本發(fā)明涉及陶瓷行業(yè)的瓷磚生產(chǎn)制造領(lǐng)域，尤其涉及一種防止瓷磚坯底粘釉漿的裝置及其控制方法。

背景技術(shù)：

現(xiàn)有技術(shù)中，在陶瓷磚生產(chǎn)過程中，施釉是生產(chǎn)過程中的一個(gè)重要的工藝環(huán)節(jié)之一。目前行業(yè)中施釉方式使用得較多的是鐘罩淋釉和直線淋釉，即把淋釉器安裝在生產(chǎn)釉線上方，利用釉線皮帶把瓷磚坯體托送運(yùn)輸經(jīng)過淋釉器下方，使釉料覆蓋到瓷磚坯體表面。為保障生產(chǎn)的穩(wěn)定性，淋釉器為連續(xù)工作不間斷地流下釉料，而瓷磚坯體則是間斷式通過淋釉器，因此在沒有磚坯經(jīng)過淋釉器的時(shí)間里，從淋釉器流下來的釉料就會(huì)經(jīng)過釉線皮帶掉到釉料回收盤里，在此過程中無法避免地會(huì)有一部分釉料流到釉線皮帶上，造成皮帶污染?，F(xiàn)行業(yè)內(nèi)普遍的做法是在皮帶末端放一大塊濕海綿，通過濕海綿擦拭釉線皮帶上的釉料，但是時(shí)間稍長海綿上就會(huì)積攢較多的釉料，如果海綿清洗或更換不及時(shí)就會(huì)擦不干凈，這樣釉線皮帶上的釉料就會(huì)粘在瓷磚底部，瓷磚燒結(jié)的過程中瓷磚底部的釉料又會(huì)粘在窯爐輥棒上，影響輥棒的使用壽命。同時(shí)，濕海綿經(jīng)過長時(shí)間的摩擦磨損后會(huì)有海綿碎屑粘在釉線皮帶上，進(jìn)而進(jìn)入到回收的釉料中，影響回收釉料的質(zhì)量。

在現(xiàn)有技術(shù)中，專利cn201620012363.1公開了一種節(jié)釉淋釉裝置，包括第一輸送裝置、第二輸送裝置和淋釉器，淋釉器位于第一輸送裝置和第二輸送裝置的上方，第二輸送裝置的進(jìn)料端與第一輸送裝置的出料端對(duì)應(yīng)，第一輸送裝置和第二輸送裝置之間留有可讓釉料通過的間隙，釉料可通過間隙而不會(huì)流到第一輸送裝置和第二輸送裝置的表面，保持輸送裝置的清潔且釉料可回收再利用。但是由于地磚磚坯強(qiáng)度比較低，具有一定的彈性，盡管第一輸送裝置和第二輸送裝置配備的動(dòng)力相同，但是不能保障兩個(gè)輸送裝置運(yùn)行速度一致，兩個(gè)輸送裝置速度不匹配，磚坯從第一輸送裝置運(yùn)行到第二輸送裝置時(shí)會(huì)有小震動(dòng)，從而出現(xiàn)磚坯暗裂甚至裂磚現(xiàn)象，因此此裝置較適用于經(jīng)過素?zé)鬀]有彈性的墻磚素坯淋釉。專利cn201510034943.0公開了一種節(jié)釉裝置，對(duì)輸送皮帶進(jìn)行了凹陷處理，并在凹陷區(qū)內(nèi)安裝釉料回收裝置，可以解決釉料浪費(fèi)在輸送皮帶上的問題。此裝置解決了凹陷區(qū)兩頭皮帶同步性問題，但是也盡局限于兩頭皮帶在相同負(fù)重的情況下，加上釉漿流下覆蓋在磚坯表面上，對(duì)磚坯有向下的沖擊力，所以磚坯經(jīng)過凹陷區(qū)的時(shí)候也存在震動(dòng)現(xiàn)象，仍可能會(huì)造成磚坯暗裂。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明的目的在于提供一種防止瓷磚坯底粘釉漿的裝置及其控制方法，通過對(duì)現(xiàn)有淋釉生產(chǎn)線進(jìn)行改造，安裝擋釉裝置，使淋釉時(shí)釉漿不會(huì)流到釉線皮帶上，而是通過擋釉裝置直接回到接釉盤內(nèi)。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用如下技術(shù)方案：

