專利名稱：基板處理裝置以及處理液賦予方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于保持對(duì)半導(dǎo)體晶片、液晶顯不裝置用玻璃基板、F1DP (PlasmaDisplay Panel :等離子顯示板)用玻璃基板、有機(jī)EL顯示板用玻璃基板、太陽能電池用基板、磁盤或光盤用的玻璃或陶瓷基板等各種被處理基板涂敷的處理液的流量的穩(wěn)定性的技術(shù)。
背景技術(shù)：
以往公知有如下技術(shù)，即，噴嘴一邊掃描表面排列有分隔壁的基板的表面一邊作為涂敷液涂敷有機(jī)EL那樣的像素形成材料。此時(shí)，具有撓性的配管與進(jìn)行掃描移動(dòng)的噴嘴連接，從噴嘴噴出在配管中流動(dòng)的涂敷液。作為這樣的技術(shù)，例如，在專利文獻(xiàn)I中公開了一種涂敷裝置，該涂敷裝置具有 引導(dǎo)部，其沿著主掃描方向延伸；滑塊，在其與引導(dǎo)部之間存在空氣層的狀態(tài)下被引導(dǎo)部支撐，并能夠沿著主掃描方向移動(dòng)；噴嘴，其被滑塊支撐，用于噴出涂敷液；配管支撐構(gòu)件，其支撐與滑塊以及噴嘴連接的配管的非端部部分。另外，在專利文獻(xiàn)2中公開了一種涂敷裝置，該涂敷裝置具有與引導(dǎo)部卡合且被支撐為能夠在主掃描方向上移動(dòng)的滑塊、被滑塊支撐的噴嘴，用于向滑塊及噴嘴引導(dǎo)流體的多個(gè)配管隔著引導(dǎo)部的軸分開設(shè)置在噴嘴及滑塊的兩側(cè)。專利文獻(xiàn)I JP特開2011-072974號(hào)公報(bào)。專利文獻(xiàn)2 JP特開2011-072975號(hào)公報(bào)。但是，由于專利文獻(xiàn)I或?qū)＠墨I(xiàn)2公開的這些配管具有撓性，所以由于滑塊的移動(dòng)或振動(dòng)易于使配管的一部分產(chǎn)生扭曲等變形。有時(shí)，由于變形后的配管的形狀，在滑塊掃描移動(dòng)時(shí)，涂敷液在配管內(nèi)向與本來的流動(dòng)方向相反的方向流動(dòng)，而從噴嘴噴出的涂敷液的流量發(fā)生變動(dòng)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于上述問題而提出的，其目的在于提供一種能夠抑制從移動(dòng)的噴嘴噴出的處理液的流量發(fā)生變動(dòng)的技術(shù)。第一發(fā)明為一種基板處理裝置，具有基板保持部，其將基板保持為大致水平，主掃描機(jī)構(gòu)，其具有沿著大致平行于所述基板的主掃描方向延伸的引導(dǎo)部、被所述引導(dǎo)部支撐且能夠沿著所述主掃描方向移動(dòng)的移動(dòng)部，噴出部，其被所述移動(dòng)部支撐且能夠沿著所述主掃描方向移動(dòng)，并用于向所述基板噴出處理液，撓性的配管，其與所述噴出部連接，并用于向所述噴出部引導(dǎo)處理液，可動(dòng)配管支撐部，其用于支撐所述配管的非端部部分，并且所述可動(dòng)配管支撐部的朝向隨著所述移動(dòng)部的周期性運(yùn)動(dòng)而周期性地變化，所述移動(dòng)部的周期性運(yùn)動(dòng)是因主掃描的反復(fù)進(jìn)行而引起的。第二發(fā)明在第一發(fā)明的基板處理裝置中，所述配管上的被所述可動(dòng)配管支撐部支撐的被支撐部分和與所述噴出部連接的連接部分之間的區(qū)間，在鉛垂面內(nèi)形成為弓形形狀。第三發(fā)明在第二發(fā)明的基板處理裝置中，所述配管上的所述區(qū)間形成為向上方凸出的弓形形狀。第四發(fā)明在第一發(fā)明的基板處理裝置中，還具有輔助掃描機(jī)構(gòu)，所述輔助掃描機(jī)構(gòu)具有沿著所述引導(dǎo)部延伸的輔助引導(dǎo)部、被所述輔助弓I導(dǎo)部支撐且能夠沿著所述主掃描方向移動(dòng)的輔助移動(dòng)部，所述配管上的被所述可動(dòng)配管支撐部支撐的被支撐部分和與所述噴出部連接的連接部分之間的規(guī)定部分，被所述輔助移動(dòng)部支撐。第五發(fā)明在第四發(fā)明的基板處理裝置中，所述可動(dòng)配管支撐部與所述輔助移動(dòng)部相連接?！さ诹l(fā)明在第四發(fā)明的基板處理裝置中，所述配管上的被所述可動(dòng)配管支撐部支撐的被支撐部分和與所述輔助移動(dòng)部連接的連接部分之間的區(qū)間，在鉛垂面內(nèi)形成為弓形形狀。第七發(fā)明在第四發(fā)明的基板處理裝置中，所述主掃描機(jī)構(gòu)配置在所述輔助掃描機(jī)構(gòu)的下方。第八發(fā)明在第一發(fā)明至第七發(fā)明中任一項(xiàng)的基板處理裝置中，還具有用于調(diào)節(jié)所述可動(dòng)配管支撐部的朝向的驅(qū)動(dòng)部。第九發(fā)明為一種處理液賦予方法，包括第一工序，將基板保持為大致水平，第二工序，一邊從噴出部噴出處理液，一邊使支撐所述噴出部的移動(dòng)部沿著主掃描方向在基板上周期性地進(jìn)行掃描移動(dòng)，第三工序，使可動(dòng)配管支撐部的朝向隨著進(jìn)行掃描移動(dòng)的所述移動(dòng)部而周期性地變化，其中，所述可動(dòng)配管支撐部用于支撐向所述噴出部引導(dǎo)所述處理液的撓性的配管的非端部部分。在第一發(fā)明至第九發(fā)明中，可動(dòng)配管支撐部支撐配管的非端部部分，并且其朝向隨著移動(dòng)部的周期性的運(yùn)動(dòng)而周期性地變化。因此，即使移動(dòng)部移動(dòng)，由于可動(dòng)配管支撐部的朝向隨其變化，所以能夠抑制在被可動(dòng)配管支撐部支撐的配管的部分產(chǎn)生扭曲。結(jié)果，能夠抑制從噴出部噴出的處理液的流量發(fā)生變動(dòng)。尤其，在第二發(fā)明中，被可動(dòng)配管支撐部支撐的被支撐部分和與噴出部連接的連接部分之間的區(qū)間，在鉛垂面內(nèi)形成為弓形形狀。因此，由于配管變長(zhǎng)，所以能夠使配管的亂擺或顫動(dòng)在整個(gè)配管上得以緩和，減小其影響。由此，能夠抑制從噴出部噴出的處理液的流量發(fā)生變動(dòng)。尤其，在第三發(fā)明中，配管的區(qū)間形成為向上方凸出的弓形形狀。