本實(shí)用新型涉及家用電器,具體而言,涉及一種內(nèi)鍋。
背景技術(shù):
現(xiàn)有技術(shù)中利用電磁加熱的烹飪器具中,其內(nèi)鍋的底端均設(shè)置有導(dǎo)磁層,同時(shí)內(nèi)鍋底部設(shè)置有與感溫裝置配合的凹陷結(jié)構(gòu),而上述的凹陷結(jié)構(gòu)會(huì)導(dǎo)致結(jié)合層附著力差,導(dǎo)磁層起皮的現(xiàn)象。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本實(shí)用新型的主要目的在于提供一種內(nèi)鍋,以解決現(xiàn)有技術(shù)中的內(nèi)鍋底部導(dǎo)磁層容易起皮問(wèn)題。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型提供了一種內(nèi)鍋,其用于電磁加熱的煲體內(nèi),煲體收容內(nèi)鍋的外鍋底部中心具有感溫裝置,內(nèi)鍋包括由鋁板材經(jīng)模塑成型的內(nèi)鍋本體,內(nèi)鍋本體包括底壁、及與底壁連接的圓環(huán)形側(cè)壁,底壁外表面經(jīng)過(guò)粗化處理,再熔射冶金結(jié)合層,再熔射導(dǎo)磁層,再熔射氧化犧牲層,再涂保護(hù)漆,最后燒結(jié),底壁為球冠形,且底壁中間位置對(duì)應(yīng)煲體的溫度傳感器位置與底壁其他部分平滑設(shè)置。
進(jìn)一步地,底壁在粗化處理之前,底壁的外表面先經(jīng)過(guò)車(chē)削0.2毫米至0.5毫米,并在底壁與側(cè)壁之間形成臺(tái)階,冶金結(jié)合層、導(dǎo)磁層及氧化犧牲層主要填充于底壁被車(chē)削的表面。
進(jìn)一步地,內(nèi)鍋本體的側(cè)壁、臺(tái)階與底壁為回轉(zhuǎn)體形狀,臺(tái)階與底壁及側(cè)壁的回轉(zhuǎn)體母線為平滑過(guò)渡連接。
進(jìn)一步地,內(nèi)鍋本體的側(cè)壁、臺(tái)階與底壁為回轉(zhuǎn)體形狀,臺(tái)階具有與底壁連接的倒圓角。
進(jìn)一步地,內(nèi)鍋本體的側(cè)壁、臺(tái)階與底壁為回轉(zhuǎn)體形狀,臺(tái)階的母線與側(cè)壁的外表面母線在臺(tái)階的母線處的切線呈大于120度的夾角。
進(jìn)一步地,內(nèi)鍋本體的厚度在為2.0毫米以上。
進(jìn)一步地,粗化處理使內(nèi)鍋本體的底壁外表面表面粗糙度達(dá)到30微米到60微米。
進(jìn)一步地,冶金結(jié)合層為鎳鋁熔射形成,且冶金結(jié)合層的外表面粗糙度為40微米至100微米之間。
進(jìn)一步地,在覆蓋氧化犧牲層之后,涂保護(hù)漆之前,增加打磨工序,使氧化犧牲層并不完全覆蓋導(dǎo)磁層,以提高電磁效率。
進(jìn)一步地,氧化犧牲層為純鋁熔射形成。
進(jìn)一步地,導(dǎo)磁層的厚度在0.3至0.6毫米之間。
應(yīng)用本實(shí)用新型的技術(shù)方案,底壁中間位置對(duì)應(yīng)煲體的溫度傳感器位置與底壁其他部分平滑設(shè)置,進(jìn)而能夠提高結(jié)合層在鍋底的附著力,從而防止導(dǎo)磁層的起皮現(xiàn)象。因此本實(shí)用新型的技術(shù)方案解決了現(xiàn)有技術(shù)中的內(nèi)鍋底部導(dǎo)磁層容易起皮問(wèn)題。
附圖說(shuō)明
構(gòu)成本申請(qǐng)的一部分的說(shuō)明書(shū)附圖用來(lái)提供對(duì)本實(shí)用新型的進(jìn)一步理解,本實(shí)用新型的示意性實(shí)施例及其說(shuō)明用于解釋本實(shí)用新型,并不構(gòu)成對(duì)本實(shí)用新型的不當(dāng)限定。在附圖中:
