專利名稱：非接觸式真空墊的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種真空墊，是用于真空移送系統(tǒng)中，起到吸附物品的作用，尤其 是，涉及一種在非接觸狀態(tài)下，能夠吸附物品的非接觸式真空墊。
背景技術(shù)：
所謂“真空移送系統(tǒng)”，是指通過壓縮空氣作用，在真空墊內(nèi)形成負(fù)壓，然后 利用形成的負(fù)壓吸附物品并將其移送到指定位置的系統(tǒng)。在這種系統(tǒng)中較為常用的是接 觸式真空墊，但是，這種方式的真空墊直接與物品的表面接觸，因此容易對(duì)物品的表面 造成損傷或污染。
尤其是，用于電子產(chǎn)品顯示器的面板等對(duì)微小的劃痕或變形以及異物等會(huì)產(chǎn)生 非常敏感的反應(yīng)，故在移送時(shí)不適宜使用上述接觸式襯墊。由此，近來人們對(duì)于非接觸 式襯墊的需求正在逐漸增加。
依據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的非接觸式真空墊如圖1及圖2所示，在兩個(gè)附圖中，對(duì)于功能相 同的結(jié)構(gòu)使用了相同的標(biāo)記表示。如圖所示，非接觸式真空墊包括本體1，在其中央 形成壓縮空氣供給孔2 ；導(dǎo)流構(gòu)件3，其與上述本體1的下部供給孔2相結(jié)合并引導(dǎo)空氣 向側(cè)向流動(dòng)。
通過上述本體1的供給孔2向真空墊內(nèi)供給的壓縮空氣在導(dǎo)流構(gòu)件3的作用下向 側(cè)向引導(dǎo)，然后沿本體1底面邊緣高速流動(dòng)并向外部排出。此時(shí)，通過伯努利(Bernoulli) 效應(yīng)可知，在真空墊與物品P之間會(huì)形成真空，從而通過與大氣的壓力差產(chǎn)生負(fù)壓。
在所形成的負(fù)壓作用下，物品P接近真空墊并被吸附。但是，在真空墊與物品 P之間d在壓縮空氣的排出壓力作用下形成最小間隔，從而保持非接觸狀態(tài)。從這種意 義上來說，稱為非接觸式真空墊。
上述非接觸式真空墊與接觸式襯墊相比，它非常適合于處理需要保持精密表面 的物品。但是，這種結(jié)構(gòu)的真空墊所能夠達(dá)到的真空度有一定的限制，即使能達(dá)到其限 定標(biāo)準(zhǔn)也需要花費(fèi)大量的時(shí)間。因此，在處理重型物品時(shí)完全不可靠。
例如即便通過向上述非接觸式真空墊中以較快的速度供給較多量的壓縮空 氣，再以較快的速度將其排出，也能夠獲得較好的真空度。但在這個(gè)過程中，消耗了過 多的能量。
作為另一項(xiàng)現(xiàn)有技術(shù)，是實(shí)用新型登記第401259號(hào)中記載的非接觸式夾具 (gripper)。上述夾具包括貫通非接觸襯墊向外部延伸的與上述導(dǎo)流構(gòu)件3相應(yīng)的真空軟 管，雖未對(duì)其進(jìn)行說明。但是，上述真空軟管與單獨(dú)設(shè)置的真空泵相連接。
上述夾具通過驅(qū)動(dòng)單獨(dú)設(shè)置的真空泵，將非接觸式襯墊下側(cè)的空氣強(qiáng)制排出。 因此，與上述非接觸式真空墊相比，它能夠更加迅速地獲得具有更高標(biāo)準(zhǔn)的真空。但 是，在這里還伴隨著真空軟管及其安裝結(jié)構(gòu)、真空泵等設(shè)計(jì)較為復(fù)雜的問題。另外，除 了對(duì)物品進(jìn)行吸附所需的能量之外，還另外需要在驅(qū)動(dòng)真空泵上消耗能量的問題。發(fā)明內(nèi)容