因此，由于從與主掃描機(jī)構(gòu)連接的噴出部延伸出的配管的端末向上方立起，所以即使移動(dòng)部移動(dòng)，也難于產(chǎn)生使處理液在配管內(nèi)逆流的方向的力。由此，能夠抑制從噴出部噴出的處理液的流量發(fā)生變動(dòng)。尤其，在第四發(fā)明中，被可動(dòng)配管支撐部支撐的被支撐部分和與噴出部連接的連接部分之間的規(guī)定部分被輔助移動(dòng)部支撐。因此，即使配管顫動(dòng)或亂擺，也難于傳遞至噴出部，因此，能夠抑制從噴出部噴出的涂敷液的流量發(fā)生變動(dòng)。尤其，在第五發(fā)明中，可動(dòng)配管支撐部與輔助移動(dòng)部連接。因此，能夠通過輔助移動(dòng)部的驅(qū)動(dòng)，可靠地使可動(dòng)配管支撐部的朝向變化。尤其，在第六發(fā)明中，被可動(dòng)配管支撐部支撐的被支撐部分和與輔助移動(dòng)部連接的連接部分之間的區(qū)間，在鉛垂面內(nèi)形成為弓形形狀。因此，由于配管變長(zhǎng)，能夠使配管的顫動(dòng)或亂擺在弓形形狀的整個(gè)配管上得以緩解，減小其影響。尤其，在第七發(fā)明中，主掃描機(jī)構(gòu)配置在輔助掃描機(jī)構(gòu)的下方。因此，與噴出部連接的配管的端末易于維持為向上方立起的狀態(tài)。因此，即使移動(dòng)部移動(dòng)，也難于產(chǎn)生向處理液逆流的方向的力，能夠抑制處理液的流量發(fā)生變動(dòng)。尤其，在第八發(fā)明中，通過用于調(diào)節(jié)可動(dòng)配管支撐部的朝向的驅(qū)動(dòng)部，能夠可靠地隨著移動(dòng)部調(diào)節(jié)可動(dòng)配管支撐部的朝向。


圖1是表示實(shí)施方式的基板處理裝置的概略俯視圖。
圖2是表示該基板處理裝置的概略主視圖。圖3是圖2的1-1線概略剖視圖。圖4是表示實(shí)施方式的基板處理裝置中的主要構(gòu)成構(gòu)件的配置關(guān)系的概略立體圖。圖5是表不處理流程的流程圖。圖6是表示變形例的基板處理裝置的主要構(gòu)成構(gòu)件的配置關(guān)系的概略立體圖。圖7是表示變形例的基板處理裝置的主要構(gòu)成構(gòu)件的配置關(guān)系的概略立體圖。圖8是表示變形例的基板處理裝置的主要構(gòu)成構(gòu)件的配置關(guān)系的概略立體圖。
具體實(shí)施例方式以下，參照

本發(fā)明的實(shí)施方式。以下的實(shí)施方式是本發(fā)明具體化的一個(gè)例子，不限定本發(fā)明的保護(hù)范圍。圖1是表示本實(shí)施方式的基板處理裝置20的概略俯視圖。圖2是表示基板處理裝置20的概略主視圖。圖3是圖2所示的基板處理裝置20的1-1線概略剖視圖。另外，圖4是概略地表示基板處理裝置20的主要部分的配置關(guān)系的概略立體圖。此外，在以下的說明中，在表示方向以及朝向時(shí)，適當(dāng)使用圖中所示的XYZ直角坐標(biāo)。在此，X軸及Y軸方向表示水平方向，Z軸方向表示鉛垂方向(+Z側(cè)為上側(cè)，-Z側(cè)為下側(cè))。另外，為了方便，將Y軸方向作為基板的搬運(yùn)方向(+ Y側(cè)為下游側(cè)，-Y側(cè)為上游側(cè))，將X軸方向作為移動(dòng)部的主掃描方向(十X側(cè)，-X側(cè))。基板處理裝置20是對(duì)基板200涂敷作為處理液的涂敷液的裝置。作為基板200假設(shè)是四邊形的基板，例如，是平面顯示裝置用的玻璃基板等。另外，作為涂敷液假設(shè)用于形成在基板200上的圖案等的形成材料，例如，在假設(shè)制造有機(jī)EL顯示裝置時(shí)，作為涂敷液假設(shè)含有有機(jī)EL材料及其溶媒等的液體等。該基板處理裝置20主要具有用于保持基板200的基板保持部30、主掃描機(jī)構(gòu)40、用于噴出涂敷液的噴出部50、輔助掃描機(jī)構(gòu)60、用于支撐由撓性的樹脂管等構(gòu)成的涂敷液配管80b的可動(dòng)配管支撐部100。基板保持部30能夠?qū)⒒?00保持為大致水平姿勢(shì)。在此，基板保持部30具有工作臺(tái)32，所述工作臺(tái)32以其主面朝上的大致水平的姿勢(shì)配設(shè)在規(guī)定的高度位置。另外，通過以基板200的主面與工作臺(tái)32的朝上的主面抵接的方式將基板200載置在工作臺(tái)32上，能夠在規(guī)定的位置以規(guī)定的姿勢(shì)保持基板200。基板保持部還可以通過把持基板的周邊來保持該基板。另外，在基板保持部30的下方設(shè)置有基板移動(dòng)機(jī)構(gòu)34,所述基板移動(dòng)機(jī)構(gòu)34使基板200沿著Y方向(副掃描方向)相對(duì)于噴出部50移動(dòng)。在此，基板移動(dòng)機(jī)構(gòu)34具有上方支撐工作臺(tái)32的臺(tái)部36和一對(duì)滑動(dòng)托部37?；瑒?dòng)托部37設(shè)置在臺(tái)部36的下端部，能夠在沿著Y方向延伸的一對(duì)副掃描方向引導(dǎo)部39上滑動(dòng)移動(dòng)。另外，基板移動(dòng)機(jī)構(gòu)34通過受到來自線性馬達(dá)等基板移動(dòng)驅(qū)動(dòng)部(省略圖示)的驅(qū)動(dòng)力，使上述工作臺(tái)32以及基板200一起沿著Y方向移動(dòng)。此外，可以使主掃描機(jī)構(gòu)40以及噴出部50沿著Y方向相對(duì)于基板200移動(dòng)，來代替使基板200沿著Y方向移動(dòng)。此外，上述工作臺(tái)32可以構(gòu)成為，能夠被驅(qū)動(dòng)而圍繞鉛垂軸相對(duì)基板移動(dòng)機(jī)構(gòu)34旋轉(zhuǎn)。主掃描機(jī)構(gòu)40具有主掃描機(jī)構(gòu)引導(dǎo)部42、沿著主掃描機(jī)構(gòu)引導(dǎo)部42移動(dòng)的滑塊44。主掃描機(jī)構(gòu)引導(dǎo)部42形成為在基板200的上方位置沿著與基板200大致平行的主掃描方向(X方向)延伸的長(zhǎng)構(gòu)件?；瑝K44為具有能夠被主掃描機(jī)構(gòu)引導(dǎo)部42穿過的內(nèi)部空 間的構(gòu)件，滑塊44被該主掃描機(jī)構(gòu)引導(dǎo)部42支撐，并且能夠沿著X方向移動(dòng)。