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雙面膜層玻璃及制備方法及應(yīng)用該雙面膜玻璃的中空玻璃的制作方法

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雙面膜層玻璃及制備方法及應(yīng)用該雙面膜玻璃的中空玻璃的制作方法
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明公開(kāi)了一種雙面膜層玻璃,包括有玻璃基片,其特征在于:在玻璃基片的反面上復(fù)合有雙銀LOW-E膜層,正面上復(fù)合有自清潔膜層。本發(fā)明目的是克服了現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供了一種既解決了高層建筑玻璃表面的清潔難題,也滿(mǎn)足了建筑檢測(cè)機(jī)構(gòu)對(duì)玻璃熱工性能的指標(biāo)要求的雙面膜層玻璃。本發(fā)明還提供了一種雙面膜層玻璃的制備方法及應(yīng)用該雙面膜玻璃的中空玻璃。
【專(zhuān)利說(shuō)明】雙面膜層玻璃及制備方法及應(yīng)用該雙面膜玻璃的中空玻璃
【【技術(shù)領(lǐng)域】】
[0001]本發(fā)明涉及一種雙面膜層玻璃。本發(fā)明還涉及一種雙面膜層玻璃的制備方法及應(yīng)用該雙面膜玻璃的中空玻璃
【【背景技術(shù)】】
[0002]在以玻璃幕墻高層建筑為典型外觀標(biāo)志的現(xiàn)代都市,功能型建筑玻璃得到了大量的使用,改善了城市的景觀和人們對(duì)生活質(zhì)量的需求。難以解決隨之而來(lái)的玻璃幕墻表面的清潔難題以及要符合日益嚴(yán)格的建筑節(jié)能指標(biāo)法令要求。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明目的是克服了現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供了一種既解決了高層建筑玻璃表面的清潔難題,也滿(mǎn)足了建筑檢測(cè)機(jī)構(gòu)對(duì)玻璃熱工性能的指標(biāo)要求的雙面膜層玻璃。本發(fā)明還提供了一種雙面膜層玻璃的制備方法及應(yīng)用該雙面膜玻璃的中空玻璃。
[0004]本發(fā)明是通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的:
[0005]雙面膜層玻璃,包括有玻璃基片I,其特征在于:在玻璃基片I的反面上復(fù)合有雙銀LOW-E膜層2,正面上復(fù)合有自清潔膜層3。
[0006]如上所述的雙面膜層玻璃,其特征在于所述的自清潔膜層3為納米級(jí)二氧化鈦涂層。
[0007]如上所述的雙面膜層玻璃,其特征在于所述的雙銀LOW-E膜層2包括在玻璃基片I反面由內(nèi)到外依次相鄰地復(fù)合的七個(gè)膜層,其中第一膜層即最內(nèi)層為Si3N4層21,第二層為AZO層22,弟二層為Ag層23,弟四層為AZO層24,弟五層為Ag層25,兎/、層為AZO層26,最外層為Si3N4層27。
[0008]如上所述的雙面膜層玻璃,其特征在于所述第一膜層的Si3N4層21的厚度為40?45nm,所述第二層AZO層22的厚度為12?17nm,所述第三層Ag層23的厚度為5?10nm,所述第四層AZO層24的厚度為80?10nm,所述第五層Ag層25的厚度為12?17nm,所述第六層AZO層26的厚度為12?17nm,所述最外層Si3N4層27的厚度為40?45nm。
[0009]如上所述的雙面膜層玻璃,其特征在于所述第四層AZO層24的厚度為90nm。
