專(zhuān)利名稱(chēng)：搬運(yùn)機(jī)器人和包括搬運(yùn)機(jī)器人的設(shè)備前端模塊的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本文所公開(kāi)的實(shí)施方式涉及搬運(yùn)機(jī)器人和包括搬運(yùn)機(jī)器人的設(shè)備前端模塊。
背景技術(shù)：
常規(guī)上，已知有一種搬運(yùn)機(jī)器人，該搬運(yùn)機(jī)器人設(shè)置在形成于設(shè)備前端模塊(EFEM)中的空間內(nèi)并且搬運(yùn)諸如半導(dǎo)體晶片的基板。搬運(yùn)機(jī)器人通常包括臂主體，并且例如通過(guò)在由臂主體保持基板的情況下沿水平方向移動(dòng)臂主體以及移動(dòng)設(shè)置在臂主體的末端部處的末端執(zhí)行器來(lái)搬運(yùn)基板。臂主體自身通常由能夠執(zhí)行升降操作的升降單元來(lái)支承。因?yàn)橹T如半導(dǎo)體晶片的產(chǎn)品在EFEM中被操縱，因此特別需要保持EFEM內(nèi)的空氣極其清潔。因此，通常從EFEM的上部產(chǎn)生清潔空氣的向下流，然而，還是提出通過(guò)利用附加方法來(lái)防止被顆粒物污染的各種搬運(yùn)機(jī)器人。例如，提出一種這樣的搬運(yùn)機(jī)器人，該搬運(yùn)機(jī)器人通過(guò)利用罩構(gòu)件覆蓋包括上述的臂主體和升降單元的搬運(yùn)單元來(lái)防止由向下流的擾動(dòng)而分散的顆粒物的附著(例如，參見(jiàn)日本專(zhuān)利特開(kāi)公報(bào)H10-261690)。然而，常規(guī)的搬運(yùn)機(jī)器人在抑制由升降操作產(chǎn)生的顆粒物方面具有進(jìn)一步改進(jìn)的余地。具體地，當(dāng)搬運(yùn)機(jī)器人具有其中上述升降單元借助從搬運(yùn)機(jī)器人的主體單元(以下文中，描述為“基部單元”)突出而升降的結(jié)構(gòu)時(shí)，基板可能被因升降操作從基部單元的內(nèi)部分散的顆粒物污染?？紤]到以上內(nèi)容獲得實(shí)施方式的一方面，并且實(shí)施方式的一方面的目的在于提供一種搬運(yùn)機(jī)器人和包括該搬運(yùn)機(jī)器人的設(shè)備前端模塊，所述搬運(yùn)機(jī)器人能夠抑制因升降操作而產(chǎn)生顆粒物。

實(shí)用新型內(nèi)容根據(jù)實(shí)施方式的一方面的搬運(yùn)機(jī)器人包括:臂單元、基部單元、引導(dǎo)單元、升降單元以及通風(fēng)部。所述臂單元包括機(jī)器人手，所述機(jī)器人手能夠保持待被搬運(yùn)的物體。所述基部單元形成為大體盒形形狀。所述引導(dǎo)單元包括豎直地設(shè)置在所述基部單元中的豎直軸。所述升降單元設(shè)置成能夠沿著所述豎直軸升降并且在上端部處支承所述臂單元。所述通風(fēng)部在所述基部單元的上表面中開(kāi)口，并且將向下流從所述基部單元的外部引至其內(nèi)部。根據(jù)所述搬運(yùn)機(jī)器人的一個(gè)方面，其中，所述通風(fēng)部沿著所述升降單元的外周形成在所述基部單元的所述上表面中。根據(jù)所述搬運(yùn)機(jī)器人的另一方面，其中，所述升降單元設(shè)置成與形成所述基部單元的側(cè)壁之中的一個(gè)側(cè)壁相鄰，并且所述通風(fēng)部沿著除所述一個(gè)側(cè)壁之外的側(cè)壁形成。根據(jù)所述搬運(yùn)機(jī)器人的又一方面，其中，所述通風(fēng)部由表面中形成有多個(gè)孔的罩
