雖然金屬層的數(shù)量為4層，但透射·反射帶寬，而且導(dǎo)電性和可見光透射性良好。
與之相對(duì)，氧化物層含有AZO作為主要成分、金屬層的數(shù)量為6層的比較例1的保護(hù)板的可見光透射率低。
氧化物層含有AZO作為主要成分、金屬層的數(shù)量為4層的比較例2的保護(hù)板的透射·反射帶窄。
(實(shí)施例3)如下制成圖1所示的導(dǎo)電性層積體。
首先，如下進(jìn)行用于清洗作為基體11的厚100μm的PET膜表面的采用離子束的干法清洗。先在氬氣中混合約30％的氧，施加100W的電力。將通過(guò)離子束源離子化得到的氬離子和氧離子照射于基體表面。
接著，使用氧化鋅和氧化鈦混合靶材[氧化鋅∶氧化鈦＝85∶15(質(zhì)量比)]，在氬氣中混合15體積％的氧氣后導(dǎo)入，以0.73Pa的壓力進(jìn)行頻率50kHz、電功率密度4.5W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度2微秒的脈沖濺射，在實(shí)施了干法清洗處理的基體表面形成厚40nm的氧化物層12a。通過(guò)盧瑟福背散射法進(jìn)行了測(cè)定，結(jié)果在該氧化物層12a中，鋅和鈦的總和(100原子％)中，鋅為85原子％，鈦為15原子％。此外，氧化物層12a中，所有原子總和(100原子％)中，鋅為37.0原子％，鈦為6.2原子％，氧為56.8原子％。若將其換算為ZnO和TiO2，則氧化物的總和為96.7質(zhì)量％。
接著，使用摻入了1.0質(zhì)量％金的銀合金靶材，導(dǎo)入氬氣，以0.73Pa的壓力進(jìn)行頻率50kHz、電功率密度2.3W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度10微秒的脈沖濺射，形成厚10nm的金屬層12b。
接著，使用氧化鋅和氧化鈦混合靶材[氧化鋅∶氧化鈦＝85∶15(質(zhì)量比)]，在氬氣中混合15體積％的氧氣后導(dǎo)入，以0.73Pa的壓力進(jìn)行頻率50kHz、電功率密度4.5W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度2微秒的脈沖濺射，形成厚80nm的氧化物層12a。
接著，使用摻入了1.0質(zhì)量％金的銀合金靶材，導(dǎo)入氬氣，以0.73Pa的壓力進(jìn)行頻率50kHz、電功率密度2.3W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度10微秒的脈沖濺射，形成厚14nm的金屬層12b。
接著，使用氧化鋅和氧化鈦混合靶材[氧化鋅∶氧化鈦＝85∶15(質(zhì)量比)]，在氬氣中混合15體積％的氧氣后導(dǎo)入，以0.73Pa的壓力進(jìn)行頻率50kHz、電功率密度4.5W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度2微秒的脈沖濺射，形成厚80nm的氧化物層12a。
接著，使用摻入了1.0質(zhì)量％金的銀合金靶材，導(dǎo)入氬氣，以0.73Pa的壓力進(jìn)行頻率50kHz、電功率密度2.3W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度10微秒的脈沖濺射，形成厚10nm的金屬層12b。
接著，使用氧化鋅和氧化鈦混合靶材[氧化鋅∶氧化鈦＝85∶15(質(zhì)量比)]，在氬氣中混合15體積％的氧氣后導(dǎo)入，以0.73Pa的壓力進(jìn)行頻率50kHz、電功率密度4.5W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度2微秒的脈沖濺射，形成厚35nm的氧化物層12a。
接著，使用ITO靶材[銦∶錫＝90∶10(質(zhì)量比)]，在氬氣中混合5體積％的氧氣后導(dǎo)入，以0.35Pa的壓力進(jìn)行頻率100kHz、電功率密度1.3W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度1微秒的脈沖濺射，在最上層的氧化物層12a上形成作為保護(hù)膜12d的厚5nm的ITO膜。
由此，得到在基體11上交錯(cuò)層積了含有氧化鈦和氧化鋅作為主要成分的氧化物層12a與由金-銀合金形成的金屬層12b的導(dǎo)電性層積體10，氧化物層有4層，金屬層有3層。
對(duì)于實(shí)施例3的導(dǎo)電性層積體，通過(guò)東京電色公司制色彩分析儀TC1800測(cè)得的可見光透射率(JIS Z 8701中規(guī)定的刺激值Y)為77.25％，可見光反射率為5.07％。此外，波長(zhǎng)850nm處的透射率為12.3％。