[0010]雙面膜玻璃的中空玻璃,其特征在于包括使用時(shí)朝向室外的雙面膜層玻璃10和室內(nèi)玻璃20,所述的雙面膜層玻璃10和室內(nèi)玻璃20之間設(shè)有密封鋁框30,所述的雙面膜層玻璃10包括有玻璃基片I,在玻璃基片I的朝向室內(nèi)的側(cè)面上復(fù)合有雙銀LOW-E膜層2,朝向室外的側(cè)面上復(fù)合有自清潔膜層3。
[0011]制備雙面膜層玻璃的方法,其特征在于包括如下步驟:
[0012](I)玻璃表面用去離子水清洗;
[0013](2)用輥涂工藝在浮法玻璃的錫面鍍自清潔膜層3,即納米級(jí)二氧化鈦涂層;
[0014](3)在190?210°C的溫度下加熱固化;
[0015](4)將自清潔膜層3向上進(jìn)鋼化爐鋼化;
[0016](5)將自清潔膜層3向下在臥式磁控濺射鍍膜機(jī)上鍍制雙銀LOW-E膜層。
[0017]如上所述的方法,其特征在于所述步驟(5)包括如下步驟:
[0018](51)磁控濺射Si3N4層,用交流中頻電源、氮?dú)庾鞣磻?yīng)氣體濺射半導(dǎo)體材料SiAl重量比 S1:Al = 90:10,密度 96% ;
[0019](52)磁控濺射AZO層,用交流中頻電源濺射陶瓷鈦靶;
[0020](53)磁控濺射Ag層,用交流電源濺射,降低輻射率;
[0021](54)磁控濺射AZO層,用交流中頻電源濺射陶瓷鈦靶;
[0022](55)磁控濺射Ag層,用交流電源濺射,降低輻射率;
[0023](56)磁控濺射AZO層,用交流中頻電源濺射陶瓷鈦靶;
[0024](57)磁控濺射Si3N4層,用交流中頻電源、氮?dú)庾鞣磻?yīng)氣體濺射半導(dǎo)體材料SiAl重量比 S1:Al = 90:10,密度 96%。
[0025]與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明有如下優(yōu)點(diǎn):
[0026]1、本發(fā)明在同玻璃基片兩側(cè)面鍍有自清潔溶膠膜層和高性能的雙銀LOW-E膜層,一面通過(guò)輥涂工藝鍍制新型的自清潔溶膠膜層,另一面通過(guò)真空磁控濺射技術(shù)鍍制優(yōu)化的雙銀LOW-E膜層,實(shí)現(xiàn)臥式鍍膜機(jī)上鍍雙面膜。既解決了高層建筑玻璃表面的清潔難題,也滿(mǎn)足了建筑檢測(cè)機(jī)構(gòu)對(duì)玻璃熱工性能的指標(biāo)要求。使得復(fù)合后玻璃不僅具備雙銀LOW-E玻璃的優(yōu)良熱學(xué)性能,而且還具備自清潔玻璃降解有機(jī)物的功能和光誘導(dǎo)超親水性,在雨水的洗刷下,能將松散的污物除去,達(dá)到玻璃表面清潔的性能。
[0027]2、本發(fā)明雙銀LOW-E膜層提供一種新型膜系,采用新型陶瓷靶AZO替代了原膜系中的阻擋層以及中間折射層,不僅節(jié)約了靶位,而且克服了容易掉靶的缺點(diǎn),生產(chǎn)清潔周期可以延長(zhǎng)至三個(gè)星期。
[0028]3、本發(fā)明雙銀LOW-E膜層共有3層ΑΖ0,全部用中頻交流電源濺射的陶瓷靶。前后2層既作介質(zhì)層又作阻擋層,不僅節(jié)約了靶位,還提高了玻璃的可見(jiàn)光透過(guò)率。采用上述膜系設(shè)計(jì)的可鋼化雙銀LOW-E玻璃可以比現(xiàn)有阻擋層用NiCr中間層用ZnSnOx節(jié)約至少4個(gè)靶位,大大的降低了生產(chǎn)可鋼化雙銀LOW-E的平臺(tái);中間的AZO不僅提高玻璃的可見(jiàn)光透過(guò)率,由于陶瓷靶比較干凈,還大大的延長(zhǎng)了每一輪的使用時(shí)間。
【【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】】