技術(shù)課題
本發(fā)明就是為解決上述依據(jù)現(xiàn)有技術(shù)所存在的問題而研發(fā)的。換句話說，本發(fā) 明的目的在于，提供一種真空墊，其能夠獲得高標(biāo)準(zhǔn)的負(fù)壓及真空度，可靠地處理重型 物品。本發(fā)明的另一個(gè)目的在于，提供一種非接觸式真空墊，其通過并不復(fù)雜的設(shè)計(jì)， 提高能量的有效利用，具有經(jīng)濟(jì)優(yōu)勢(shì)。
技術(shù)方案
依據(jù)本發(fā)明的非接觸式真空墊包括本體和導(dǎo)流構(gòu)件以及排出通道，該排出通 道通過上述本體和導(dǎo)流構(gòu)件形成。其中，上述本體還包括在中央形成的壓縮空氣供給 孔和在上述供給孔下端形成的向外擴(kuò)散面。這部分與現(xiàn)有技術(shù)并無差異。
上述導(dǎo)流構(gòu)件包括中央流入槽，其沒有沿上述本體的下部邊緣突出設(shè)置，并 與上述供給孔相連通；一個(gè)以上的流道，其從上述流入槽貫通壁面形成；吸入孔，其從 底面延伸與上述流道相連接。另外，上述排出通道為排出向上述供給孔供給的壓縮空氣 的通道，其沿上述導(dǎo)流構(gòu)件的流道、本體的擴(kuò)散面及邊緣延伸形成。
上述流道最好是以流入槽為中心形成放射狀的多個(gè)流道。各流道最好是串聯(lián)的 多端流道，并在相鄰的流道之間設(shè)置上述吸入孔。上述吸入孔最好以環(huán)狀設(shè)置。上述吸 入孔最好具有在下端形成的擴(kuò)散面。這種設(shè)計(jì)有利于迅速而順利地吸入空氣。
另外，上述導(dǎo)流構(gòu)件中心側(cè)底面最好相對(duì)外廓側(cè)底面形成凹陷。這樣就能夠確 保比處于同一平面時(shí)具有更大的真空空間，從而獲得更高的真空度及吸附力。
有益效果
依據(jù)本發(fā)明的真空墊，當(dāng)高速的壓縮空氣通過排出通道時(shí)，真空墊下側(cè)吸入外 部空氣，與壓縮空氣一起排出，從而實(shí)現(xiàn)更加迅速地形成具有更高的真空度，能夠更加 可靠地處理重型物品。另外，為實(shí)現(xiàn)這種效果也無需復(fù)雜的設(shè)計(jì)或更多的能量以及其它 的能源。因此，不論是從經(jīng)濟(jì)性方面還是從能量有效利用方面來說，都具有非常有益的 效果。


圖1是表示依據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的非接觸式真空墊的截面圖2是表示依據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的另一個(gè)非接觸式真空墊的截面圖3是表示依據(jù)本發(fā)明的非接觸式真空墊的截面圖4是表示根據(jù)圖3所示導(dǎo)流構(gòu)件的仰視圖5是表示對(duì)依據(jù)本發(fā)明的非接觸式真空墊的作用進(jìn)行說明的示意圖。
附圖標(biāo)記說明
11.本體 12.導(dǎo)流構(gòu)件
13.供給孔14.擴(kuò)散面
18.流道 19.吸入孔
20.擴(kuò)散面具體實(shí)施方式
對(duì)于上述記載或未記載的本發(fā)明的特征及效果，將參照?qǐng)D3至圖5對(duì)本發(fā)明的實(shí) 施例進(jìn)行詳細(xì)說明。