此外，在本實(shí)施方式中，滑塊44相當(dāng)于移動(dòng)部。移動(dòng)部不限于滑塊，只要是能夠沿著主掃描機(jī)構(gòu)引導(dǎo)部42移動(dòng)的構(gòu)件即可。更具體地說，主掃描機(jī)構(gòu)引導(dǎo)部42形成為大致方柱狀構(gòu)件。如圖4所示，滑塊44的外形為大致長(zhǎng)方體狀。另外，在滑塊44的內(nèi)部形成內(nèi)部空間44S，通過該內(nèi)部空間44S，能夠使滑塊44具有間隔地包圍主掃描機(jī)構(gòu)引導(dǎo)部42的外周面。從后述的空氣供給源86經(jīng)由空氣配管80a供給的空氣的一部分向滑塊44的內(nèi)周面噴出。由此，滑塊44處于如下狀態(tài)，即，在其與主掃描機(jī)構(gòu)引導(dǎo)部42的外周面之間存在空氣層的狀態(tài)下，被支撐并能夠沿著X方向移動(dòng)。結(jié)果，滑塊44以能夠高速、大加速地移動(dòng)且耐久性良好的狀態(tài)被支撐。此外，如圖3所示，在主掃描機(jī)構(gòu)引導(dǎo)部42的上表面形成有上方開口且沿著X方向延伸的凹槽43，在滑塊44的上部寬度方向(Y方向)的中間部形成有寬度與上述凹槽43對(duì)應(yīng)的縫部45a。另外，在該縫部45a的部分安裝有帶安裝架45，在上述凹槽43內(nèi)，將用于驅(qū)動(dòng)滑塊44的驅(qū)動(dòng)帶74安裝在帶安裝架45上。但是，這些結(jié)構(gòu)不是必須的。例如，主掃描機(jī)構(gòu)引導(dǎo)部可以構(gòu)成為單純的方柱狀或圓柱狀，在滑塊內(nèi)形成比該單純的方柱狀或圓柱狀的主掃描機(jī)構(gòu)引導(dǎo)部大一圈的內(nèi)部空間。另外，主掃描機(jī)構(gòu)引導(dǎo)部可以具有多個(gè)柱狀構(gòu)件。此外，滑塊不需要被支撐為在隔著空氣層的狀態(tài)下相對(duì)于主掃描機(jī)構(gòu)引導(dǎo)部自由移動(dòng)。例如，滑塊可以被支撐為，在隔著其他低摩擦構(gòu)件、轉(zhuǎn)動(dòng)體等與長(zhǎng)狀的主掃描機(jī)構(gòu)引導(dǎo)部接觸的狀態(tài)下，相對(duì)于長(zhǎng)的主掃描機(jī)構(gòu)引導(dǎo)部自由移動(dòng)。另外，在此，在主掃描機(jī)構(gòu)引導(dǎo)部42的上方設(shè)置有計(jì)數(shù)器(counter)用引導(dǎo)部46以及計(jì)數(shù)器用滑塊48。計(jì)數(shù)器用導(dǎo)部46形成為沿著X方向延伸的長(zhǎng)柱狀構(gòu)件。計(jì)數(shù)器用滑塊48為具有能夠被計(jì)數(shù)器用引導(dǎo)部46穿過的內(nèi)部空間的構(gòu)件，計(jì)數(shù)器用滑塊48被該計(jì)數(shù)器用引導(dǎo)部46支撐為能夠沿著X方向移動(dòng)。在此，計(jì)數(shù)器用引導(dǎo)部46形成為大致圓柱狀，在上述主掃描機(jī)構(gòu)引導(dǎo)部42的上方以大致平行狀態(tài)設(shè)置兩個(gè)計(jì)數(shù)器用引導(dǎo)部46。另外，在計(jì)數(shù)器用滑塊48的內(nèi)部形成有圓孔狀的內(nèi)部空間48S，通過該內(nèi)部空間48S能夠使計(jì)數(shù)器用滑塊48具有間隔地包圍各計(jì)數(shù)器用引導(dǎo)部46的外周面。從后述的空氣供給源86經(jīng)由空氣配管80a供給的空氣的一部分向計(jì)數(shù)器用滑塊48的內(nèi)周面噴出。由此，計(jì)數(shù)器用滑塊48形成為如下的狀態(tài)，S卩，在其與計(jì)數(shù)器用引導(dǎo)部46的外周面之間存在空氣層的狀態(tài)下，被支撐為能夠沿著X方向移動(dòng)。此外，將計(jì)數(shù)器用滑塊支撐為能夠相對(duì)于計(jì)數(shù)器用引導(dǎo)部移動(dòng)的結(jié)構(gòu)，與上述主掃描機(jī)構(gòu)40相同，能夠采用各種結(jié)構(gòu)。也就是說，如上所述，計(jì)數(shù)器用滑塊不需要被支撐為在隔著空氣層的狀態(tài)下相對(duì)于計(jì)數(shù)器用引導(dǎo)部自由移動(dòng)。例如，計(jì)數(shù)器用滑塊可以被支撐為在隔著其他低摩擦構(gòu)件、轉(zhuǎn)動(dòng)體等與計(jì)數(shù)器用滑塊接觸的狀態(tài)下，相對(duì)于長(zhǎng)的計(jì)數(shù)器用引導(dǎo)部自由移動(dòng)。噴出部50被上述滑塊44支撐為能夠沿著X方向移動(dòng)，并且能夠?qū)?00噴出涂敷液。在此，噴出部50具有噴嘴支撐部52和至少一個(gè)噴嘴54。在本實(shí)施方式中，為了便于圖示，噴嘴54設(shè)置有3個(gè)。 噴嘴支撐部52具有基端部52a，其安裝在滑塊44的一個(gè)側(cè)面上；噴嘴安裝板部52b,其從基端部52a的下端部向外方延伸。另外，多個(gè)噴嘴54安裝固定在噴嘴安裝板部52b上，其位置在X方向及Y方向上錯(cuò)開。各噴嘴54分別具有能夠噴出涂敷液的噴出口，以該噴出口朝向噴嘴安裝板部52b的下方的姿勢(shì)固定在噴嘴安裝板部52b上。另外，通過一邊使上述滑塊44沿著X方向移動(dòng)，一邊從各噴嘴54噴出涂敷液，來將該涂敷液涂敷在載置于工作臺(tái)32上的基板200上。此外，在上述滑塊44的與噴出部50 —側(cè)相反的一側(cè)的側(cè)部上設(shè)置有噴嘴計(jì)數(shù)器44C。輔助掃描機(jī)構(gòu)60具有輔助掃描機(jī)構(gòu)引導(dǎo)部62、能夠沿著輔助掃描機(jī)構(gòu)引導(dǎo)部62移動(dòng)的輔助滑塊65。輔助掃描機(jī)構(gòu)60的輔助滑塊65能夠隨著滑塊44的移動(dòng)而沿著X方向移動(dòng)。在此，該輔助掃描機(jī)構(gòu)60在主掃描機(jī)構(gòu)40的上方，在基板200的搬運(yùn)方向上，設(shè)置在主掃描機(jī)構(gòu)40的下游側(cè)。此外，輔助滑塊65相當(dāng)于本實(shí)施方式的輔助移動(dòng)部。輔助移動(dòng)部為能夠沿著輔助掃描機(jī)構(gòu)引導(dǎo)部移動(dòng)的構(gòu)件。