此外，通過(guò)Nagy公司制渦流型電阻測(cè)定器SRM12測(cè)得的薄層電阻(表面電阻)為1.815Ω。結(jié)果示于表1。
使用該導(dǎo)電性層積體10，與實(shí)施例同樣地操作，制成圖3所示的保護(hù)板1。
對(duì)于實(shí)施例3的保護(hù)板，通過(guò)東京電色公司制色彩分析儀TC1800測(cè)得的可見光透射率(JIS Z 8701中規(guī)定的刺激值Y)為76.99％，可見光反射率為3.45％。此外，波長(zhǎng)850nm處的透射率為9.6％。結(jié)果示于表2。
(實(shí)施例4)如下制成圖1所示的導(dǎo)電性層積體。
首先，如下進(jìn)行用于清洗作為基體11的厚100μm的PET膜表面的采用離子束的干法清洗。先在氬氣中混合約30％的氧，施加100W的電力。將通過(guò)離子束源離子化得到的氬離子和氧離子照射于基體表面。
接著，使用氧化鋅和氧化鈦混合靶材[氧化鋅∶氧化鈦＝85∶15(質(zhì)量比)]，在氬氣中混合15體積％的氧氣后導(dǎo)入，以0.73Pa的壓力進(jìn)行頻率50kHz、電功率密度4.5W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度2微秒的脈沖濺射，在實(shí)施了干法清洗處理的基體表面形成厚40nm的氧化物層12a。通過(guò)盧瑟福背散射法進(jìn)行了測(cè)定，結(jié)果在該氧化物層12a中，鋅和鈦的總和(100原子％)中，鋅為85原子％，鈦為15原子％。此外，氧化物層12a中，所有原子總和(100原子％)中，鋅為37.0原子％，鈦為6.2原子％，氧為56.8原子％。若將其換算為ZnO和TiO2，則氧化物的總和為96.7質(zhì)量％。
接著，使用摻入了1.0質(zhì)量％金的銀合金靶材，導(dǎo)入氬氣，以0.73Pa的壓力進(jìn)行頻率50kHz、電功率密度2.3W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度10微秒的脈沖濺射，形成厚10nm的金屬層12b。
接著，使用氧化鋅和氧化鈦混合靶材[氧化鋅∶氧化鈦＝85∶15(質(zhì)量比)]，在氬氣中混合15體積％的氧氣后導(dǎo)入，以0.73Pa的壓力進(jìn)行頻率50kHz、電功率密度4.5W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度2微秒的脈沖濺射，形成厚80nm的氧化物層12a。
接著，使用摻入了1.0質(zhì)量％金的銀合金靶材，導(dǎo)入氬氣，以0.73Pa的壓力進(jìn)行頻率50kHz、電功率密度2.3W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度10微秒的脈沖濺射，形成厚14nm的金屬層12b。
接著，使用氧化鋅和氧化鈦混合靶材[氧化鋅∶氧化鈦＝85∶15(質(zhì)量比)]，在氬氣中混合15體積％的氧氣后導(dǎo)入，以0.73Pa的壓力進(jìn)行頻率50kHz、電功率密度4.5W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度2微秒的脈沖濺射，形成厚80nm的氧化物層12a。
接著，使用摻入了1.0質(zhì)量％金的銀合金靶材，導(dǎo)入氬氣，以0.73Pa的壓力進(jìn)行頻率50kHz、電功率密度2.3W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度10微秒的脈沖濺射，形成厚14nm的金屬層12b。
接著，使用氧化鋅和氧化鈦混合靶材[氧化鋅∶氧化鈦＝85∶15(質(zhì)量比)]，在氬氣中混合15體積％的氧氣后導(dǎo)入，以0.73Pa的壓力進(jìn)行頻率50kHz、電功率密度4.5W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度2微秒的脈沖濺射，形成厚80nm的氧化物層12a。
接著，使用摻入了1.0質(zhì)量％金的銀合金靶材，導(dǎo)入氬氣，以0.73Pa的壓力進(jìn)行頻率50kHz、電功率密度2.3W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度10微秒的脈沖濺射，形成厚10nm的金屬層12b。
接著，使用氧化鋅和氧化鈦混合靶材[氧化鋅∶氧化鈦＝85∶15(質(zhì)量比)]，在氬氣中混合15體積％的氧氣后導(dǎo)入，以0.73Pa的壓力進(jìn)行頻率50kHz、電功率密度4.5W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度2微秒的脈沖濺射，形成厚35nm的氧化物層12a。