構(gòu)件覆蓋。根據(jù)所述搬運(yùn)機(jī)器人的又一方面，其中，所述通風(fēng)部是這樣的，即:在所述基部單元的所述上表面中與所述引導(dǎo)單元的上部對(duì)應(yīng)的那一部分的寬度被設(shè)定成大于在所述基部單元的所述上表面中不與所述引導(dǎo)單元的所述上部對(duì)應(yīng)的部分的寬度。[0013]根據(jù)所述搬運(yùn)機(jī)器人的又一方面，其中，所述引導(dǎo)單元設(shè)置成與形成所述基部單元的側(cè)壁之中的一個(gè)側(cè)壁相鄰，并且當(dāng)從上方觀看時(shí)所述通風(fēng)部形成為與所述引導(dǎo)單元的一部分重疊。[0014]根據(jù)所述搬運(yùn)機(jī)器人的又一方面，該搬運(yùn)機(jī)器人還包括排風(fēng)部，所述排風(fēng)部包括:風(fēng)扇，所述風(fēng)扇設(shè)置在所述基部單元的側(cè)壁中；以及排風(fēng)罩，所述排風(fēng)罩設(shè)置成覆蓋所述風(fēng)扇并且成形為豎直向下地排出來(lái)自所述風(fēng)扇的排出流。[0015]根據(jù)所述搬運(yùn)機(jī)器人的又一方面，其中，所述排風(fēng)部設(shè)置在位于所述引導(dǎo)單元所鄰近的側(cè)壁的相對(duì)側(cè)的側(cè)壁中。[0016]本實(shí)用新型的另一方面涉及一種設(shè)備前端模塊，該設(shè)備前端模塊包括所述搬運(yùn)機(jī)器人。[0017]根據(jù)實(shí)施方式的一方面，能夠抑制因升降操作而產(chǎn)生顆粒物。


[0018]由于通過(guò)結(jié)合附圖參照下列詳細(xì)說(shuō)明更好地理解對(duì)本裝置的更全面的認(rèn)識(shí)以及本裝置的許多附帶優(yōu)點(diǎn)，因此能夠容易地獲得對(duì)本裝置的更全面的認(rèn)識(shí)以及本裝置的許多附帶優(yōu)點(diǎn)，在附圖中:[0019]圖1是示出根據(jù)一實(shí)施方式的搬運(yùn)機(jī)器人的整體構(gòu)造的示意性立體圖；[0020]圖2A是從上方所看的基部單元的第一示意圖；[0021]圖2B是示出從側(cè)表面所看的常規(guī)技術(shù)和當(dāng)前實(shí)施方式之間的對(duì)比的示意圖；[0022]圖2C是從上方所看的基部單元的第二示意圖；[0023]圖3A是從Y軸的正向所看的基部單元的內(nèi)部示意圖；[0024]圖3B是從Y軸的負(fù)向所看的基部單元的示意圖；[0025]圖4A是從X軸的正向所看的基部單元的內(nèi)部示意圖；[0026]圖4B是從上方所看的基部單元的示意圖，用于說(shuō)明在表面A側(cè)的通風(fēng)部的寬度；以及[0027]圖5是從X軸的正向所看的基部單元的內(nèi)部示意圖，示出了所引入的向下流的流路。
具體實(shí)施方式
[0028]在下文中，將參照附圖詳細(xì)地說(shuō)明在本申請(qǐng)中公開(kāi)的搬運(yùn)機(jī)器人和包括搬運(yùn)機(jī)器人的設(shè)備前端模塊的實(shí)施方式。該裝置不局限于下列實(shí)施方式。[0029]在下文中，以設(shè)置在EFEM中并且搬運(yùn)作為待搬運(yùn)物體的半導(dǎo)體晶片的搬運(yùn)機(jī)器人為例進(jìn)行說(shuō)明。此外，“半導(dǎo)體晶片”被描述為“晶片”。而且，作為末端執(zhí)行器的“機(jī)器人手”被描述為“手”。[0030]首先，將參照?qǐng)D1說(shuō)明根據(jù)一實(shí)施方式的搬運(yùn)機(jī)器人的構(gòu)造。圖1是示出根據(jù)該實(shí)施方式的搬運(yùn)機(jī)器人10的構(gòu)造的示意性立體圖。