輔助掃描機(jī)構(gòu)引導(dǎo)部62形成為在基板200的上方位置沿著X方向延伸的長(zhǎng)狀構(gòu)件。也就是說，沿著主掃描機(jī)構(gòu)引導(dǎo)部42的延伸方向形成輔助掃描機(jī)構(gòu)引導(dǎo)部62。另外，輔助滑塊65為具有能夠被輔助掃描機(jī)構(gòu)引導(dǎo)部62穿過的內(nèi)部空間的構(gòu)件，輔助滑塊65被該輔助掃描機(jī)構(gòu)引導(dǎo)部62支撐為能夠沿著X方向移動(dòng)。該輔助掃描機(jī)構(gòu)60與主掃描機(jī)構(gòu)40同步地被驅(qū)動(dòng)，這些后面詳細(xì)描述。更具體地說，輔助掃描機(jī)構(gòu)引導(dǎo)部62形成為大致方柱狀的構(gòu)件。輔助滑塊65的外形形成為大致長(zhǎng)方體狀，在輔助滑塊65內(nèi)形成有內(nèi)部空間64S，通過內(nèi)部空間64S，能夠使輔助滑塊65具有間隔地包圍輔助掃描機(jī)構(gòu)引導(dǎo)部62的外周面。從后述的空氣供給源86經(jīng)由空氣配管80a供給的空氣的一部分向輔助滑塊65的內(nèi)周面噴出。由此，輔助滑塊65形成如下的狀態(tài)，即，在其與輔助掃描機(jī)構(gòu)引導(dǎo)部62的外周面之間存在空氣層的狀態(tài)下，被支撐為能夠沿著X方向移動(dòng)。此外，輔助滑塊65被支撐為能夠相對(duì)于輔助掃描機(jī)構(gòu)引導(dǎo)部62移動(dòng)的結(jié)構(gòu)，與上述主掃描機(jī)構(gòu)40相同，能夠采用各種結(jié)構(gòu)。此外，該輔助滑塊不需要如上述那樣以隔著空氣層的狀態(tài)能夠自由移動(dòng)地支撐在配管支撐用引導(dǎo)部上。例如，輔助滑塊可以在隔著其他低摩擦構(gòu)件、轉(zhuǎn)動(dòng)體等與輔助掃描機(jī)構(gòu)引導(dǎo)部接觸的狀態(tài)下，能夠自由移動(dòng)地支撐在長(zhǎng)狀的輔助掃描機(jī)構(gòu)引導(dǎo)部上?？蓜?dòng)配管支撐部100為可動(dòng)構(gòu)件，配置在工作臺(tái)32的上方，能夠按照沿著X方向移動(dòng)的滑塊44以及輔助滑塊65的位置來改變方向。該可動(dòng)配管支撐部100具有擺動(dòng)軸61，其一端部61a固定在橫跨搬運(yùn)基板200的路徑而設(shè)置的臺(tái)部69上，另一端部61b作為自由端而能夠自由旋轉(zhuǎn)；板狀的板部63，其與擺動(dòng)軸61連接；臂構(gòu)件67，其從板部63沿著大致水平方向延伸，并與輔助滑塊65連接。板部63具有支撐機(jī)構(gòu)630，所述支撐機(jī)構(gòu)630的主面支撐后述的涂敷液配管80b的一部分。該支撐機(jī)構(gòu)630例如能夠采用將涂敷液配管80b捆扎在板部63上的帶狀的捆扎構(gòu)件，或夾子狀的夾入構(gòu)件等， 只要不影響涂敷液配管80b的口徑，能夠采用各種方式。該板部63的一端與軸心方向沿著鉛垂方向的擺動(dòng)軸61的可動(dòng)部分61b的外周面連接。即，板部63能夠隨著擺動(dòng)軸61的動(dòng)作進(jìn)行擺動(dòng)，在由X方向及Y方向限定的面內(nèi)自由地改變方向。臂構(gòu)件67是具有剛性的構(gòu)件，連接板部63的與擺動(dòng)軸61連接的連接部分63a的相反側(cè)的端部63b與輔助滑塊65。因此，在輔助滑塊65沿著輔助掃描機(jī)構(gòu)引導(dǎo)部62往復(fù)移動(dòng)時(shí)，板部63以及擺動(dòng)軸61經(jīng)由臂構(gòu)件67進(jìn)行從動(dòng)，使板部63以擺動(dòng)軸61為中心圍繞擺動(dòng)軸61擺動(dòng)。也就是說，輔助掃描機(jī)構(gòu)60發(fā)揮板部63的驅(qū)動(dòng)源的功能。更具體地說，隨著輔助掃描機(jī)構(gòu)60的輔助滑塊65的移動(dòng)，臂構(gòu)件67受到輔助滑塊65的拉伸力或按壓力。通過這些力在X方向上的分力，使板部63的朝向隨著輔助滑塊65周期性地變化。此外，可以使用其他形狀的構(gòu)件來代替板狀的板部63。例如，能夠采用柱狀的構(gòu)件等，只要能夠支撐涂敷液配管80b，其形狀能夠?yàn)楦鞣N形態(tài)。另外，板部63和臂構(gòu)件67可以由具有剛性的一體的部件構(gòu)成。另外，按照輔助滑塊65的位置，更具體地說，在輔助滑塊65位于輔助掃描機(jī)構(gòu)引導(dǎo)部62的中間部時(shí)和位于輔助掃描機(jī)構(gòu)引導(dǎo)部62的兩端部時(shí)，輔助滑塊65與可動(dòng)配管支撐部100之間的距離發(fā)生變動(dòng)。因此，臂構(gòu)件67例如能夠采用將具有相互不同的直徑的一對(duì)筒狀構(gòu)件67a、67b以能夠自由伸縮的方式組合而成的可伸縮(telesopic)結(jié)構(gòu),還能夠利用縮放(pantograph)結(jié)構(gòu)等。另外,可以在臂構(gòu)件67與輔助滑塊65連接的連接部分或臂構(gòu)件67與板部63連接的連接部分等，采用能夠調(diào)節(jié)輔助滑塊65與可動(dòng)配管支撐部100之間的距離的結(jié)構(gòu)，來代替上述這些結(jié)構(gòu)。由此，能夠按照直行移動(dòng)的輔助滑塊65的位置調(diào)節(jié)臂構(gòu)件67的長(zhǎng)度。配管80包括空氣配管80a、涂敷液配管80b。就各配管80a、80b而已，在空氣或涂敷液的輸送方向的上游側(cè)與空氣供給源86或涂敷液供給源88連接，并且在本基板處理裝置20的上方以懸吊的方式被支撐。在以下的說明中，在區(qū)分兩配管時(shí)，將它們分別稱為空氣配管80a或涂敷液配管80b，在作為總體時(shí)，稱為配管80。此外，在圖3中，省略了空氣配管 80a。空氣配管80a由具有撓性的樹脂等制成的管構(gòu)成，用于對(duì)來自空氣供給源86的空氣進(jìn)行引導(dǎo)，在此，具有兩個(gè)空氣配管80a。兩個(gè)空氣配管80a各自的一端部分別與空氣供給源86連接。一個(gè)空氣配管80a的另一端部與滑塊44連接，能夠向滑塊44供給空氣，另一個(gè)空氣配管80a的另一端部與輔助滑塊65連接，能夠向輔助滑塊65供給空氣。