接著，使用ITO靶材[銦∶錫＝90∶10(質(zhì)量比)]，在氬氣中混合5體積％的氧氣后導(dǎo)入，以0.35Pa的壓力進(jìn)行頻率100kHz、電功率密度1.3W/cm2、反轉(zhuǎn)脈沖寬度1微秒的脈沖濺射，在最上層的氧化物層12a上形成作為保護(hù)膜12d的厚5nm的ITO膜。
由此，得到在基體11上交錯(cuò)層積了含有氧化鈦和氧化鋅作為主要成分的氧化物層12a與由金-銀合金形成的金屬層12b的導(dǎo)電性層積體10，氧化物層有5層，金屬層有4層。
對(duì)于實(shí)施例4的導(dǎo)電性層積體，通過(guò)東京電色公司制色彩分析儀TC1800測(cè)得的可見光透射率(JIS Z 8701中規(guī)定的刺激值Y)為67.7％，可見光反射率為5.88％。此外，波長(zhǎng)850nm處的透射率為0.78％。
此外，通過(guò)Nagy公司制渦流型電阻測(cè)定器SRM12測(cè)得的薄層電阻(表面電阻)為0.968Ω。結(jié)果示于表1。
使用該導(dǎo)電性層積體10，與實(shí)施例1同樣地操作，制成圖3所示的保護(hù)板1。
對(duì)于實(shí)施例4的保護(hù)板，通過(guò)東京電色公司制色彩分析儀TC1800測(cè)得的可見光透射率(JIS Z 8701中規(guī)定的刺激值Y)為68.0％，可見光反射率為2.52％。此外，波長(zhǎng)850nm處的透射率為0.68％。結(jié)果示于表2。
產(chǎn)業(yè)上利用的可能性本發(fā)明的導(dǎo)電性層積體的導(dǎo)電性(電磁波屏蔽性)、可見光透射性和近紅外線屏蔽性良好，而且層積于支承基體的情況下，由于透射·反射帶變寬，所以可以用作等離子顯示器用電磁波屏蔽膜、保護(hù)板。此外，本發(fā)明的導(dǎo)電性層積體可以用作液晶顯示元件等的透明電極、汽車擋風(fēng)玻璃、熱鏡、電磁波屏蔽窗玻璃。
另外，在這里引用2004年11月30日提出申請(qǐng)的日本專利申請(qǐng)2004-345877號(hào)以及2005年9月2日提出申請(qǐng)的日本專利申請(qǐng)2005-254907號(hào)的說(shuō)明書、權(quán)利要求書、附圖和摘要的所有內(nèi)容作為本發(fā)明說(shuō)明書的揭示。
權(quán)利要求
1.導(dǎo)電性層積體，它是具有基體和形成于基體上的導(dǎo)電膜的導(dǎo)電性層積體，其特征在于，導(dǎo)電膜為自基體側(cè)總計(jì)交錯(cuò)層積了(2n+1)層氧化物層和金屬層的多層結(jié)構(gòu)體，其中，n為1以上的整數(shù)，氧化物層含有氧化鋅和折射率在2.3以上的高折射率金屬氧化物作為主要成分，金屬層含有銀或銀合金作為主要成分。
2.如權(quán)利要求1所述的導(dǎo)電性層積體，其特征在于，高折射率金屬氧化物為氧化鈦和/或氧化鈮。
3.如權(quán)利要求1或2所述的導(dǎo)電性層積體，其特征在于，金屬層設(shè)有2～8層。
4.如權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的導(dǎo)電性層積體，其特征在于，金屬層為純銀或含有金和/或鉍的銀合金。
5.等離子顯示器用電磁波屏蔽膜，其特征在于，由權(quán)利要求1～4中任一項(xiàng)所述的導(dǎo)電性層積體構(gòu)成。
6.等離子顯示器用保護(hù)板，其特征在于，具有支承基體、設(shè)置于該支承基體上的權(quán)利要求5所述的等離子顯示器用電磁波屏蔽膜、與該等離子顯示器用電磁波屏蔽膜的導(dǎo)電膜電連接的電極。
7.如權(quán)利要求6所述的等離子顯示器用保護(hù)板，其特征在于，還具有導(dǎo)電網(wǎng)格膜。
全文摘要
本發(fā)明為以透射·反射帶寬且導(dǎo)電性(電磁波屏蔽性)、可見光透射性和近紅外線屏蔽性良好為目的的導(dǎo)電性層積體(10)，所述導(dǎo)電性層積體(10)具有基體(11)和形成于基體(11)上的導(dǎo)電膜(12)，導(dǎo)電膜(12)為自基體(11)側(cè)總計(jì)交錯(cuò)層積了(2n+1)層氧化物層(12a)和金屬層(12b)的多層結(jié)構(gòu)體，其中，n為1以上的整數(shù)，氧化物層(12a)含有氧化鋅和折射率在2.3以上的高折射率金屬氧化物作為主要成分，金屬層(12b)含有銀或銀合金作為主要成分。
文檔編號(hào)B32B15/04GK101066011SQ200580040719
公開日2007年10月31日 申請(qǐng)日期2005年10月31日 優(yōu)先權(quán)日2004年11月30日
發(fā)明者森本保, 宮澤英明, 賦舩昌宏, 神田幸一, 中釜晉 申請(qǐng)人:旭硝子株式會(huì)社