[0029]圖1是本發(fā)明雙面膜層玻璃結(jié)構(gòu)示意圖。
[0030]圖2是本發(fā)明中空玻璃結(jié)構(gòu)示意圖。
【【具體實(shí)施方式】】
[0031]下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)闡述。
[0032]如圖1所示,雙面膜層玻璃,包括有玻璃基片I,在玻璃基片I的反面上復(fù)合有雙銀LOff-E膜層2,正面上復(fù)合有自清潔膜層3。
[0033]所述的自清潔膜層3為納米級(jí)二氧化鈦涂層。
[0034]所述的雙銀LOW-E膜層2包括在玻璃基片I反面由內(nèi)到外依次相鄰地復(fù)合的七個(gè)膜層,其中第一膜層即最內(nèi)層為Si3N4層21,第二層為AZO層22,第三層為Ag層23,第四層為AZO層24,弟五層為Ag層25,兎/、層為AZO層26,取外層為Si3N4層27。
[0035]所述第一膜層的Si3N4層21,即氮化硅層,為介質(zhì)層。Si3N4是一種非常堅(jiān)硬的材料,提高膜層的物理性能和抗氧化性能,它確保了整個(gè)鍍層具有良好的機(jī)械耐久性,設(shè)置在最內(nèi)層作為保護(hù)玻璃的最后一道屏障。用交流中頻電源、氮?dú)庾鞣磻?yīng)氣體濺射半導(dǎo)體材料S1:Al = 90:10,密度96%,提高膜層的物理性能和抗氧化性能。Si3N4層的厚度為40?45nm,優(yōu)選 42nm, nm 是納米,Im = 109nm。
[0036]所述第二層AZO層22,即鋁摻雜的氧化鋅層,AZO為介質(zhì)層和阻擋層,阻擋玻璃表面的Na+對(duì)功能層的破壞。平復(fù)銀層,鋼化過(guò)程中防止銀層塌方,提高玻璃的折射率。AZO層的厚度為12?17nm。優(yōu)選15nm。
[0037]所述第三層Ag層23,即金屬銀層,金屬銀層提供了較低的輻射率,起環(huán)保節(jié)能的作用。Ag層的厚度為5?1nm,優(yōu)選8nm。
[0038]所述第四層AZO層24,即鋁摻雜的氧化鋅層,AZO層24為中間折射層,用中頻交流電源濺射陶瓷靶,提高玻璃的可見(jiàn)光透過(guò)率。AZO層的厚度為80?lOOnm。優(yōu)選90nm。超厚的AZO層不僅提高玻璃的可見(jiàn)光透過(guò)率,由于陶瓷靶比較干凈,還大大的延長(zhǎng)了每一輪的使用時(shí)間。
[0039]所述第五層Ag層25,即金屬銀層,金屬銀層提供了較低的輻射率,起環(huán)保節(jié)能的作用。Ag層的厚度為12?17nm,優(yōu)選15nm。
[0040]所述第六層AZO層26,即鋁摻雜的氧化鋅層,AZO為介質(zhì)層和阻擋層,阻擋玻璃表面的Na+對(duì)功能層的破壞。平復(fù)銀層,鋼化過(guò)程中防止銀層塌方,提高玻璃的折射率。AZO層的厚度為12?17nm,選優(yōu)15nm。
[0041]所述最外層Si3N4層29,即氮化硅層;Si3N4是一種非常堅(jiān)硬的材料,提高膜層的物理性能和抗氧化性能,它確保了整個(gè)鍍層具有良好的機(jī)械耐久性,設(shè)置在最外層作為保護(hù)整個(gè)膜層的第一道壁壘。用交流中頻電源、氮?dú)庾鞣磻?yīng)氣體濺射半導(dǎo)體材料S1:Al =90:10,密度96%,提高膜層的物理性能和抗氧化性能。Si3N4層的厚度為40?45nm,優(yōu)選42nm。
[0042]如圖2所示,中空玻璃,包括使用時(shí)朝向室外的雙面膜層玻璃10和室內(nèi)玻璃20,所述的雙面膜層玻璃10和室內(nèi)玻璃20之間設(shè)有密封鋁框30,所述的雙面膜層玻璃10包括有玻璃基片I,在玻璃基片I的朝向室內(nèi)的側(cè)面上復(fù)合有雙銀LOW-E膜層2,朝向室外的側(cè)面上復(fù)合有自清潔膜層3。
