專利名稱：一種自適應(yīng)基板尺寸的真空吸附平臺的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種真空吸附裝置，尤其涉及一種自適應(yīng)基板尺寸的真空吸附平臺。
背景技術(shù)：
在平板顯示器如rop、IXD、OLED的玻璃基板制程中，一般在后工序制程中需要對前工序大尺寸的基板進(jìn)行切割、分?jǐn)啵灾瞥奢^小尺寸的平板顯示器，在玻璃基板的切割、分?jǐn)喙に囍型ǔＪ褂谜婵瘴焦ぷ髋_對待加工的基板予以吸附、固持。類似地，在其它平板型工件如PCB的加工過程中也廣泛地使用真空吸附工作臺。在實(shí)際生產(chǎn)中，玻璃基板等平板型工件的規(guī)格和尺寸常有變化，也就是要求某種規(guī)格尺寸的真空吸附工作臺能夠兼容適用于該規(guī)格最大尺寸及以下尺寸的平板型工件。傳統(tǒng)的真空吸附工作臺技術(shù)解決方案是:為避免未被平板型工件覆蓋的吸氣孔與大氣接通，采用塑料薄膜等材料覆蓋沒有平板型工件的工作臺吸附孔區(qū)域，或采用螺絲等堵塞元件將未被平板型工件覆蓋的吸氣孔封住，以免漏氣。顯然這種方法使用不便，效率低下。由于傳統(tǒng)解決方案的缺陷，一些研究人員提出了自動(dòng)調(diào)整吸附范圍的真空吸附裝置。如專利號01261453.X提出將吸附工作臺分隔成不同區(qū)域，利用壓力傳感器感測不同區(qū)域真空度，以判斷不同區(qū)域是否被平板型工件覆蓋，從而控制相應(yīng)區(qū)域的真空閥門的開啟與關(guān)閉。顯然此種方案技術(shù)復(fù)雜,成本高。申請?zhí)?00910135112.7的專利申請?zhí)岢隼脭[桿原理，在吸附工作臺上每個(gè)吸附孔內(nèi)內(nèi)置一個(gè)Z字型擺桿，無平板型工件覆蓋區(qū)域的Z字型杠桿一端伸出臺面、另一端在重力作用下隔阻吸附孔下側(cè)孔口，有平板型工件覆蓋時(shí)Z字型擺桿伸出臺面一端受工件作用而向下擺動(dòng)，另一端則抬起，從而打開吸氣孔下側(cè)孔口，即吸氣孔與內(nèi)部真空接通。此種方案的異型吸氣孔加工難度高，且易對基板表面造成劃傷。另一中國專利02239287.4提出用大型薄板制成懸伸薄片，利用懸伸薄片的彎曲擺動(dòng)阻擋吸氣孔以將工作臺未被平板型工件覆蓋部分的吸附孔與內(nèi)部真空隔離。此種方案要求薄板材料尺寸規(guī)格與吸附工作臺相同，市場上的薄板材料往往不能滿足要求，而且此種方案結(jié)構(gòu)比較復(fù)雜，獲取成本較高。申請?zhí)?01110290659.1和201210111025.X的專利申請分別提出使用多孔質(zhì)板或
膜作為透氣層，利用多孔質(zhì)材料中的微孔產(chǎn)生的壓降來阻隔未被平板型工件覆蓋部分的大氣與工作臺內(nèi)部真空接通，此兩種解決方案存在的不足之處一是需要特殊的多孔質(zhì)材料，二是存在額外的能源損失。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于提供一種結(jié)構(gòu)簡單、成本低廉的自適應(yīng)基板尺寸的真空吸附平臺，尤其適用于平板顯示器行業(yè)玻璃基板的切割、分?jǐn)喙に?。[0009]為了實(shí)現(xiàn)以上目的，本實(shí)用新型的自適應(yīng)基板尺寸的真空吸附平臺，包括真空閥板，和置于真空閥板上的陣列分布有貫穿的吸附小孔的真空吸附載板，以及置于真空閥板下的基座，所述真空閥板上陣列分布設(shè)置長方形沉槽，所述長方形沉槽底部為圓弧形面，所述圓弧形面底部中心設(shè)置一通孔，所述長方形沉槽中活動(dòng)地設(shè)置一長方形彈性膜片。所述長方形彈性膜片的長邊兩側(cè)有連通長方形沉槽和沉槽底部通孔的槽口。在所述長方形沉槽底部長度方向兩端為平面，中部為圓弧形面。在所述長方形沉槽底部圓弧形面中心通孔的周邊局部敷設(shè)圓弧形膠片，圓弧形膠片具有與圓弧形面一致的曲率半徑。進(jìn)一步的，所述吸附小孔為逐漸過渡的臺階孔。本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比，其顯著優(yōu)點(diǎn):(1)具有結(jié)構(gòu)簡單、使用方便、成本較低；(2)能夠吸附住有效吸附面積不能完全覆蓋住真空吸附工作臺上吸氣孔的平板型工件，可自動(dòng)適應(yīng)平板型工件的規(guī)格和尺寸。

