1.激光解吸電離質(zhì)譜裝置，其特征在于，所述裝置包括MALDI離子源真空腔，線性離子阱真空腔和飛行時(shí)間分析器真空腔；其中MALDI離子源真空腔內(nèi)設(shè)有MALDI離子源靶板；MALDI離子源靶板的靶板運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)位于真空腔之外，處于常壓環(huán)境；MALDI離子源靶板和靶板運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)之間設(shè)有靶板運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)真空過(guò)渡機(jī)構(gòu)；靶板運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)真空過(guò)渡機(jī)構(gòu)將靶板運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)的動(dòng)能傳遞至MALDI離子源真空腔內(nèi)，實(shí)現(xiàn)MALDI離子源靶板的運(yùn)動(dòng)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光解吸電離質(zhì)譜裝置，其特征在于，MALDI離子源真空腔內(nèi)還設(shè)有MALDI濺射離子聚集成束裝置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光解吸電離質(zhì)譜裝置，其特征在于，靶板運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)的電機(jī)為常壓電機(jī)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光解吸電離質(zhì)譜裝置，其特征在于，所述MALDI離子源真空腔內(nèi)的真空度為大于10Pa。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光解吸電離質(zhì)譜裝置，其特征在于，線性離子阱真空腔的真空度為10-2-10-3Pa。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光解吸電離質(zhì)譜裝置，其特征在于，所述飛行時(shí)間分析器真空腔采用反射式分析器結(jié)構(gòu)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光解吸電離質(zhì)譜裝置，其特征在于，所述飛行時(shí)間分析器真空腔的真空度為小于10-4Pa。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光解吸電離質(zhì)譜裝置，其特征在于，所述飛行時(shí)間分析器真空腔內(nèi)設(shè)有離子加速器，離子反射器和離子檢測(cè)器。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光解吸電離質(zhì)譜裝置，其特征在于，所述裝置的工作電壓小于5kV。