一種防止瓷磚坯底粘釉漿的裝置，包括釉線裝置、淋釉裝置和擋釉裝置，所述釉線裝置位于所述淋釉裝置的下方，所述擋釉裝置位于所述淋釉裝置的淋釉位置的下方。

所述釉線裝置包括皮帶輪、釉線皮帶、皮帶托槽、支撐桿、釉線支架，所述皮帶輪帶動(dòng)所述釉線皮帶運(yùn)行，所述釉線皮帶鑲嵌在所述皮帶托槽內(nèi)，所述皮帶托槽通過所述支撐桿固定在所述釉線支架上。

所述擋釉裝置包括擋釉槽、擋釉板固定桿，傳動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述擋釉槽通過所述擋釉板固定桿與所述傳動(dòng)機(jī)構(gòu)連接，所述擋釉槽傾斜設(shè)置在所述釉線皮帶的上方。

其中，所述傳動(dòng)機(jī)構(gòu)包括傳動(dòng)連桿、支撐傳動(dòng)桿和活動(dòng)關(guān)節(jié)。

所述傳動(dòng)連桿包括第一傳動(dòng)連桿和第二傳動(dòng)連桿，所述支撐傳動(dòng)桿包括第一支撐桿和第二支撐桿，所述活動(dòng)關(guān)節(jié)包括兩個(gè)第一活動(dòng)關(guān)節(jié)和兩個(gè)第二活動(dòng)關(guān)節(jié)。

所述擋釉板固定桿與所述第一傳動(dòng)連桿固定連接，所述第一支撐傳動(dòng)桿一端與所述第一傳動(dòng)連桿通過其中一個(gè)所述第一活動(dòng)關(guān)節(jié)連接，另一端與所述第二傳動(dòng)連桿通過其中一個(gè)所述第二活動(dòng)關(guān)節(jié)連接，所述第二支撐傳動(dòng)桿一端與所述第一傳動(dòng)連桿通過另一個(gè)所述第一活動(dòng)關(guān)節(jié)連接，另一端與所述第二傳動(dòng)連桿通過另一個(gè)所述第二活動(dòng)關(guān)節(jié)連接。

所述支撐傳動(dòng)桿上設(shè)有活動(dòng)軸，所述支撐傳動(dòng)桿能夠圍繞所述活動(dòng)軸轉(zhuǎn)動(dòng)。

其中，所述傳動(dòng)機(jī)構(gòu)還包括控制電柜、氣缸、第三傳動(dòng)連桿，所述控制電柜與所述氣缸連接，所述氣缸通過所述第三傳動(dòng)連桿與所述第二傳動(dòng)連桿連接。

其中，所述傳動(dòng)機(jī)構(gòu)還包括第一電眼傳感器和第二電眼傳感器，其中所述第一電眼傳感器安裝在瓷磚坯進(jìn)入所述淋釉裝置的下方位置，所述第二電眼傳感器安裝在瓷磚坯離開所述淋釉裝置的下方位置。

所述淋釉裝置包括穩(wěn)壓罐、鐘罩和擋釉布，所述穩(wěn)壓罐位于所述鐘罩的上方，所述擋釉布設(shè)置在所述鐘罩的內(nèi)側(cè)邊緣。

沿著所述傾斜的擋釉槽釉漿下落的位置設(shè)有接釉盤。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明還采用如下技術(shù)方案：