如圖3所示，本發(fā)明的非接觸式真空墊用符號(hào)10表示。上述真空墊10包括 本體11;導(dǎo)流構(gòu)件12，其與上述本體11下部相結(jié)合；壓縮空氣排出通道，其在上述本 體11與導(dǎo)流構(gòu)件12之間形成。在這里，上述本體11包括壓縮空氣供給孔13，其在 本體11中央形成；向外擴(kuò)散面14，其在上述供給孔13的下端形成。這部分與現(xiàn)有技術(shù) 并無差異。但是，上述向外擴(kuò)散面可以選擇為傾斜面或者環(huán)形面。
上述導(dǎo)流構(gòu)件12沒有沿上述本體11的下部邊緣15突出設(shè)置，優(yōu)選地，不沿在 本體11供給孔13的下端形成的向外擴(kuò)散面14突出設(shè)置。例如如果導(dǎo)流構(gòu)件12突出， 真空墊10與物品(圖5中的P)間就會(huì)接觸。
上述導(dǎo)流構(gòu)件12包括中央流入槽16，其與上述供給孔13相連通；一個(gè)以上 的流道18，其從上述流入槽16貫通壁面17形成；吸入孔19，其從底面延伸并與上述流 道18相連接。雖然圖中沒有標(biāo)示，但是，在上述流道18上可以安裝管型噴嘴。
上述排出通道為排出向上述本體11供給孔13供給的壓縮空氣的通道，該排出通 道沿上述導(dǎo)流構(gòu)件12的流道18、本體11的擴(kuò)散面14及邊緣15延伸形成。
如圖4所示，上述導(dǎo)流構(gòu)件12的流道18是以流入槽16為中心形成放射狀的多個(gè) 流道。如果流道18的個(gè)數(shù)過多，就會(huì)降低壓縮空氣的排出速度。因此，考慮這一因素， 需要選擇合適的數(shù)量。圖中所示上述吸入孔19形成一個(gè)環(huán)狀，并與各個(gè)流道18相通。這 樣有利于將外部空氣，即真空墊10與物品(圖5中的P)之間的空氣迅速而順利地吸入。
上述各流道18是以口徑擴(kuò)大狀態(tài)串聯(lián)的多端流道18a、18b，此時(shí)，在相鄰流道 18a、18b之間設(shè)置上述吸入孔19。壓縮空氣從口徑較窄的流道18a以最高速度通過。這 樣，外部空氣就會(huì)通過吸入孔19流入到壓縮空氣。然后，在口徑較大的流道18b匯合并 被排出。這種流道18的形狀對(duì)外部空氣排出非常有效。
再參照?qǐng)D3可知，上述吸入孔19具有在下端形成的擴(kuò)散面20。這種結(jié)構(gòu)有利于 迅速而順利地將真空墊10下側(cè)的外部空氣吸入。另外，上述導(dǎo)流構(gòu)件12中心的底面21 相對(duì)外廓側(cè)底面22形成凹陷。這樣就能夠確保比整個(gè)底面處于同一平面時(shí)具有更大的真 空空間，從而使真空墊10獲得更高的真空度及吸附力。
上述導(dǎo)流構(gòu)件12的外廓側(cè)底面22沿左右側(cè)延伸突出設(shè)置，這樣就能夠引導(dǎo)流經(jīng) 上述流道18的壓縮空氣自然地沿?cái)U(kuò)散面14排出。
如圖5所示，壓縮空氣是向本體11的供給孔13供給，然后再向?qū)Я鳂?gòu)件12的 流入槽16流入。再經(jīng)由排出通道，即流道18、擴(kuò)散面14、邊緣15向外部排出(參照箭 頭撾)。
在這一過程中，通過伯努利效應(yīng)可知，真空墊10與物品P之間空氣的一部分在 擴(kuò)散面14附近與壓縮空氣匯合并一起排出(參照箭頭25)。同時(shí)，真空墊10與物品P之 間的另一部分空氣通過吸入孔19流入壓縮空氣，在流道18b中與壓縮空氣匯合并一起排 出(參照箭頭26)。