一個(gè)空氣配管80a的另一端部可以直接固定在滑塊44上，也可以經(jīng)由噴出部50的固定部分與滑塊44連接。涂敷液配管80b由具有撓性的樹脂等制成的管構(gòu)成，用于對(duì)來自涂敷液供給源88的涂敷液進(jìn)行引導(dǎo)，設(shè)置與噴嘴54數(shù)量相同的涂敷液配管80b。各涂敷液配管80b的一端部分別與涂敷液供給源88連接，另一端部分別與噴嘴54連接，能夠向噴嘴54供給涂敷液。涂敷液配管80b的另一端部可以直接固定在噴出部50上，也可以經(jīng)由滑塊44或噴嘴支撐部52的固定部分與噴嘴54連接。這樣的涂敷液配管80b以多個(gè)被捆束的狀態(tài)容置在涂敷液配管保護(hù)構(gòu)件85中。該涂敷液配管保護(hù)構(gòu)件85由樹脂等具有撓性的材料構(gòu)成，統(tǒng)一保持多個(gè)涂敷液配管80b。在
此，如圖3所示，涂敷液配管保護(hù)構(gòu)件85經(jīng)由噴嘴支撐部52的固定部分，使各涂敷液配管80b分別與噴嘴54連接。對(duì)于將該涂敷液配管保護(hù)構(gòu)件85固定在噴嘴支撐部52上的機(jī)構(gòu)，能夠采用與上述的板部63的支撐機(jī)構(gòu)630同樣的各種方式。涂敷液配管80b的特定的一部分被輔助滑塊65的輔助滑塊保持部621支撐，該特定的一部分是指比噴出部50的固定部分或比滑塊44或噴嘴支撐部52的固定部分更靠涂敷液的流動(dòng)方向的上游側(cè)的一部分。關(guān)于該輔助滑塊保持部621具有的用于支撐涂敷液配管80b的機(jī)構(gòu)，能夠采用與上述的板部63的支撐機(jī)構(gòu)630同樣的各種方式。在此，輔助掃描機(jī)構(gòu)60位于主掃描機(jī)構(gòu)40的上方。因此，涂敷液配管80b易于被維持為，從噴出部50的固定部分或滑塊44或噴嘴支撐部52的固定部分向上方立起的狀態(tài)。另外，涂敷液配管80b的比該輔助滑塊65的固定部分靠涂敷液的流動(dòng)方向的上游側(cè)的一部分如上述那樣固定在板部63上。這樣，在本實(shí)施方式中，涂敷液配管80b的非端部的部分被輔助滑塊65和板部63這兩個(gè)部分支撐。在此，如圖3所示，涂敷液配管80b的被輔助滑塊65支撐的部分和被板部63支撐的部分之間的部分，被涂敷液配管保護(hù)構(gòu)件85保持且形成為向上方凸出的弓形形狀。因此，該部分的涂敷液配管80b的長(zhǎng)度比輔助滑塊65與板部63之間的長(zhǎng)度長(zhǎng)。此外，涂敷液配管80b可以形成為向下方凸出的弓形形狀。也就是說，優(yōu)選涂敷液配管80b中的被可動(dòng)配管支撐部100支撐的被支撐部分與連接在噴出部50上的連接部分之間的區(qū)間，在鉛垂面內(nèi)形成為弓形形狀。該基板處理裝置20具有沿著X方向周期性地同步驅(qū)動(dòng)滑塊44和輔助滑塊65的掃描驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)70。在此，同步驅(qū)動(dòng)滑塊44和輔助滑塊65是指，驅(qū)動(dòng)滑塊44和輔助滑塊65以大致相同的速度在大致相同的移動(dòng)范圍內(nèi)移動(dòng)。在此，掃描驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)70具有用于驅(qū)動(dòng)滑塊44的滑塊驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)72和用于驅(qū)動(dòng)輔助滑塊65的輔助滑塊驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)76?；瑝K驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)72具有一對(duì)滑輪體73、73，設(shè)置在主掃描機(jī)構(gòu)引導(dǎo)部42的兩端部；驅(qū)動(dòng)帶74，卷繞在一對(duì)滑輪體73、73上；馬達(dá)75，能夠驅(qū)動(dòng)一個(gè)滑輪體73沿著正反兩個(gè)方向旋轉(zhuǎn)。在一對(duì)滑輪體73、73間運(yùn)行的兩個(gè)路徑的驅(qū)動(dòng)帶74中的一側(cè)(下側(cè))的驅(qū)動(dòng)帶上連接固定有上述滑塊44的帶安裝架45。另外，在一對(duì)滑輪體73、73間運(yùn)行的兩個(gè)路徑的驅(qū)動(dòng)帶74中的另一側(cè)(上側(cè))的驅(qū)動(dòng)帶上連接固定有上述計(jì)數(shù)器用滑塊48。此外，計(jì)數(shù)器用滑塊48，以隔著滑塊44的往復(fù)移動(dòng)范圍的中央位置(通常為一對(duì)滑輪體73、73的中央位置)配設(shè)在與滑塊44大致對(duì)稱位置上的方式，連接固定在驅(qū)動(dòng)帶74上。另外，通過一邊控制旋轉(zhuǎn)方向、旋轉(zhuǎn)速度、旋轉(zhuǎn)量等一邊驅(qū)動(dòng)馬達(dá)75進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，來驅(qū)動(dòng)滑塊44以及噴出部50 沿著X方向往復(fù)移動(dòng)。另外，此時(shí)，計(jì)數(shù)器用滑塊48隔著一對(duì)滑輪體73、73的中央位置保持在與滑塊44對(duì)稱的位置，并且能夠沿著X方向往復(fù)移動(dòng)。
輔助滑塊驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)76具有一對(duì)滑輪體77、77，設(shè)置在輔助掃描機(jī)構(gòu)引導(dǎo)部62的兩端部；驅(qū)動(dòng)帶78，卷繞在一對(duì)滑輪體77、77上；馬達(dá)79，能夠驅(qū)動(dòng)一個(gè)滑輪體77沿著正反兩個(gè)方向旋轉(zhuǎn)。在一對(duì)滑輪體77、77間運(yùn)行的兩個(gè)路徑的驅(qū)動(dòng)帶78中的一側(cè)(下側(cè))的驅(qū)動(dòng)帶上連接固定有上述輔助滑塊65。另外，以同步驅(qū)動(dòng)上述滑塊44和輔助滑塊65的方式， 也就是說，通過一邊控制旋轉(zhuǎn)方向、旋轉(zhuǎn)速度、旋轉(zhuǎn)量等一邊驅(qū)動(dòng)馬達(dá)79進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，來驅(qū)動(dòng)輔助滑塊65沿著X方向往復(fù)移動(dòng)。但是，在能夠抑制對(duì)在滑塊44和輔助滑塊65間通過的配管80作用大的拉伸力的范圍內(nèi)，輔助滑塊65和滑塊44可以沿著X方向稍微錯(cuò)開。