[0031]為了便于理解說(shuō)明，在圖1中，示出了包括Z軸的三維卡笛爾坐標(biāo)系，在該Z軸中，正向?yàn)樨Q直向上方向，負(fù)向?yàn)樨Q直向下方向。因此，沿著XY平面的方向表示“水平方向”。在一些情況下，在用于下文說(shuō)明的其它圖中也示出該卡笛爾坐標(biāo)系。而且，在下文中，對(duì)于由多個(gè)元件組成的部件，這些元件中的僅一個(gè)元件被標(biāo)以附圖標(biāo)記，并且在一些情況下省略其它元件的附圖標(biāo)記。在該情況下，標(biāo)記有附圖標(biāo)記的那個(gè)元件以及其它元件具有相同的構(gòu)造。如圖1所示，搬運(yùn)機(jī)器人10包括手11、升降單元12、第一臂13、第二臂14和基部單元15。基部單元15包括通風(fēng)部15a和排風(fēng)部15b。第一臂13和第二臂14構(gòu)成作為搬運(yùn)機(jī)器人10的臂的臂單元?；繂卧?5形成為大體盒形，并且是搬運(yùn)機(jī)器人10的固定到EFEM的底壁部(未示出)的主體?；繂卧?5不必固定到EFEM的底壁部，并且例如可以固定到側(cè)壁部。而且，基部單元15可以形成為能夠沿著設(shè)置在EFEM中的行進(jìn)機(jī)構(gòu)等移動(dòng)而不固定。通風(fēng)部15a是開(kāi)通在基部單元15的上表面中的開(kāi)口。通風(fēng)部15a將經(jīng)由設(shè)置在EFEM的上部中的過(guò)濾器單元(未示出)形成的清潔空氣的向下流引入基部單元15中，以進(jìn)行通風(fēng)。此外，排風(fēng)部15b豎直向下排出從外部通到基部單元15的內(nèi)部的向下流的排氣流。稍后將參照?qǐng)D2A和隨后的附圖描述通風(fēng)部15a和排風(fēng)部15b的詳細(xì)構(gòu)造。升降單元12設(shè)置成能夠沿著豎直地布置在基部單元15中的豎直軸升降(參見(jiàn)圖1中的雙頭箭頭al)，并且沿著豎直方向(Z軸方向)升降支承在上端部處的整個(gè)臂單元。第一臂13經(jīng)由繞軸線(xiàn)a2的旋轉(zhuǎn)關(guān)節(jié)(未示出)連接到升降單元12，以能夠相對(duì)于升降單元12樞轉(zhuǎn)(參見(jiàn)圖1中的繞軸線(xiàn)a2的雙頭箭頭)。第二臂14經(jīng)由繞軸線(xiàn)a3的旋轉(zhuǎn)關(guān)節(jié)(未示出)連接到第一臂13，以能夠相對(duì)于第一臂13樞轉(zhuǎn)(參見(jiàn)圖1中的繞軸線(xiàn)a3的雙頭箭頭)。作為保持晶片的末端執(zhí)行器的手11經(jīng)由繞軸線(xiàn)a4的旋轉(zhuǎn)關(guān)節(jié)(未示出)連接到第二臂14，以能夠相對(duì)于第二臂14樞轉(zhuǎn)(參見(jiàn)圖1中的繞軸線(xiàn)a4的雙頭箭頭)。因此，包括手11的整個(gè)臂單元沿水平方向移動(dòng)。上述各旋轉(zhuǎn)關(guān)節(jié)均根據(jù)諸如馬達(dá)的驅(qū)動(dòng)源的驅(qū)動(dòng)而旋轉(zhuǎn)。例如，使旋轉(zhuǎn)關(guān)節(jié)繞軸線(xiàn)a2旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動(dòng)源設(shè)置在形成為包括開(kāi)通在升降單元12的上表面中的開(kāi)口 12a的空間中。接下來(lái)，將參照?qǐng)D2A和圖2C說(shuō)明基部單元15的詳細(xì)構(gòu)造。圖2A和圖2C是從上方所看的基部單元15的示意圖。如參照?qǐng)D1已經(jīng)說(shuō)明的,如圖2A所示,基部單元15在其上表面中包括通風(fēng)部15a。