[0043]制備雙面膜層玻璃的方法,包括如下步驟:
[0044](I)玻璃表面用去離子水清洗;
[0045](2)用輥涂工藝在浮法玻璃的錫面鍍自清潔膜層3,即納米級(jí)二氧化鈦涂層;
[0046](3)在190?210°C的溫度下加熱固化;
[0047](4)將自清潔膜層3向上進(jìn)鋼化爐鋼化;
[0048](5)將自清潔膜層3向下在臥式磁控濺射鍍膜機(jī)上鍍制雙銀LOW-E膜層。
[0049]所述步驟(5)包括如下步驟:
[0050](51)磁控濺射Si3N4層,用交流中頻電源、氮?dú)庾鞣磻?yīng)氣體濺射半導(dǎo)體材料SiAl重量比S1:Al = 90:10,密度96%。提高膜層的物理性能和抗氧化性能;
[0051](52)磁控濺射AZO層,用交流中頻電源濺射陶瓷鈦靶,阻擋玻璃表面的Na+對(duì)功能層的破壞。平復(fù)銀層,鋼化過(guò)程中防止銀層塌方,提高玻璃的折射率;
[0052](53)磁控濺射Ag層,用交流電源濺射,降低輻射率;
[0053](54)磁控濺射AZO層,用交流中頻電源濺射陶瓷鈦靶,阻擋玻璃表面的Na+對(duì)功能層的破壞。平復(fù)銀層,鋼化過(guò)程中防止銀層塌方,提高玻璃的折射率;
[0054](55)磁控濺射Ag層,用交流電源濺射,降低輻射率;
[0055](56)磁控濺射AZO層,用交流中頻電源濺射陶瓷鈦靶,阻擋玻璃表面的Na+對(duì)功能層的破壞。平復(fù)銀層,鋼化過(guò)程中防止銀層塌方,提高玻璃的折射率;
[0056](57)磁控濺射Si3N4層,用交流中頻電源、氮?dú)庾鞣磻?yīng)氣體濺射半導(dǎo)體材料SiAl重量比S1:Al = 90:10,密度96% ;提高膜層的物理性能和抗氧化性能。
[0057]磁控濺射Si3N4層,用交流中頻電源、氮?dú)庾鞣磻?yīng)氣體濺射半導(dǎo)體材料重量比S1:A1 = 85?98:2?15 ;此處得到的是Si3N4,而金屬Al是用于增加原材料在磁控濺射過(guò)程中的導(dǎo)電性能,金屬Al并不參與反應(yīng),由于非金屬半導(dǎo)體Si的導(dǎo)電性能極差,如不采用金屬Al混合增加導(dǎo)電性能將無(wú)法順利進(jìn)行磁控濺射Si3N4層。
[0058]Low-E玻璃也稱(chēng)為低輻射鍍膜玻璃。
[0059]本發(fā)明提供一種新型膜系,采用新型陶瓷靶AZO替代了原膜系中的阻擋層以及中間折射層,不僅節(jié)約了靶位,而且克服了容易掉靶的缺點(diǎn),生產(chǎn)清潔周期可以延長(zhǎng)至三個(gè)星期。
[0060]本發(fā)明膜系共有3層ΑΖ0,全部用中頻交流電源濺射的陶瓷靶。前后2層既作介質(zhì)層又作阻擋層,不僅節(jié)約了靶位,還提高了玻璃的可見(jiàn)光透過(guò)率。采用上述膜系設(shè)計(jì)的可鋼化雙銀LOW-E玻璃可以比現(xiàn)有的阻擋層用NiCr中間層用ZnSnOx節(jié)約至少4個(gè)靶位,大大的降低了生產(chǎn)可鋼化雙銀LOW-E的平臺(tái);中間的AZO不僅提高玻璃的可見(jiàn)光透過(guò)率,由于陶瓷靶比較干凈,還大大的延長(zhǎng)了每一輪的使用時(shí)間。
【權(quán)利要求】