此外，說明了通過不同的馬達(dá)75、79驅(qū)動(dòng)滑塊44和輔助滑塊65的例子，但是可以通過齒輪或使用滑輪及帶等的傳遞機(jī)構(gòu)將來自共用的馬達(dá)的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)力一分為二進(jìn)行傳遞，由此驅(qū)動(dòng)滑塊44和輔助滑塊65。另外，可以使滑塊44和輔助滑塊65與共用的驅(qū)動(dòng)帶連接，來進(jìn)行同步驅(qū)動(dòng)。另外，用于驅(qū)動(dòng)滑塊44或輔助滑塊65的機(jī)構(gòu)，尤其是用于驅(qū)動(dòng)輔助滑塊65的機(jī)構(gòu)不限于上述例子，還可以使用線性馬達(dá)等各種線性促動(dòng)器。
控制部90的硬件結(jié)構(gòu)與通常的計(jì)算機(jī)相同。即，控制部90是將進(jìn)行各種運(yùn)算處理的CPU、用于存儲(chǔ)基本程序的只讀存儲(chǔ)器即ROM、用于存儲(chǔ)各種信息的讀寫存儲(chǔ)器即RAM、 用于存儲(chǔ)控制 用軟件或數(shù)據(jù)等的磁盤、鍵盤及鼠標(biāo)等輸入部與總線連接而構(gòu)成的。按照預(yù)先存儲(chǔ)在這樣的控制部90中的軟件程序?qū)逄幚硌b置20的動(dòng)作進(jìn)行控制。在總線上連接有涂敷液供給源88、空氣供給源86、馬達(dá)75、79。控制部90在從空氣供給源86供給空氣且開始從涂敷液供給源88供給涂敷液來從各噴嘴54噴出涂敷液的狀態(tài)下，進(jìn)行驅(qū)動(dòng)并控制各馬達(dá)75、79的處理，來同步驅(qū)動(dòng)滑塊44和輔助滑塊65。
在這樣構(gòu)成的基板處理裝置20中，在滑塊44以及輔助滑塊65沿著X方向周期性地往復(fù)移動(dòng)時(shí)，經(jīng)由臂構(gòu)件67與輔助滑塊65連接的板部63圍繞擺動(dòng)軸61周期性地往復(fù)擺動(dòng)。也就是說，隨著與輔助滑塊65同步的滑塊44的運(yùn)動(dòng)，板部63的朝向周期性地變化。 此時(shí)的臂構(gòu)件67的水平擺動(dòng)情況，在圖1中，由箭頭SW以及臂構(gòu)件67的另一個(gè)狀態(tài)67m表不。
以下，利用圖5所示的流程圖說明使用這樣的基板處理裝置20進(jìn)行處理時(shí)的流程。
首先，在將在前一個(gè)工序中進(jìn)行了處理的基板200保持在基板保持部30的工作臺(tái) 32上的狀態(tài)下，以規(guī)定的速度將基板搬運(yùn)至基板處理裝置20 (步驟SI)。在通過例如傳感器等檢測(cè)出搬運(yùn)來了基板200時(shí)，控制部90還向涂敷液供給源88發(fā)送信號(hào)，開始供給涂敷液(步驟S2)。
接著，控制部90向主掃描機(jī)構(gòu)40的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)即馬達(dá)75、輔助掃描機(jī)構(gòu)60的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)即馬達(dá)79發(fā)送信號(hào)。接受該信號(hào)后，主掃描機(jī)構(gòu)40的滑塊44以及輔助掃描機(jī)構(gòu)60 的輔助滑塊65同步地沿著X方向進(jìn)行掃描移動(dòng)(步驟S3)。通過反復(fù)且周期性地進(jìn)行該掃描移動(dòng)，在基板200的表面形成涂敷液的區(qū)域。
通過該輔助掃描機(jī)構(gòu)60的輔助滑塊65進(jìn)行掃描移動(dòng)，可動(dòng)配管支撐部100的板部63經(jīng)由與輔助滑塊65連接的臂構(gòu)件67進(jìn)行擺動(dòng)。也就是說，可動(dòng)配管支撐部100的板部63的朝向隨著輔助滑塊65且隨著與輔助滑塊65同步的滑塊44進(jìn)行變化(步驟S4)。
在這樣從噴嘴54噴出了涂敷液的狀態(tài)下，通過反復(fù)使主掃描機(jī)構(gòu)40在X軸方向上進(jìn)行主掃描和使基板200沿著Y軸方向進(jìn)行移動(dòng)，向基板200的整個(gè)表面噴出涂敷液。
控制部90判斷是否向基板200的整個(gè)面涂敷了涂敷液(步驟S5 )，涂敷了涂敷液的基板200被基板保持部30搬運(yùn)至下游工序。
如上所述，基板處理裝置20具有可動(dòng)配管支撐部100，所述可動(dòng)配管支撐部100支撐涂敷液配管80b的非端部部分，并且所述可動(dòng)配管支撐部100的朝向隨著反復(fù)進(jìn)行主掃描運(yùn)動(dòng)而進(jìn)行 的滑塊44的周期性運(yùn)動(dòng)，而周期性地變化。也就是說，可動(dòng)配管支撐部100 的朝向不是維持在恒定的方向上，隨著滑塊44的運(yùn)動(dòng)而周期性地變化。因此，能夠抑制涂敷液配管80b的被可動(dòng)配管支撐部100支撐的部分產(chǎn)生扭曲。另外，由于不易從外部向涂敷液配管80b的被可動(dòng)配管支撐部100支撐的部分施加力，所以易于將涂敷液配管80b維持為初始狀態(tài)下的姿勢(shì)。也就是說，涂敷液配管80b不易于變得亂擺。結(jié)果，能夠抑制從噴出部50噴出的涂敷液的流量發(fā)生變動(dòng)的情況。
尤其在隨著產(chǎn)品中使用的基板的大型化而基板處理裝置大型化的情況下，隨著噴嘴的數(shù)量增加而涂敷液配管的數(shù)量增加，因而涂敷液配管的亂擺將會(huì)進(jìn)一步增大。因此，與以往相比，本發(fā)明在大型的基板處理裝置中更有效。