通風(fēng)部15a沿著升降單元12的外周形成。如圖2A所示，開(kāi)口 12a在升降單元12的上表面中設(shè)置在X軸的負(fù)向側(cè)的部分中。與開(kāi)口 12a—起，升降單元12自身也設(shè)置在X軸的負(fù)向側(cè)。這樣，開(kāi)口 12a和升降單元12設(shè)置成沿預(yù)定方向偏移，因此，臂單元的樞轉(zhuǎn)區(qū)域在預(yù)定方向側(cè)能夠增大。然后，在該情況下，如圖2A所示，通風(fēng)部15a沿著升降單元12的外周的一部分(即，沿著基部單元15的不包括沿上述預(yù)定方向的側(cè)壁的其他側(cè)壁)形成為由區(qū)域A、區(qū)域B和區(qū)域C構(gòu)成的大體U形。此時(shí)，通風(fēng)部15a形成為使得區(qū)域A、區(qū)域B和區(qū)域C均具有足夠的寬度。將參照?qǐng)D2B說(shuō)明上述足夠的寬度。圖2B是示出從側(cè)表面所看的常規(guī)技術(shù)和本實(shí)施方式之間的對(duì)比的示意圖。圖2B示意性地示出位于紙面的左側(cè)的常規(guī)技術(shù)中的升降單元12和基部單元15’，并示出位于紙面的右側(cè)的本實(shí)施方式中的升降單元12和基部單元15。如圖2B中的左側(cè)所示，在常規(guī)技術(shù)中，在升降單元12和基部單元15’之間設(shè)置有空間15a’，以能夠進(jìn)行升降操作。然而，例如，當(dāng)升降單元升起(參見(jiàn)圖2B中的箭頭201)時(shí)，容易產(chǎn)生通過(guò)空間15a’的紊流(參見(jiàn)圖2B中的彎曲箭頭)。于是，在常規(guī)技術(shù)中，顆粒物P能借助紊流而分散并且擴(kuò)散到EFEM中，并且會(huì)污染
曰
曰曰/T ο因此，如圖2B中的右側(cè)所示，在本實(shí)施方式中，在升降單元12和基部單元15之間設(shè)置具有足夠?qū)挾鹊耐L(fēng)部15a。本實(shí)施方式中的足夠?qū)挾仁侵高@樣的寬度，該寬度足以使得難以造成紊流并且即使升降單元12例如升起(參見(jiàn)圖2B中的箭頭)也平滑地引導(dǎo)由箭頭202所示的向下流。因而，因?yàn)榭梢允沟妙w粒物P難以因紊流而分散并且借助向下流容易將顆粒物P限制在基部單元15中，因此能夠抑制因升降操作而產(chǎn)生顆粒物P。稍后將參照?qǐng)D4B詳細(xì)地描述圖2A中所示的區(qū)域A的寬度WA被設(shè)定得大于通風(fēng)部15a中的區(qū)域B的寬度WB的方面的內(nèi)容。而且，在下文中，如圖2A所示，在一些情況下，區(qū)域A的形成基座單元15的一側(cè)的側(cè)壁被描述為“表面A”，并且區(qū)域B的形成基座單元15的一側(cè)的側(cè)壁被描述為“表面B”。如圖2C所示，可以設(shè)置罩構(gòu)件15c來(lái)覆蓋通風(fēng)部15a，在該罩構(gòu)件的表面中形成有多個(gè)孔并且該罩構(gòu)件例如由被稱(chēng)為網(wǎng)構(gòu)件或穿孔金屬的材料制成。這些孔的形狀、布置等不被具體限制，并且可以采用任何形狀和布置，只要其可以引導(dǎo)向下流而不在基座單元15中產(chǎn)生紊流即可。圖2C通過(guò)畫(huà)陰影而示出其中在罩構(gòu)件15c的表面中大致均勻地形成多個(gè)孔的情況。這樣，因?yàn)槟軌颢@得整流作用并且使得在基部單元15中難以出現(xiàn)紊流，因此大致均勻地形成多個(gè)孔是更優(yōu)選的。因而，向下流能夠被整流并且通過(guò)這些孔被平滑地排出到基部單元15中。在本實(shí)施方式中，罩構(gòu)件15c設(shè)置成覆蓋通風(fēng)部15a，然而，為了便于理解說(shuō)明，在一些情況下在圖中省略了該罩構(gòu)件15c。