圖1是本實(shí)用新型的示意圖；圖2是本實(shí)用新型的剖視圖；圖3是圖2所示I處的局部放大圖；圖4是本實(shí)用新型的真空閥板平面圖；圖5是圖4所示II處的局部放大圖；圖6是本實(shí)用新型的長方形彈性膜片平面圖。其中，附圖中的附圖標(biāo)記所對應(yīng)的名稱為:I—真空吸附載板，11—吸附小孔，111—細(xì)孔，112—過渡孔，113—吸附孔口，2—真空閥板，21 一長方形沉槽，211 一平面，212一圓弧形面，22一通孔，23一圓弧形I父片，24一彈性膜片，241—槽口，3—基座，31 —凹槽，32—通孔，33—沉孔，4一管接頭，5—平板型工件，6一螺栓。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合實(shí)施例對本實(shí)用新型作進(jìn)一步地詳細(xì)說明:實(shí)施例如圖1-6所示，本實(shí)用新型的自適應(yīng)基板尺寸的真空吸附平臺，包括真空閥板2，和置于真空閥板2上的陣列分布有貫穿的吸附小孔11的真空吸附載板1，以及置于真空閥板2下的基座3，真空閥板2上陣列分布設(shè)置長方形沉槽21，長方形沉槽21底部為圓弧形面212，圓弧形面212底部中心設(shè)置一通孔22，所長方形沉槽21中活動(dòng)地置一長方形彈性膜片24。吸附小孔11設(shè)為逐步過渡的階梯孔，上端為細(xì)孔111，中部為直徑稍大的過渡孔112，下端為吸附孔口 113。平板型工件5置于真空吸附載板I上。真空閥板2設(shè)于真空吸附載板I下方，在真空閥板2上具有若干與吸附小孔11一一對應(yīng)的長方形沉槽21，長方形沉槽21底部兩端為平面211，中部為圓弧形面212，圓弧形面212中心有一通孔22，通孔22周邊局部敷設(shè)圓弧形膠片23。在長方形沉槽21中活動(dòng)地置有一長方形彈性膜片24，并由長方形沉槽21底部兩端平面211支承，彈性膜片24長邊兩側(cè)有連通長方形沉槽21和沉槽底部通孔22的槽口 241?；?設(shè)于真空閥板2下方，在基座上設(shè)有連通真空閥板2上通孔22的凹槽31，在凹槽31中部通孔32上設(shè)有管接頭4用以將凹槽31與真空源接通。為了更好地實(shí)施本實(shí)用新型，真空吸附載板I設(shè)有螺紋盲孔114，在真空閥板2和基座3上分別設(shè)有與螺紋盲孔114 一一對應(yīng)的通孔和沉孔33，并通過螺栓6將真空吸附載板1、真空閥板2和基座3置加緊固在一起。由上述構(gòu)件組成本實(shí)用新型的真空吸附平臺，在真空吸附平臺上沒有平板型工件覆蓋且管接頭4未與真空源接通時(shí)，真空吸附載板I上部的大氣經(jīng)由載板I上的吸附小孔
11、真空閥板2上的長方形沉槽21、彈性膜片24上兩側(cè)的槽口 241、彈性膜片24下表面與長方形沉槽21圓弧形底部212之間的空隙和通孔22，與基座3上的凹槽31接通。本實(shí)用新型工作時(shí)，首先將平板型工件5置于真空吸附載板I上，然后將連接于管接頭4與真空源之間的真空開關(guān)打開，從而將真空閥板2上的通孔22通過基座3的凹槽31、中部通孔32與真空源接通。當(dāng)真空吸附載板I上的吸附小孔11未被平板型工件5覆蓋時(shí)，經(jīng)由真空吸附載板I上的吸附小孔11、真空閥板2上的長方形沉槽21 (彈性膜片24上表面以上)、彈性膜片24上兩側(cè)的槽口 241的大氣在流經(jīng)彈性膜片24下表面與長方形沉槽21圓弧形底部212之間的空隙時(shí)，流速加大，形成負(fù)壓，而此時(shí)彈性膜片24上表面承受近于大氣壓的壓力，彈性膜片24在上下表面的壓力差作用下，其中部逐步向下彎曲而與長方形沉槽21底部的圓弧形面212貼和，從而將彈性膜片24上表面的大氣與基座3上凹槽31中的真空隔斷。為了增加長方形沉槽21底部的圓弧形面212與彈性膜片24下表面之間的密閉效果，在圓弧形底部212通孔22周邊局部敷設(shè)圓弧形膠片23，并使圓弧形膠片23上表面具有與長方形沉槽底部一致的曲率半徑。