另外，基板處理裝置20還具有輔助掃描機(jī)構(gòu)60，涂敷液配管80b的一部分被輔助掃描機(jī)構(gòu)60的輔助滑塊65支撐。因此，涂敷液配管80b的顫動(dòng)和亂擺不易于直接傳遞至噴出部50。另外，由于增加了支撐涂敷液配管80b的位置，所以涂敷液配管80b的姿勢(shì)更穩(wěn)定。由此，能夠抑制從噴出部50噴出的涂敷液的流量的變動(dòng)。
另外，可動(dòng)配管支撐部100經(jīng)由臂構(gòu)件67與輔助滑塊65連接。通過驅(qū)動(dòng)臂構(gòu)件 67，能夠可靠地使可動(dòng)配管支撐部100的朝向變化。
另外，涂敷液配管80b的被可動(dòng)配管支撐部100支撐的被支撐部分和與輔助滑塊 65連接的連接部分之間，形成向上方凸出的弓形形狀。因此，由于該處的涂敷液配管80b 變長(zhǎng)，輔助掃描機(jī)構(gòu)60的顫動(dòng)能夠在弓形形狀的整個(gè)涂敷液配管80b上得以緩解，減小其影響。另外，由于從輔助滑塊65的連接部分延伸出的涂敷液配管80b的部分801向上方立起，所以即使輔助掃描機(jī)構(gòu)60的滑塊65往復(fù)移動(dòng)，也難于產(chǎn)生使涂敷液于涂敷液配管80b 內(nèi)逆流的方向的力。由此，能夠抑制從噴出部50噴出的涂敷液的流量發(fā)生變動(dòng)。
涂敷液配管80b的被可動(dòng)配管支撐部100支撐的被支撐部分和與輔助滑塊65連接的連接部分之間的區(qū)間，形成為向下方凸出的弓形形狀，也能夠?qū)崿F(xiàn)使涂敷液配管80b 的顫動(dòng)得以緩解的效果。因此，在著眼于這樣的平滑化效果的情況下，通常，優(yōu)選使涂敷液配管80b (撓性的處理液配管)的上述區(qū)間的部分在鉛垂面內(nèi)形成為弓形形狀。在此所說的弓形形狀是指涂敷液配管80b比需要的最小長(zhǎng)度(即，在考慮最小的主掃描的振幅的情況下，被可動(dòng)配管支撐部100支撐的被支撐部分和與輔助滑塊65連接的連接部分之間需要的最小距離)長(zhǎng)，而具有余量。
另外，主掃描機(jī)構(gòu)40配置在輔助掃描機(jī)構(gòu)60的下方。因此，易于將與主掃描機(jī)構(gòu) 40具有的噴出部50連接的涂敷液配管80b的端末802維持為向上方立起的狀態(tài)。因此，即使主掃描機(jī)構(gòu)40具有的滑塊44往復(fù)移動(dòng)，也難于產(chǎn)生使涂敷液逆流的方向的力，從而能夠抑制涂敷液的流量發(fā)生變動(dòng)。
<變形例>
以下，說明各種變形例。
首先，在上述實(shí)施方式中，涂敷液配管80b的被可動(dòng)配管支撐部100支撐的被支撐部分和與噴出部50連接的連接部分之間的區(qū)間，形成為向上方凸出的弓形形狀，但是不限于這樣的方式。圖6示出了被可動(dòng)配管支撐部100支撐的被支撐部分和與噴出部50連接的連接部分之間的區(qū)間，沿著臂構(gòu)件67配設(shè)的方式。如圖6所示，該區(qū)間中的涂敷液配管 80b可以配設(shè)為沿著臂構(gòu)件67的延伸方向與臂構(gòu)件67接觸。另外，涂敷液配管80b還可以卷繞在臂構(gòu)件67的周圍。此時(shí)，由于上述的區(qū)間的涂敷液配管80b被臂構(gòu)件67可靠地支撐，所以能夠可靠地抑制該區(qū)間的涂敷液配管80b顫動(dòng)或亂擺。由此，能夠抑制從噴出部 50噴出的涂敷液的流量發(fā)生變動(dòng)。
另外，在上述實(shí)施方式中，輔助掃描機(jī)構(gòu)60具有驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，但不限于此。輔助掃描機(jī)構(gòu)60的輔助滑塊65可以為由于主掃描機(jī)構(gòu)40的滑塊44被驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)進(jìn)行動(dòng)作而往復(fù)移動(dòng)的機(jī)構(gòu)。也就是說，可以為使輔助掃描機(jī)構(gòu)60和可動(dòng)配管支撐部100從動(dòng)于主掃描機(jī)構(gòu)40。
另外，可動(dòng)配管支撐部100不限于從動(dòng)于輔助掃描機(jī)構(gòu)60或主掃描機(jī)構(gòu)40?？蓜?dòng)配管支撐部100例如可以具有馬達(dá)等驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。在可動(dòng)配管支撐部100自身具有用于調(diào)節(jié)其朝向的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的情況下，能夠使可動(dòng)配管支撐部100的朝向可靠地隨著滑塊44以及輔助滑塊65周期性地變化。
另外，在可動(dòng)配管支撐部具有驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的情況下，可動(dòng)配管支撐部可以包括旋轉(zhuǎn)馬達(dá)和具有與旋轉(zhuǎn)馬達(dá)連接的連桿機(jī)構(gòu)的臂構(gòu)件。此時(shí)，從旋轉(zhuǎn)馬達(dá)向具有連桿機(jī)構(gòu)的臂構(gòu)件賦予旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)力，使與具有連桿機(jī)構(gòu)的臂構(gòu)件連接的輔助滑塊及滑塊直線運(yùn)動(dòng)。
另外，圖7示出了在板部63和輔助滑塊65之間沒有設(shè)置有臂構(gòu)件67的狀態(tài)的基板處理裝置的主要部分的配置關(guān)系。圖7所示的可動(dòng)配管支撐部IOOb不具有臂構(gòu)件67。 可以是這樣的方式。此時(shí)，優(yōu)選設(shè)置用于改變可動(dòng)配管支撐部IOOb的板部63的朝向的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，例如設(shè)置馬達(dá)68。馬達(dá)68被控制部90控制，控制部90以使板部63的朝向隨著往復(fù)移動(dòng)的滑塊44以及輔助滑塊65周期性地變化的方式驅(qū)動(dòng)馬達(dá)68，使擺動(dòng)軸61的可動(dòng)部分61b擺動(dòng)。