1.雙面膜層玻璃,包括有玻璃基片(I),其特征在于:在玻璃基片(I)的反面上復(fù)合有雙銀LOW-E膜層(2),正面上復(fù)合有自清潔膜層(3)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙面膜層玻璃,其特征在于所述的自清潔膜層(3)為納米級(jí)二氧化鈦涂層。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的雙面膜層玻璃,其特征在于所述的雙銀LOW-E膜層(2)包括在玻璃基片(I)反面由內(nèi)到外依次相鄰地復(fù)合的七個(gè)膜層,其中第一膜層即最內(nèi)層為Si3N4層(21),第二層為AZO層(22),第三層為Ag層(23),第四層為AZO層(24),第五層為Ag層(25),第六層為AZO層(26),最外層為Si3N4層(27)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙面膜層玻璃,其特征在于所述第一膜層的Si3N4層(21)的厚度為40?45nm,所述第二層AZO層(22)的厚度為12?17nm,所述第三層Ag層(23)的厚度為5?1nm,所述第四層AZO層(24)的厚度為80?10nm,所述第五層Ag層(25)的厚度為12?17nm,所述第六層AZO層(26)的厚度為12?17nm,所述最外層Si3N4層(27)的厚度為40?45nm。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的雙面膜層玻璃,其特征在于所述第四層AZO層(24)的厚度為90nmo
6.應(yīng)用權(quán)利要求1?5任意一項(xiàng)所述的雙面膜玻璃的中空玻璃,其特征在于包括使用時(shí)朝向室外的雙面膜層玻璃(10)和室內(nèi)玻璃(20),所述的雙面膜層玻璃(10)和室內(nèi)玻璃(20)之間設(shè)有密封鋁框(30),所述的雙面膜層玻璃(10)包括有玻璃基片(I),在玻璃基片(I)的朝向室內(nèi)的側(cè)面上復(fù)合有雙銀LOW-E膜層(2),朝向室外的側(cè)面上復(fù)合有自清潔膜層⑶。
7.制備權(quán)利要求1?5任意一項(xiàng)所述的雙面膜層玻璃的方法,其特征在于包括如下步驟: (1)玻璃表面用去離子水清洗; (2)用輥涂工藝在浮法玻璃的錫面鍍自清潔膜層(3),即納米級(jí)二氧化鈦涂層; (3)在190?210°C的溫度下加熱固化; (4)將自清潔膜層(3)向上進(jìn)鋼化爐鋼化; (5)將自清潔膜層(3)向下在臥式磁控濺射鍍膜機(jī)上鍍制雙銀LOW-E膜層。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法,其特征在于所述步驟(5)包括如下步驟: (51)磁控濺射Si3N4層,用交流中頻電源、氮?dú)庾鞣磻?yīng)氣體濺射半導(dǎo)體材料SiAl重量比 S1:Al = 90:10,密度 96% ; (52)磁控濺射AZO層,用交流中頻電源濺射陶瓷鈦靶; (53)磁控濺射Ag層,用交流電源濺射,降低輻射率; (54)磁控濺射AZO層,用交流中頻電源濺射陶瓷鈦靶; (55)磁控濺射Ag層,用交流電源濺射,降低輻射率; (56)磁控濺射AZO層,用交流中頻電源濺射陶瓷鈦靶; (57)磁控濺射Si3N4層,用交流中頻電源、氮?dú)庾鞣磻?yīng)氣體濺射半導(dǎo)體材料SiAl重量比 S1:Al = 90:10,密度 96%。
【文檔編號(hào)】E04F13/15GK104401059SQ201410620638
【公開(kāi)日】2015年3月11日 申請(qǐng)日期:2014年11月5日 優(yōu)先權(quán)日:2014年11月5日
【發(fā)明者】范亞軍, 梁健威 申請(qǐng)人:中山市格蘭特實(shí)業(yè)有限公司
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