一種防止瓷磚坯底粘釉漿裝置的控制方法，包括以下步驟：

識(shí)別判斷釉線裝置的釉線皮帶上的瓷磚坯是否位于淋釉裝置的下方位置。

根據(jù)所述瓷磚坯位于所述淋釉裝置的下方位置時(shí)，推動(dòng)擋釉裝置使擋釉裝置不擋著所述釉線裝置的釉線皮帶，讓釉漿從淋釉裝置流落覆蓋到瓷磚坯表面；否則拉回所述擋釉裝置使擋釉裝置擋著所述釉線裝置的釉線皮帶，讓釉漿從淋釉裝置流落在所述擋釉裝置的傾斜設(shè)置的擋釉槽上。

其中，所述步驟“識(shí)別判斷釉線裝置的釉線皮帶上的瓷磚坯是否位于淋釉裝置的下方位置”中，具體步驟包括：

利用第一電眼傳感器安裝在瓷磚坯進(jìn)入所述淋釉裝置的下方位置來識(shí)別判斷釉線裝置的釉線皮帶上的瓷磚坯是否進(jìn)入所述淋釉裝置的下方位置。

利用第二電眼傳感器安裝在瓷磚坯離開所述淋釉裝置的下方位置來識(shí)別判斷釉線裝置的釉線皮帶上的陶瓷磚坯是否離開所述淋釉裝置的下方位置。

所述擋釉裝置包括擋釉槽、擋釉板固定桿，傳動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述擋釉槽通過所述擋釉板固定桿與所述傳動(dòng)機(jī)構(gòu)連接，所述擋釉槽傾斜設(shè)置在所述釉線皮帶的上方位置。

所述傳動(dòng)機(jī)構(gòu)包括傳動(dòng)連桿、支撐傳動(dòng)桿和活動(dòng)關(guān)節(jié)。

所述傳動(dòng)連桿包括第一傳動(dòng)連桿和第二傳動(dòng)連桿，所述支撐傳動(dòng)桿包括第一支撐桿和第二支撐桿，所述活動(dòng)關(guān)節(jié)包括兩個(gè)第一活動(dòng)關(guān)節(jié)和兩個(gè)第二活動(dòng)關(guān)節(jié)。

所述擋釉板固定桿與所述第一傳動(dòng)連桿固定連接，所述第一支撐傳動(dòng)桿一端與所述第一傳動(dòng)連桿通過其中一個(gè)所述第一活動(dòng)關(guān)節(jié)連接，另一端與所述第二傳動(dòng)連桿通過其中一個(gè)所述第二活動(dòng)關(guān)節(jié)連接，所述第二支撐傳動(dòng)桿一端與所述第一傳動(dòng)連桿通過另一個(gè)所述第一活動(dòng)關(guān)節(jié)連接，另一端與所述第二傳動(dòng)連桿通過另一個(gè)所述第二活動(dòng)關(guān)節(jié)連接。

其中，所述步驟“根據(jù)所述瓷磚坯位于所述淋釉裝置的下方位置時(shí)，推動(dòng)擋釉裝置使擋釉裝置不擋著所述釉線裝置的釉線皮帶，讓釉漿從淋釉裝置流落覆蓋到瓷磚坯表面”，具體的步驟包括：

根據(jù)所述瓷磚坯位于所述淋釉裝置的下方位置時(shí)。

推動(dòng)所述第二傳動(dòng)連桿向右運(yùn)動(dòng)，帶動(dòng)所述支撐傳動(dòng)桿以所述活動(dòng)軸為軸點(diǎn)逆時(shí)針轉(zhuǎn)動(dòng)，同時(shí)所述第一傳動(dòng)連桿向左下方做圓弧移動(dòng)，所述第一傳動(dòng)連桿同時(shí)帶動(dòng)所述擋釉槽向下移動(dòng)。