因此，在真空墊10與物品P之間產(chǎn)生真空及負(fù)壓，通過所產(chǎn)生負(fù)壓，物品P向 真空墊10靠近并被吸附(參照箭頭27)。
對(duì)于上述真空墊10來說，當(dāng)壓縮空氣通過排出通道時(shí)，真空墊下側(cè)的外部空氣 通過擴(kuò)散面14附近及吸入孔19流入壓縮空氣，然后，與壓縮空氣匯合并一起排出。這 樣，就能夠更加迅速地形成具有更高標(biāo)準(zhǔn)的真空及負(fù)壓。另外，為實(shí)現(xiàn)這種效果，無需 復(fù)雜的設(shè)計(jì)或更多的能量或其它的能源。
權(quán)利要求
1.一種非接觸式真空墊，其特征在于，它包括本體，壓縮空氣供給孔在其中央形成，并具有在上述供給孔下端形成的向外擴(kuò)散 面；中央流入槽，其不沿上述本體下部邊緣突出，并與上述供給孔相連通；一個(gè)以上的 流道，其從上述流入槽貫通壁面形成；導(dǎo)流構(gòu)件，其具有從底面延伸并與上述流道相連 接的吸入孔；壓縮空氣排出通道，其沿上述導(dǎo)流構(gòu)件的流道、本體的擴(kuò)散面及邊緣延伸 形成，上述流道是以口徑擴(kuò)大狀態(tài)串聯(lián)的多端流道，此時(shí)，在相鄰流道之間設(shè)置上述吸 入孔。
2.如權(quán)利要求1所述的非接觸式真空墊，其特征在于 上述流道是以流入槽為中形成放射狀的多個(gè)流道。
3.如權(quán)利要求1所述的非接觸式真空墊，其特征在于 上述吸入孔形成環(huán)狀。
4.如權(quán)利要求1所述的非接觸式真空墊，其特征在于 上述吸入孔具有在下端部形成的擴(kuò)散面。
5.如權(quán)利要求1所述的非接觸式真空墊，其特征在于 上述導(dǎo)流構(gòu)件的中心底面相對(duì)上述外廓側(cè)底面形成凹陷。
6.如權(quán)利要求1所述的非接觸式真空墊，其特征在于 上述流道內(nèi)部安裝有管型噴嘴。
7.如權(quán)利要求1所述的非接觸式真空墊，其特征在于 上述本體的向外擴(kuò)散面選擇為傾斜面或者環(huán)形面。
8.如權(quán)利要求1所述的非接觸式真空墊，其特征在于 上述導(dǎo)流構(gòu)件的外廓側(cè)底面向左右側(cè)延伸突出。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種非接觸式真空墊，是用于真空移送系統(tǒng)中，起到吸附物品的作用。本發(fā)明的真空墊包括本體和導(dǎo)流構(gòu)件；以及排出通道，其通過上述本體和導(dǎo)流構(gòu)件形成。上述導(dǎo)流構(gòu)件包括中央流入槽，其沒有沿上述本體的下部邊緣突出，并與上述供給孔相連通；一個(gè)以上的流道，其從上述流入槽貫通壁面形成；吸入孔，其從底面延伸并與上述流道相連接。當(dāng)壓縮空氣通過流道時(shí)，真空墊下側(cè)的外部空氣通過擴(kuò)散面附近及吸入孔流入壓縮空氣，再與壓縮空氣匯合并一起排出。此時(shí)，真空墊和物品之間的空間所產(chǎn)生的負(fù)壓就能夠強(qiáng)力地吸附物品。
文檔編號(hào)B25J15/06GK102026896SQ200980117297
公開日2011年4月20日 申請(qǐng)日期2009年3月17日 優(yōu)先權(quán)日2008年5月13日
發(fā)明者趙鎬英 申請(qǐng)人:韓國(guó)氣壓系統(tǒng)有限公司