接下來(lái)，將參照?qǐng)D3A和圖3B說(shuō)明從側(cè)表面所看的基部單元15的詳細(xì)構(gòu)造。圖3A是從Y軸的正向所看的(即，從“表面A”側(cè)所看的)基部單元15的內(nèi)部示意圖。圖3B是從Y軸的負(fù)向所看的(即，從“表面B”側(cè)所看的)基部單元15的示意圖。如圖3A所示，基部單元15中包括:滾珠絲杠15SS，該滾珠絲杠為豎直布置的豎直軸；以及一對(duì)導(dǎo)軌15SR。滾珠絲杠15SS和一對(duì)導(dǎo)軌15SR構(gòu)成引導(dǎo)單元15S。此外，基部單元15包括馬達(dá)M。馬達(dá)M的輸出軸經(jīng)由正時(shí)帶TB連接到滾珠絲杠15SS的下端部，并且使?jié)L珠絲杠15SS繞軸心旋轉(zhuǎn)(參見(jiàn)圖3A中的雙頭箭頭301)。如圖3A所示，在升降單元12的下端部處設(shè)置有升降基座12B。升降基座12B包括滾珠螺母13Ba和升降體12Bb。[0061]滾珠螺母13Ba是這樣的構(gòu)件，其通過(guò)與滾珠絲杠15SS接合并且將滾珠絲杠15SS的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)轉(zhuǎn)換為直線(xiàn)運(yùn)動(dòng)而能夠沿著滾珠絲杠15SS移動(dòng)。此外，升降體12Bb是以可滑動(dòng)的方式與導(dǎo)軌15SR接合的構(gòu)件。[0062]因而，升降基座12B能夠隨著滾珠絲杠15SS的旋轉(zhuǎn)而沿著引導(dǎo)單元15S移動(dòng)(參見(jiàn)圖3A中的雙頭箭頭302)，并且升降所述升降單元12。[0063]此外，如圖3B所示，基部單元15包括位于“表面B”中的排風(fēng)部15b。排風(fēng)部15b包括風(fēng)扇15ba和設(shè)置成覆蓋該風(fēng)扇15ba的排風(fēng)罩15bb。[0064]風(fēng)扇15ba排出通入基部單元15中的向下流。排風(fēng)罩15bb是成形為豎直向下地排出來(lái)自風(fēng)扇15ba的排出流的罩構(gòu)件。[0065]在圖3B中，以實(shí)線(xiàn)表示設(shè)置一個(gè)排風(fēng)部15b的情況，然而，排風(fēng)部15b的數(shù)量和排風(fēng)部15b的布置位置不受限制，例如，可以在與排風(fēng)部15b對(duì)稱(chēng)的位置處設(shè)置另一排風(fēng)部15b,如由雙點(diǎn)劃線(xiàn)所表示的。[0066]此外，如由圖3B中的雙點(diǎn)劃線(xiàn)所表示的，例如可以在排風(fēng)部15b的上方等設(shè)置空氣入口 15d。在設(shè)置有空氣入口 15d的情況下，當(dāng)待被引導(dǎo)通過(guò)通風(fēng)部15a的向下流變得不足時(shí)，向下流例如能夠從側(cè)壁側(cè)能夠得以補(bǔ)償并且被引入其中大氣壓力降低的基部單元15中，并且能夠整流基部單元15中的向下流的排出流的由升降單元12的不規(guī)則性引起的擾動(dòng)。[0067]因此，能夠?qū)⑾蛳铝鞒浞值匾牖繂卧?5中并且能夠整流基部單元15中的向下流的排出流的擾動(dòng)，因此能夠防止顆粒物分散。如圖3B所示，更優(yōu)選的是，以與通風(fēng)部15a的情況類(lèi)似的方式提供罩構(gòu)件15c來(lái)覆蓋空氣入口 15d，以用于獲得整流向下流的整流作用。[0068]此外，圖3B示出了其中空氣入口 15d設(shè)置在還設(shè)置有排風(fēng)部15b的“表面B”中的示例，然而，供設(shè)置空氣入口 15d的表面不被具體限制，并且該空氣入口 15d可以設(shè)置在形成基部單元15的任何側(cè)壁中。