當(dāng)所述擋釉槽往下移動(dòng)至所述擋釉槽的槽頂與所述皮帶托槽頂點(diǎn)一樣高時(shí)停止運(yùn)動(dòng)，所述瓷磚坯剛好運(yùn)行到所述擋釉槽上方位置。

其中，所述步驟“否則拉回所述擋釉裝置使擋釉裝置擋著所述釉線裝置的釉線皮帶，讓釉漿從淋釉裝置流落在所述擋釉裝置的傾斜設(shè)置的擋釉槽上”，具體的步驟包括：

根據(jù)所述瓷磚坯不位于所述淋釉裝置的下方位置時(shí)。

拉回所述第二傳動(dòng)連桿向左運(yùn)動(dòng)，帶動(dòng)所述支撐傳動(dòng)桿以所述活動(dòng)軸為軸點(diǎn)順時(shí)針轉(zhuǎn)動(dòng)，同時(shí)所述第一傳動(dòng)連桿向右上方做圓弧移動(dòng)，所述第一傳動(dòng)連桿同時(shí)帶動(dòng)所述擋釉槽向上移動(dòng)。

當(dāng)所述擋釉槽沿往上移動(dòng)至所述擋釉槽的槽頂位于所述釉線皮帶正上方時(shí)停止運(yùn)動(dòng)。

本發(fā)明所闡述的一種防止瓷磚坯底粘釉漿的裝置，其有益效果在于：

1、與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的擋釉裝置包括擋釉槽、擋釉板固定桿，傳動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述擋釉槽通過所述擋釉板固定桿與所述傳動(dòng)機(jī)構(gòu)連接，所述擋釉槽傾斜設(shè)置在所述釉線皮帶的上方，當(dāng)所述釉線皮帶上的瓷磚坯進(jìn)入到所述淋釉裝置的下方時(shí)，傾斜的擋釉槽往下移動(dòng)，使得所述擋釉槽的槽頂與所述皮帶托槽頂點(diǎn)一樣高時(shí)，所述陶瓷磚坯剛好運(yùn)行到所述擋釉槽上方，此時(shí)釉漿從鐘罩上流下覆蓋到所述瓷磚坯上表面；

當(dāng)所述釉線皮帶上的瓷磚坯離開所述淋釉裝置的下方時(shí)，傾斜的擋釉槽往上移動(dòng)，當(dāng)所述擋釉槽沿往上移動(dòng)至所述擋釉槽的槽頂位于所述釉線皮帶正上方時(shí)停止運(yùn)動(dòng)時(shí)，此時(shí)釉漿從鐘罩上流下到所述擋料槽里回到接釉盤，而不會(huì)讓釉漿落到釉線皮帶上，這樣也就保證運(yùn)動(dòng)在釉線皮帶上的瓷磚坯的底部不會(huì)粘著釉漿。

2、由于流下的釉料并未受到污染，釉料可回收再次利用，不會(huì)造成浪費(fèi)和污染環(huán)境。

3、與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的擋釉裝置的所述擋釉裝置包括擋釉槽、擋釉板固定桿，傳動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述傳動(dòng)機(jī)構(gòu)包括傳動(dòng)連桿、支撐傳動(dòng)桿和活動(dòng)關(guān)節(jié)，所述擋釉板固定桿與所述第一傳動(dòng)連桿固定連接，通過所述第二傳動(dòng)連桿的左右來回的運(yùn)動(dòng)，轉(zhuǎn)化為所述擋釉槽的上下來回運(yùn)動(dòng)，設(shè)計(jì)獨(dú)特，在實(shí)際中有很大的優(yōu)勢。

4、與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的擋釉裝置的傳動(dòng)機(jī)構(gòu)還包括控制電柜、氣缸、第三傳動(dòng)連桿，所述控制電柜與所述氣缸連接，所述氣缸通過所述第三傳動(dòng)連桿與所述第二傳動(dòng)連桿連接，使得傳動(dòng)機(jī)構(gòu)能夠自動(dòng)的左右來回運(yùn)動(dòng)。