這樣，在可動(dòng)配管支撐部100自身具有用于調(diào)節(jié)其方向的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的情況下，能夠使可動(dòng)配管支撐部100的朝向可靠地隨著滑塊44以及輔助滑塊65周期性地變化。
此外，可動(dòng)配管支撐部IOOb可以不具有驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)?？梢园凑蛰o助滑塊65的移動(dòng)， 使涂敷液配管80b牽拉可動(dòng)配管支撐部IOOb來使可動(dòng)配管支撐部IOOb的朝向變化。
另外，基板處理裝置20可以不具有輔助掃描機(jī)構(gòu)60。也就是說，可以成為主要具有主掃描機(jī)構(gòu)40、可動(dòng)配管支撐部IOOc的基板處理裝置。
圖8概略地表示此情況下的主要部分的配置關(guān)系。隨著主掃描機(jī)構(gòu)40的滑塊44 的往復(fù)移動(dòng)，板部63的朝向周期性地變化。在此，可動(dòng)配管支撐部IOOc具有作為驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的馬達(dá)68。此外，如上所述，優(yōu)選涂敷液配管80b的在可動(dòng)配管支撐部IOOc和噴出部50 之間的區(qū)間 ，形成為弓形形狀。更優(yōu)選，該區(qū)間形成為向上方凸出的弓形形狀。其理由與圖1 圖4所示的實(shí)施方式所述的理由相同。另外，可以形成為可動(dòng)配管支撐部IOOc具有臂構(gòu)件的形態(tài)。也就是說，可動(dòng)配管支撐部IOOc可以與滑塊44連接。
本發(fā)明通常不僅適用于向大致水平姿勢(shì)的基板供給涂敷液的基板處理裝置，還適用于向大致水平姿勢(shì)的基板供給處理液的基板處理裝置以及處理液賦予方法。
權(quán)利要求
1.一種基板處理裝置，其特征在于，具有 基板保持部，其將基板保持為大致水平， 主掃描機(jī)構(gòu)，其具有沿著大致平行于所述基板的主掃描方向延伸的引導(dǎo)部、被所述引導(dǎo)部支撐且能夠沿著所述主掃描方向移動(dòng)的移動(dòng)部， 噴出部，其被所述移動(dòng)部支撐且能夠沿著所述主掃描方向移動(dòng)，并用于向所述基板噴出處理液， 撓性的配管，其與所述噴出部連接，并用于向所述噴出部引導(dǎo)處理液， 可動(dòng)配管支撐部，其用于支撐所述配管的非端部部分，并且該可動(dòng)配管支撐部的朝向隨著所述移動(dòng)部的周期性運(yùn)動(dòng)而周期性地變化，所述移動(dòng)部的周期性運(yùn)動(dòng)是因主掃描的反復(fù)進(jìn)行而引起的。
2.如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，所述配管上的被所述可動(dòng)配管支撐部支撐的被支撐部分和與所述噴出部連接的連接部分之間的區(qū)間，在鉛垂面內(nèi)形成為弓形形狀。
3.如權(quán)利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于，所述配管上的所述區(qū)間形成為向上方凸出的弓形形狀。
4.如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于， 還具有輔助掃描機(jī)構(gòu)，所述輔助掃描機(jī)構(gòu)具有沿著所述引導(dǎo)部延伸的輔助引導(dǎo)部、被所述輔助弓I導(dǎo)部支撐且能夠沿著所述主掃描方向移動(dòng)的輔助移動(dòng)部， 所述配管上的被所述可動(dòng)配管支撐部支撐的被支撐部分和與所述噴出部連接的連接部分之間的規(guī)定部分，被所述輔助移動(dòng)部支撐。
5.如權(quán)利要求4所述的基板處理裝置，其特征在于，所述可動(dòng)配管支撐部與所述輔助移動(dòng)部相連接。
6.如權(quán)利要求4所述的基板處理裝置，其特征在于，所述配管上的被所述可動(dòng)配管支撐部支撐的被支撐部分和與所述輔助移動(dòng)部連接的連接部分之間的區(qū)間，在鉛垂面內(nèi)形成為弓形形狀。
7.如權(quán)利要求4所述的基板處理裝置，其特征在于，所述主掃描機(jī)構(gòu)配置在所述輔助掃描機(jī)構(gòu)的下方。
8.如權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的基板處理裝置，其特征在于，還具有用于調(diào)節(jié)所述可動(dòng)配管支撐部的朝向的驅(qū)動(dòng)部。
9.一種處理液賦予方法，其特征在于，包括 第一工序，將基板保持為大致水平， 第二工序，一邊從噴出部噴出處理液，一邊使支撐所述噴出部的移動(dòng)部沿著主掃描方向在基板上周期性地進(jìn)行掃描移動(dòng)， 第三工序，使可動(dòng)配管支撐部的朝向隨著進(jìn)行掃描移動(dòng)的所述移動(dòng)部而周期性地變化，所述可動(dòng)配管支撐部用于支撐向所述噴出部引導(dǎo)所述處理液的撓性的配管的非端部部分。
全文摘要
本發(fā)明提供一種能夠抑制從移動(dòng)的噴嘴噴出的處理液的流量發(fā)生變動(dòng)的技術(shù)。基板處理裝置具有基板保持部，其將基板保持為大致水平；主掃描機(jī)構(gòu)，其具有沿著大致平行于基板的主掃描方向延伸的主掃描機(jī)構(gòu)引導(dǎo)部、被主掃描機(jī)構(gòu)引導(dǎo)部支撐且能夠沿著主掃描方向移動(dòng)的滑塊；噴出部，其被滑塊支撐且能夠沿著主掃描方向移動(dòng)，并用于向基板噴出涂敷液；撓性的涂敷液配管，其與噴出部連接且向噴出部引導(dǎo)涂敷液；可動(dòng)配管支撐部，其支撐涂敷液配管的非端部部分，并且可動(dòng)配管支撐部的朝向隨著主掃描的反復(fù)進(jìn)行引起的滑塊周期性運(yùn)動(dòng)而周期性地變化。
文檔編號(hào)C03C17/00GK102992641SQ201210210429
公開日2013年3月27日 申請(qǐng)日期2012年6月20日 優(yōu)先權(quán)日2011年9月12日
發(fā)明者大宅宗明, 高村幸宏, 相良秀一, 伊藤隆介 申請(qǐng)人:大日本網(wǎng)屏制造株式會(huì)社