此外，圖3B的例示不限制空氣入口 15d的形狀和空氣入口15d的數(shù)量。[0069]將參照?qǐng)D4A闡述參照?qǐng)D3A和圖3B說(shuō)明的引導(dǎo)單元15S和排風(fēng)部15b之間的布置關(guān)系。圖4A是從X軸的正向所看的基部單元15的內(nèi)部示意圖。[0070]如圖4A所示，包括滾珠絲杠15SS和導(dǎo)軌15SR的引導(dǎo)單元15S設(shè)置成鄰近于基部單元15的“表面A”。此外，如上所述，排風(fēng)部15b設(shè)置在基部單元15的“表面B”中。[0071]因此，引導(dǎo)單元15S和排風(fēng)部15b設(shè)置在基部單元的兩個(gè)相對(duì)側(cè)壁上。馬達(dá)M設(shè)置在這兩個(gè)相對(duì)側(cè)壁之間。[0072]基于以上方面的內(nèi)容，接下來(lái)，將說(shuō)明通過(guò)風(fēng)部15a在表面A側(cè)的寬度(B卩，圖2A中所示的區(qū)域A的寬度WA)。圖4B是從上方所看的基部單元15的示意圖，用于說(shuō)明通風(fēng)部15a在表面A側(cè)的寬度。[0073]如圖4B所示并且以上的說(shuō)明，構(gòu)成引導(dǎo)單元15S的滾珠絲杠15SS和導(dǎo)軌15SR設(shè)置成鄰近于基部單元15的“表面A”。[0074]因此，升降基座12B的設(shè)置成能夠相對(duì)于引導(dǎo)單元15S滑動(dòng)的升降體12Bb等也設(shè)置在基部單元15的“表面A”附近。[0075]換言之，在本實(shí)施方式中，容易因升降單元12的升降操作而使顆粒物P分散的可動(dòng)單元集中在基部單元15的“表面A”附近?；诖?，通風(fēng)部15a的區(qū)域A的寬度WA設(shè)置得比其它寬度(例如區(qū)域B的寬度WB)大，由此將向下流積極地引入集中有可動(dòng)單元的“表面A”中。具體地，如圖4B所示，當(dāng)從上方觀看時(shí)，通風(fēng)部15a形成為保持區(qū)域A的寬度WA，使得構(gòu)成引導(dǎo)單元15S的各構(gòu)件(諸如滾珠絲杠15SS和導(dǎo)軌15SR)的至少一部分與通風(fēng)部15a重疊。因而，可以有效地抑制位于容易產(chǎn)生顆粒物P的可動(dòng)部處的顆粒物P。接下來(lái)，將參照?qǐng)D5說(shuō)明引入基部單元15中的向下流的流路。圖5是從X軸的正向所看的基部單元15的內(nèi)部示意圖，示出了所引入的向下流的流路。圖5僅以簡(jiǎn)單的方式示出了為了說(shuō)明所必需的構(gòu)件。如圖5所示，通過(guò)移動(dòng)升降基座12B而使得升降單元12升起(參見(jiàn)圖5中的箭頭501)。在該情況下，從位于“表面A”側(cè)的區(qū)域A引入的向下流(參見(jiàn)圖5中的箭頭502)在通過(guò)升降單元12的升起而形成的空間D中沿著基部單元15的內(nèi)壁繞流，并且遵循到達(dá)排風(fēng)部15b的流路(參見(jiàn)圖5中的箭頭504)。以此方式形成的向下流的流路能夠冷卻馬達(dá)M，同時(shí)有效地抑制在可動(dòng)單元處產(chǎn)生的顆粒物P。此外，如圖5所示，從區(qū)域A以外的區(qū)域(例如，“表面B”側(cè)的區(qū)域B)引入的向下流(參見(jiàn)圖5中的箭頭503)沿著升降單元12的外周以豎直方向向下流動(dòng)，并且遵循到達(dá)排風(fēng)部15b的流路(參見(jiàn)圖5中的箭頭505)。于是，該向下流與從區(qū)域A引入的向下流一起從排風(fēng)部15b豎直向下地排出(參見(jiàn)圖5中的箭頭506)。