圖1示出了根據(jù)本實(shí)用新型的內(nèi)鍋的實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2示出了圖1中內(nèi)鍋的剖面示意圖;
圖3示出了圖2中A處放大示意圖;以及
圖4示出了圖1中內(nèi)鍋的導(dǎo)磁層的制作流程圖。
其中,上述附圖包括以下附圖標(biāo)記:
10、內(nèi)鍋本體;11、底壁;12、側(cè)壁;13、臺(tái)階;131、倒圓角;14、導(dǎo)磁層;α、夾角。
具體實(shí)施方式
需要說(shuō)明的是,在不沖突的情況下,本申請(qǐng)中的實(shí)施例及實(shí)施例中的特征可以相互組合。下面將參考附圖并結(jié)合實(shí)施例來(lái)詳細(xì)說(shuō)明本實(shí)用新型。
如圖1和圖2所示,本實(shí)施例的內(nèi)鍋用于電磁加熱的煲體內(nèi),煲體收容內(nèi)鍋的外鍋底部中心具有感溫裝置。內(nèi)鍋包括由鋁板材經(jīng)模塑成型的內(nèi)鍋本體10,內(nèi)鍋本體10包括底壁11、及與底壁11連續(xù)弧線連接的圓環(huán)形側(cè)壁12,底壁11外表面經(jīng)過(guò)粗化處理,再熔射冶金結(jié)合層,再熔射導(dǎo)磁層14,再熔射氧化犧牲層,再涂保護(hù)漆,最后燒結(jié)。底壁11近似球冠形,且底壁11中間位置對(duì)應(yīng)煲體的溫度傳感器位置與底壁11其他部分平滑設(shè)置。
應(yīng)用本實(shí)施例的技術(shù)方案,底壁11中間位置對(duì)應(yīng)煲體的溫度傳感器位置與底壁11其他部分平滑設(shè)置,進(jìn)而能夠提高結(jié)合層在鍋底的附著力,從而防止導(dǎo)磁層14的起皮現(xiàn)象。因此本實(shí)施例的技術(shù)方案解決了現(xiàn)有技術(shù)中的內(nèi)鍋底部導(dǎo)磁層容易起皮問(wèn)題。
如圖1至圖3所示,在本實(shí)施例的技術(shù)方案中,內(nèi)鍋本體10在底壁11的外表面經(jīng)機(jī)械切削形成臺(tái)階13,導(dǎo)磁層14熔射填充在底壁11的臺(tái)階13內(nèi)。
應(yīng)用本實(shí)施例的技術(shù)方案,內(nèi)鍋本體10的底壁11經(jīng)機(jī)械切削形成臺(tái)階13,因此內(nèi)鍋的側(cè)壁12和底壁11具有明顯的分界線,進(jìn)而便于導(dǎo)磁層14以及其他材料層在底壁的熔射。通過(guò)調(diào)整臺(tái)階13的位置,即可達(dá)到調(diào)整特定熔射區(qū)域的目的。因此本實(shí)施例的技術(shù)方案解決了現(xiàn)有技術(shù)中的內(nèi)鍋在噴涂導(dǎo)磁層時(shí)難以對(duì)特定區(qū)域進(jìn)行噴涂的問(wèn)題。同時(shí),設(shè)置臺(tái)階13也能夠增加各材料層的附著力,提高產(chǎn)品的質(zhì)量。
如圖3所示,在本實(shí)施例的技術(shù)方案中,內(nèi)鍋本體10的側(cè)壁12、臺(tái)階13與底壁11為回轉(zhuǎn)體形狀,臺(tái)階13與底壁11及側(cè)壁12的回轉(zhuǎn)體母線為平滑過(guò)渡連接。上述平滑過(guò)渡能夠減少在燒結(jié)時(shí)氣泡的形成。
如圖3所示,在本實(shí)施例的技術(shù)方案中,內(nèi)鍋本體10的側(cè)壁12、臺(tái)階13與底壁11為回轉(zhuǎn)體形狀,臺(tái)階13具有與底壁11連接的倒圓角131。上述的倒圓角131能夠減少在燒結(jié)時(shí)氣泡的形成。