當(dāng)真空吸附載板I的吸附孔11被平板型工件覆蓋時(shí)，吸附小孔11中和長方形沉槽21上部空間的氣體經(jīng)由彈性膜片24兩側(cè)邊槽口 241、彈性膜片24下表面與長方形沉槽21圓弧形底部212之間的空隙和通孔22與真空源接通而快速排出，也即吸附小孔11中和彈性膜片24上部空間的壓力迅速降低，從而彈性膜片24上下表面之間的壓力差較小，不足以使彈性膜片24向下產(chǎn)生足夠的彎曲變形量，吸附小孔11同凹槽31處于連通的狀態(tài)，也就是說被平板型工件覆蓋的吸附小孔11與真空源保持接通狀態(tài)，將平板型工件吸附、固持在吸附工作臺上。在實(shí)際應(yīng)用中，可根據(jù)平板型工件有效吸附面積以及對吸附力大小的要求等，對吸附小孔11的直徑和長度、彈性膜片22的材料和厚度、長方形沉槽21底部的曲率半徑等參數(shù)進(jìn)行配合設(shè)計(jì)以使真空吸附平臺達(dá)到最佳應(yīng)用效果。綜上所述，本實(shí)用新型工作時(shí)，置于真空閥板2長方形沉槽中的彈性膜片24能夠自動(dòng)地把未被工件覆蓋的吸附小孔11與內(nèi)部真空之間遮斷和密閉，而被工件覆蓋的吸附小孔11則能夠保持與內(nèi)部真空接通，從而本實(shí)用新型能夠根據(jù)玻璃基板等平板型工件的規(guī)格和尺寸變化，自動(dòng)地調(diào)整吸附范圍。
權(quán)利要求1.一種自適應(yīng)基板尺寸的真空吸附平臺，包括真空閥板(2)，和置于真空閥板(2)上的陣列分布有貫穿的吸附小孔(11)的真空吸附載板(1)，以及置于真空閥板(2)下的基座(3)，其特征在于:所述真空閥板(2)上陣列分布設(shè)置長方形沉槽(21)，所述長方形沉槽(21)底部為圓弧形面(212)，所述圓弧形面(212)底部中心設(shè)置一通孔(22)，所述長方形沉槽(21)中活動(dòng)地設(shè)置一長方形彈性膜片(24)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自適應(yīng)基板尺寸的真空吸附平臺，其特征在于:所述長方形彈性膜片(24)的長邊兩側(cè)有連通長方形沉槽(21)和沉槽底部通孔(22)的槽口(241)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自適應(yīng)基板尺寸的真空吸附平臺，其特征在于:所述長方形沉槽(21)底部長度方向兩端為平面(211)，中部為圓弧形面(212)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自適應(yīng)基板尺寸的真空吸附平臺，其特征在于:所述長方形沉槽(21)底部圓弧形面(212)中心通孔(22)的周邊局部敷設(shè)圓弧形膠片(23)，圓弧形膠片(23)與圓弧形面(212)具有一致的曲率半徑。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自適應(yīng)基板尺寸的真空吸附平臺，其特征在于:所述吸附小孔(11)為逐漸過渡的臺階孔。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自適應(yīng)基板尺寸的真空吸附平臺，其特征在于:所述真空吸附載板(I)設(shè)有螺紋盲孔(114)，在所述真空閥板(2)和基座(3)上分別設(shè)有與螺紋盲孔(114) 一一對應(yīng)的通孔(32)和沉孔(33)，螺栓(6)通過通孔(32)、沉孔(33)和螺紋盲孔(114)將真空 吸附載板(I)、真空閥板(2)和基座(3)疊加緊固在一起。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種自適應(yīng)基板尺寸的真空吸附平臺，包括真空閥板(2)，和置于真空閥板(2)上的陣列分布有貫穿的吸附小孔(11)的真空吸附載板(1)，以及置于真空閥板(2)下的基座(3)，真空閥板(2)上陣列分布設(shè)置長方形沉槽(21)，長方形沉槽(21)底部為圓弧形面(212)，圓弧形面(212)底部中心設(shè)置一通孔(22)，長方形沉槽(21)中活動(dòng)地置一長方形彈性膜片(24)。本實(shí)用新型能廣泛應(yīng)用在平板顯示器玻璃基板及其它平板型工件如PCB的加工過程中。
文檔編號C03B33/00GK203156623SQ20132015821
公開日2013年8月28日 申請日期2013年4月1日 優(yōu)先權(quán)日2013年4月1日
發(fā)明者王會中, 李宗澤 申請人:四川長虹電器股份有限公司