換言之，引入到基部單元15中的向下流被排出，使得該向下流不干擾位于基部單元15外的整個(gè)EFEM中的向下流，同時(shí)在基部單元15中整流并抑制顆粒物P。因此，能夠?qū)⒐┎贾冒徇\(yùn)機(jī)器10的整個(gè)EFEM中的向下流環(huán)境保持在適當(dāng)狀態(tài)，同時(shí)抑制因搬運(yùn)機(jī)器人10的升降操作而產(chǎn)生顆粒物P。如上所述，根據(jù)本實(shí)施方式的搬運(yùn)機(jī)器人包括臂單元、基部單元、引導(dǎo)單元、升降單元以及通風(fēng)部。所述臂單元包括機(jī)器人手，該機(jī)器人手能夠保持待被搬運(yùn)的物體。所述基部單元形成為大體盒形形狀。所述引導(dǎo)單元包括豎直地布置在基部單元中的豎直軸。所述升降單元設(shè)置成能夠沿著豎直軸升降并且在上端部處支承臂單元。所述通風(fēng)部在基部單元的上表面中開(kāi)口并且將向下流從基部單元的外部引至其內(nèi)部。因此，根據(jù)本實(shí)施方式中的搬運(yùn)機(jī)器人，能夠抑制因升降操作而產(chǎn)生顆粒物。上述實(shí)施方式示出了其中升降單元相對(duì)于基部單元設(shè)置在預(yù)定方向側(cè)的情況，然而，升降單元相對(duì)于基部單元的布置位置不受限制。因此，例如，升降單元可以設(shè)置在基部單元的中央。此外，上述實(shí)施方式示出了其中將升降所述升降單元的機(jī)構(gòu)(在下文中，被描述為“升降機(jī)構(gòu)”)構(gòu)造成包括滾珠絲杠和滾珠螺母的情況，然而，升降機(jī)構(gòu)的部件不局限于此。例如，升降機(jī)構(gòu)可以構(gòu)造成通過(guò)驅(qū)動(dòng)一帶或驅(qū)動(dòng)一線(xiàn)性馬達(dá)來(lái)升降所述升降單元。此外，上述實(shí)施方式例示了其中通風(fēng)部沿著升降單元的外周的一部分形成的情況，然而，通風(fēng)部可以形成為圍繞升降單元的整個(gè)外周。[0090]此外，上述實(shí)施方式例示了其中升降單元支承沿水平方向移動(dòng)的臂單元的情況，然而，臂單元的移動(dòng)方向不受限制。[0091]此外，上述實(shí)施方式通過(guò)例示出單臂機(jī)器人來(lái)進(jìn)行說(shuō)明，然而，臂單元的數(shù)量不受限制，只要包括支承臂單元的升降單元即可。因此，可以采用具有兩個(gè)或更多個(gè)臂的多臂機(jī)器人。[0092]此外，上述實(shí)施方式通過(guò)例示了其中在臂單元的末端部設(shè)置一個(gè)手的情況來(lái)進(jìn)行說(shuō)明，然而，手的數(shù)量不受限制并且可以是兩個(gè)或更多個(gè)。[0093]此外，上述實(shí)施方式通過(guò)例示了其中待搬運(yùn)的物體主要為晶片的情況來(lái)進(jìn)行說(shuō)明，然而，待搬運(yùn)的物體的類(lèi)型不受限制。
權(quán)利要求1.一種搬運(yùn)機(jī)器人，所述搬運(yùn)機(jī)器人包括: 臂單元，所述臂單元包括機(jī)器人手，所述機(jī)器人手能夠保持待被搬運(yùn)的物體； 基部單元，所述基部單元形成為大體盒形形狀； 引導(dǎo)單元，所述引導(dǎo)單元包括豎直地設(shè)置在所述基部單元中的豎直軸； 升降單元，所述升降單元設(shè)置成能夠沿著所述豎直軸升降并且在上端部處支承所述臂單元；以及 通風(fēng)部，所述通風(fēng)部在所述基部單元的上表面中開(kāi)口，并且將向下流從所述基部單元的外部引至其內(nèi)部。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的搬運(yùn)機(jī)器人，其中，所述通風(fēng)部沿著所述升降單元的外周形成在所述基部單元的所述上表面中。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的搬運(yùn)機(jī)器人，其中， 所述升降單元設(shè)置成與形成所述基部單元的側(cè)壁之中的一個(gè)側(cè)壁相鄰，并且 所述通風(fēng)部沿著除所述一個(gè)側(cè)壁之外的側(cè)壁形成。