如圖3所示,在本實(shí)施例的技術(shù)方案中,內(nèi)鍋本體10的側(cè)壁12、臺(tái)階13與底壁11為回轉(zhuǎn)體形狀,臺(tái)階13的母線與側(cè)壁12的外表面母線在臺(tái)階13的母線處的切線呈大于120度的夾角α。夾角α不宜過(guò)小,夾角α太小會(huì)在燒結(jié)時(shí)產(chǎn)生氣泡。
如圖2所示,在本實(shí)施例的技術(shù)方案中,內(nèi)鍋本體10的厚度在2毫米以上。內(nèi)鍋本體10的厚度不宜過(guò)小,以防止切削加工過(guò)程中內(nèi)鍋?zhàn)冃巍?/p>
在本實(shí)施例的技術(shù)方案中,粗化處理使內(nèi)鍋本體10的底壁11的外表面表面粗糙度達(dá)到30微米到60微米。較大的表面粗糙度可以提高熔射材料的附著力。
在本實(shí)施例的技術(shù)方案中,底壁11被切除的深度在0.2毫米至0.5毫米之間。通過(guò)優(yōu)化底壁11被切除的厚度可以防止熔射層起皮。
在本實(shí)施例的技術(shù)方案中,冶金結(jié)合層為鎳鋁熔射形成,且冶金結(jié)合層的外表面粗糙度為40微米至100微米之間。具體地,鎳鋁合金能夠具有處于鋁鍋基體與純鐵導(dǎo)磁層之間的膨脹系數(shù),且適度的表面粗糙利于提高后續(xù)熔射導(dǎo)磁層的附著力。
在本實(shí)施例的技術(shù)方案中,在覆蓋氧化犧牲層之后,涂保護(hù)漆之前,增加打磨工序,使氧化犧牲層并不完全覆蓋導(dǎo)磁層,以提高電磁效率。通過(guò)打磨氧化犧牲層能夠減少電磁波被氧化犧牲層屏蔽的程度。
在本實(shí)施例的技術(shù)方案中,氧化犧牲層為純鋁熔射形成。純鋁成本低,并且能對(duì)純鐵導(dǎo)磁層起到先氧化犧牲保護(hù)作用。
如圖1所示,在本實(shí)施例的技術(shù)方案中,內(nèi)鍋本體10的側(cè)壁12在內(nèi)鍋本體10的口部收縮,形成整體呈球形的內(nèi)鍋。
如圖2所示,在本實(shí)施例的技術(shù)方案中,內(nèi)鍋本體10的側(cè)壁12、臺(tái)階13與底壁11為回轉(zhuǎn)體形狀,底壁11的外表面母線具有曲率半徑在65毫米至85毫米之間的曲線。上述曲線的曲率半徑較小,能夠提高各附著層附著與基體的結(jié)合力。
在本實(shí)施例的技術(shù)方案中,粗化處理為噴24-30目砂處理。
如圖4所示,本實(shí)施例中的內(nèi)鍋的導(dǎo)磁層具體制作方法如下:先對(duì)內(nèi)鍋本體10的底壁進(jìn)行清洗,然后噴砂打磨,打磨后除塵。然后在底壁噴冶金結(jié)合層,同時(shí)噴導(dǎo)磁層,其中導(dǎo)磁層位純鐵,同時(shí)純鐵中可以添加其他元素進(jìn)而改進(jìn)新能。然后噴涂防腐層(氧化犧牲層)以及覆蓋保護(hù)層。完成上述噴涂步驟后燒結(jié)成型。
以上所述僅為本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例而已,并不用于限制本實(shí)用新型,對(duì)于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來(lái)說(shuō),本實(shí)用新型可以有各種更改和變化。凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi),所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等,均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。