5、與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的擋釉裝置的傳動(dòng)機(jī)構(gòu)還包括第一電眼傳感器和第二電眼傳感器，使傳動(dòng)機(jī)構(gòu)的運(yùn)動(dòng)的速度與位移與釉線裝置的所述釉線皮帶的速度一起配合，實(shí)現(xiàn)更加智能化的運(yùn)作。

6、與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明防止瓷磚坯底粘釉漿裝置的淋釉裝置包括穩(wěn)壓罐、鐘罩和擋釉布，所述穩(wěn)壓罐位于所述鐘罩的上方，所述擋釉布設(shè)置在所述鐘罩的內(nèi)側(cè)邊緣，所述擋釉布能夠引導(dǎo)釉漿流到指定的位置。

附圖說明

圖1是本發(fā)明實(shí)施例的一種防止瓷磚坯底粘釉漿裝置的側(cè)視示意圖。

圖2是本發(fā)明實(shí)施例的一種防止瓷磚坯底粘釉漿裝置的主視示意圖。

附圖標(biāo)記說明：

1、釉線裝置，11、皮帶輪，12、釉線皮帶，13、皮帶托槽，14、支撐桿，15、釉線支架，2、淋釉裝置，21、穩(wěn)壓罐，22、鐘罩，23擋釉布，24、接釉盤，3、擋釉裝置，31、擋釉槽，32、擋釉板固定桿，33、傳動(dòng)機(jī)構(gòu)，331、第一傳動(dòng)連桿，332、第二傳動(dòng)連桿，333、第一支撐傳動(dòng)桿，3331、第一活動(dòng)軸，334、第二支撐傳動(dòng)桿，3341、第二活動(dòng)軸，3342固定桿，3351、左第一活動(dòng)關(guān)節(jié)，3352、右第一活動(dòng)關(guān)節(jié)，3361、左第二活動(dòng)關(guān)節(jié)，3362、右第二活動(dòng)關(guān)節(jié)，337、控制電柜，338、氣缸，339、第三傳動(dòng)連桿，340第一電眼傳感器，341、第二電眼傳感器。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖與具體實(shí)施例來對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步描述。

參照?qǐng)D1所示，為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明實(shí)施例的防止瓷磚坯底粘釉漿的裝置采用如下技術(shù)方案：所述防止瓷磚坯底粘釉漿的裝置包括釉線裝置1、淋釉裝置2和擋釉裝置3，所述釉線裝置1位于所述淋釉裝置2的下方，所述擋釉裝置3位于所述淋釉裝置2的淋釉位置的下方；

所述釉線裝置1包括皮帶輪11、釉線皮帶12、皮帶托槽13、支撐桿14、釉線支架15，所述皮帶輪11帶動(dòng)所述釉線皮帶12運(yùn)行，所述釉線皮帶12鑲嵌在所述皮帶托槽13內(nèi)，所述皮帶托槽13通過所述支撐桿14固定在所述釉線支架15上；

所述擋釉裝置3包括擋釉槽31、擋釉板固定桿32，傳動(dòng)機(jī)構(gòu)33，所述擋釉槽31通過所述擋釉板固定桿32與所述傳動(dòng)機(jī)構(gòu)33連接，所述擋釉槽31傾斜設(shè)置在所述釉線皮帶12的上方位置。

其中，所述傳動(dòng)機(jī)構(gòu)33包括第一傳動(dòng)連桿331、第二傳動(dòng)連桿332、第一支撐傳動(dòng)桿333、第二支撐傳動(dòng)桿334，第一活動(dòng)關(guān)節(jié)，第二活動(dòng)關(guān)節(jié)；

第一活動(dòng)關(guān)節(jié)包括，其中左邊的為左第一活動(dòng)關(guān)節(jié)3351，右邊的為右第一活動(dòng)關(guān)節(jié)3352。