4.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3所述的搬運(yùn)機(jī)器人，其中，所述通風(fēng)部由表面中形成有多個(gè)孔的罩構(gòu)件覆蓋。
5.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3所述的搬運(yùn)機(jī)器人，其中，所述通風(fēng)部是這樣`的，即:在所述基部單元的所述上表面中與所述引導(dǎo)單元的上部對(duì)應(yīng)的那一部分的寬度被設(shè)定成大于在所述基部單元的所述上表面中不與所述引導(dǎo)單元的所述上部對(duì)應(yīng)的部分的寬度。
6.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3所述的搬運(yùn)機(jī)器人，其中， 所述弓I導(dǎo)單元設(shè)置成與形成所述基部單元的側(cè)壁之中的一個(gè)側(cè)壁相鄰，并且 當(dāng)從上方觀看時(shí)所述通風(fēng)部形成為與所述引導(dǎo)單元的一部分重疊。
7.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3所述的搬運(yùn)機(jī)器人，該搬運(yùn)機(jī)器人還包括排風(fēng)部，所述排風(fēng)部包括:風(fēng)扇，所述風(fēng)扇設(shè)置在所述基部單元的側(cè)壁中；以及排風(fēng)罩，所述排風(fēng)罩設(shè)置成覆蓋所述風(fēng)扇并且成形為豎直向下地排出來(lái)自所述風(fēng)扇的排出流。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的搬運(yùn)機(jī)器人，其中，所述排風(fēng)部設(shè)置在位于所述引導(dǎo)單元所鄰近的側(cè)壁的相對(duì)側(cè)的側(cè)壁中。
9.一種設(shè)備前端模塊，該設(shè)備前端模塊包括根據(jù)權(quán)利要求1所述的搬運(yùn)機(jī)器人。
專(zhuān)利摘要本實(shí)用新型涉及搬運(yùn)機(jī)器人和包括搬運(yùn)機(jī)器人的設(shè)備前端模塊。根據(jù)實(shí)施方式的搬運(yùn)機(jī)器人包括臂單元、基部單元、引導(dǎo)單元、升降單元和通風(fēng)部。所述臂單元包括機(jī)器人手，所述機(jī)器人手能夠保持待被搬運(yùn)的物體。所述基部單元形成為大體盒形形狀。所述引導(dǎo)單元包括豎直地設(shè)置在所述基部單元中的豎直軸。所述升降單元設(shè)置成能夠沿著所述豎直軸升降并且在上端部處支承所述臂單元。所述通風(fēng)部在所述基部單元的上表面中開(kāi)口，并且將向下流從所述基部單元的外部引至其內(nèi)部。
文檔編號(hào)B25J9/00GK202964647SQ20122069475
公開(kāi)日2013年6月5日 申請(qǐng)日期2012年12月14日 優(yōu)先權(quán)日2012年6月1日
發(fā)明者古市昌稔, 鈴木雅之 申請(qǐng)人:株式會(huì)社安川電機(jī)