第二活動(dòng)關(guān)節(jié)包括，其中左邊的為左第二活動(dòng)關(guān)節(jié)3361，右邊的為右第一活動(dòng)關(guān)節(jié)3362。

所述擋釉板固定桿32與所述第一傳動(dòng)連桿331固定連接，所述第一支撐傳動(dòng)桿333一端與所述第一傳動(dòng)連桿331通過左第一活動(dòng)關(guān)節(jié)3351連接，另一端與所述第二傳動(dòng)連桿332通過左第二活動(dòng)關(guān)節(jié)3361連接，所述第二支撐傳動(dòng)桿334一端與所述第一傳動(dòng)連桿331通過右第一活動(dòng)關(guān)節(jié)3352連接，另一端與所述第二傳動(dòng)連桿332通過右第二活動(dòng)關(guān)節(jié)3362連接；

所述一支撐傳動(dòng)桿333、第二支撐傳動(dòng)桿334上分別設(shè)有第一活動(dòng)軸3331、第二活動(dòng)軸3341，所述第一支撐傳動(dòng)桿333能夠圍繞所述第一活動(dòng)軸3331轉(zhuǎn)動(dòng)，第二支撐傳動(dòng)桿334能夠圍繞所述第二活動(dòng)軸3341轉(zhuǎn)動(dòng)，所述第一活動(dòng)軸3331通過固定桿(圖中沒標(biāo)出)固定在釉線支架15上，第二活動(dòng)軸3341通過固定桿3342固定在釉線支架15上。

作為優(yōu)選，所述傳動(dòng)機(jī)構(gòu)33還包括控制電柜337、氣缸338、第三傳動(dòng)連桿339，所述控制電柜337與所述氣缸338連接，所述氣缸338通過所述第三傳動(dòng)連桿339與所述第二傳動(dòng)連桿332連接。

作為優(yōu)選，所述傳動(dòng)機(jī)構(gòu)33還包括第一電眼傳感器340和第二電眼傳感器341，其中所述第一電眼傳感器340安裝在進(jìn)入所述淋釉裝置2的下方位置，所述第二電眼傳感器341安裝在離開所述淋釉裝置2的下方位置。

其中，所述淋釉裝置2包括穩(wěn)壓罐21、鐘罩22和擋釉布23，所述穩(wěn)壓罐21位于所述鐘罩22的上方，所述擋釉布23設(shè)置在所述鐘罩22的內(nèi)側(cè)邊緣。

其中，沿所述傾斜的擋釉槽31下落的位置設(shè)有接釉盤24。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明還采用如下技術(shù)方案：

一種防止瓷磚坯底粘釉漿裝置的控制方法，包括以下步驟：

識(shí)別判斷釉線裝置1的釉線皮帶12上的陶瓷磚坯是否位于淋釉裝置2的下方；

根據(jù)所述陶瓷磚坯位于所述淋釉裝置2的下方時(shí)，推動(dòng)擋釉裝置3使擋釉裝置3不擋著所述釉線裝置1的釉線皮帶12，讓釉漿從淋釉裝置2流落覆蓋到陶瓷磚坯表面；否則拉回所述擋釉裝置3使擋釉裝置3擋著所述釉線裝置1的釉線皮帶12，讓釉漿從淋釉裝置2流落在所述擋釉裝置3的傾斜設(shè)置的擋釉槽31上。

其中，所述步驟“識(shí)別判斷釉線裝置1的釉線皮帶12上的陶瓷磚坯是否位于淋釉裝置2的下方”中，具體步驟包括：

利用第一電眼傳感器340安裝在進(jìn)入所述淋釉裝置2的下方位置來識(shí)別判斷釉線裝置1的釉線皮帶12上的陶瓷磚坯是否進(jìn)入所述淋釉裝置2的下方；

利用第二電眼傳感器341安裝在離開所述淋釉裝置2的下方位置來識(shí)別判斷釉線裝置1的釉線皮帶12上的陶瓷磚坯是否離開所述淋釉裝置2的下方。

其中，所述擋釉裝置3包括擋釉槽31、擋釉板固定桿32，傳動(dòng)機(jī)構(gòu)33，所述擋釉槽31通過所述擋釉板固定桿32與所述傳動(dòng)機(jī)構(gòu)33連接，所述擋釉槽31傾斜設(shè)置在所述釉線皮帶12的上方；

其中步驟“根據(jù)所述陶瓷磚坯位于所述淋釉裝置2的下方時(shí)，推動(dòng)擋釉裝置3使擋釉裝置3不擋著所述釉線裝置1的釉線皮帶12，讓釉漿從淋釉裝置2流落覆蓋到陶瓷磚坯表面”中，具體的步驟包括：

根據(jù)所述陶瓷磚坯位于所述淋釉裝置2的下方時(shí)；

推動(dòng)所述第二傳動(dòng)連桿332向右運(yùn)動(dòng)，帶動(dòng)所述一支撐傳動(dòng)桿333、第二支撐傳動(dòng)桿334分別以所述第一活動(dòng)軸3331和第二活動(dòng)軸3341為軸點(diǎn)逆時(shí)針轉(zhuǎn)動(dòng)，同時(shí)與所述一支撐傳動(dòng)桿333和第二支撐傳動(dòng)桿334通過所述左第一活動(dòng)關(guān)節(jié)3351、右第一活動(dòng)關(guān)節(jié)3352連接的第一傳動(dòng)連桿331向左下方做圓弧移動(dòng)，所述第一傳動(dòng)連桿331同時(shí)帶動(dòng)所述擋釉槽31向下移動(dòng)；

當(dāng)所述擋釉槽31沿往下移動(dòng)至所述擋釉槽31的槽頂與所述皮帶托槽13頂點(diǎn)一樣高時(shí)停止運(yùn)動(dòng)，所述陶瓷磚坯剛好運(yùn)行到所述擋釉槽31上方。

其中，所述其中步驟“否則拉回所述擋釉裝置3使擋釉裝置3擋著所述釉線裝置1的釉線皮帶12，讓釉漿從淋釉裝置2流落在所述擋釉裝置3的傾斜設(shè)置的擋油槽31上”中，具體的步驟包括：

根據(jù)所述陶瓷磚坯不位于所述淋釉裝置2的下方時(shí)；

拉回所述第二傳動(dòng)連桿332向左運(yùn)動(dòng)，帶動(dòng)所述一支撐傳動(dòng)桿333和第二支撐傳動(dòng)桿334分別以所述第一活動(dòng)軸3331和第二活動(dòng)軸3341為軸點(diǎn)順時(shí)針轉(zhuǎn)動(dòng)，同時(shí)與所述一支撐傳動(dòng)桿333和第二支撐傳動(dòng)桿334通過所述左第一活動(dòng)關(guān)節(jié)3351、右第一活動(dòng)關(guān)節(jié)3352連接的第一傳動(dòng)連桿331向右上方做圓弧移動(dòng)，所述第一傳動(dòng)連桿331同時(shí)帶動(dòng)所述擋釉槽31向上移動(dòng)；

當(dāng)所述擋釉槽31沿往上移動(dòng)至所述擋釉槽31的槽頂位于所述釉線皮帶12正上方時(shí)停止運(yùn)動(dòng)，從鐘罩22上流下的釉漿則流到擋料槽31里回到接釉盤22，而從鐘罩22上流下在擋料槽31之間的釉漿則直接流到接釉盤22上，如此往復(fù)。

以上所述，僅是本發(fā)明較佳實(shí)施例而已，并非對(duì)本發(fā)明的技術(shù)范圍作任何限制，故凡是依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所作的任何細(xì)微修改、等同變化與修飾，均仍屬于本發(fā)明技術(shù)方案的范圍內(nèi)。