專利名稱：新型同塔四回路塔頭結(jié)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種塔頭結(jié)構(gòu)，尤其是指一種新型同塔四回路塔頭結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)：
隨著國民經(jīng)濟(jì)迅速增長、電網(wǎng)建設(shè)不斷發(fā)展，架設(shè)送電線路走廊占用土地的矛盾 日益突出。特別是珠江三角洲地區(qū)，在線路設(shè)計(jì)時(shí)辦理路徑協(xié)議十分困難，有時(shí)即使同意線 路通過，也需拆遷大量民房或占用規(guī)劃、開發(fā)區(qū)的用地，工程拆遷賠償費(fèi)用巨大，因此研究 和設(shè)計(jì)同塔多回路線路，提高送電線路單位面積走廊的輸送能力，是設(shè)計(jì)單位非常緊迫的 任務(wù)。在現(xiàn)有技術(shù)一中，IlOkV 500kV同塔四回路線路的塔頭布置主要采用同塔四個(gè) 回路導(dǎo)線3a、3b、3c、3d水平排列，鐵塔下半部分采用一個(gè)塔身2，該塔型的塔頭1采用三層 導(dǎo)線橫擔(dān)4布置，每層導(dǎo)線橫擔(dān)4掛四相導(dǎo)線，如圖1所示。當(dāng)導(dǎo)線3a或3d回路停電維修 而其他三個(gè)回路帶電時(shí)，檢修作業(yè)人員需帶工具穿越帶電導(dǎo)線3b或3c的回路至停電導(dǎo)線 3a或3d的回路，極為危險(xiǎn)，為確保作業(yè)人員的人身安全，檢修期間需要將導(dǎo)線3b或3c的回 路同時(shí)停電，故增加了同塔停電回路數(shù)，影響了電力系統(tǒng)的電能傳輸及可靠性。如圖2所示，現(xiàn)有技術(shù)二中另一種同塔四回路線路的塔頭結(jié)構(gòu)，采用同塔四回路 導(dǎo)線垂直排列，塔頭采用六層導(dǎo)線橫擔(dān)布置(不包括一層地線橫擔(dān))，每層導(dǎo)線橫擔(dān)左、右 兩側(cè)各掛一相導(dǎo)線。該種塔頭結(jié)構(gòu)雖解決了檢修維護(hù)不便的缺點(diǎn)，但又出現(xiàn)了新的技術(shù)問 題，塔頭結(jié)構(gòu)增加了三層導(dǎo)線橫擔(dān)，故鐵塔全高比現(xiàn)有技術(shù)的塔頭結(jié)構(gòu)約高32m，塔重增加 約50%，工程投資大。因鐵塔全高增加較高，從而使得被雷擊次數(shù)增多，同時(shí)上層導(dǎo)線橫擔(dān) 雷擊時(shí)的電位值也增高，故雷擊跳閘率增大。因此，本實(shí)用新型提供一種新型同塔四回路塔頭結(jié)構(gòu)，其不僅避免了故障回路檢 修時(shí)使非故障回路導(dǎo)線同時(shí)停電的缺點(diǎn)，同時(shí)改善了線路的防雷性能，減少了雷擊率。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明提供了一種新型同塔四回路塔頭結(jié)構(gòu)，其不僅具有較好的經(jīng)濟(jì)性，且避免 了檢修時(shí)非故障回路的停電，同時(shí)又具有較高的耐雷擊能力。上述目的是這樣實(shí)現(xiàn)的一種新型同塔四回路塔頭結(jié)構(gòu)，其包括有塔身、塔頭、及三層導(dǎo)線橫擔(dān)，每層導(dǎo)線 橫擔(dān)掛四相導(dǎo)線。該塔頭具有二分支塔頭，每個(gè)分支塔頭分別位于該塔的左、右兩對(duì)回路導(dǎo) 線的中間。各個(gè)回路導(dǎo)線都與該分支塔頭相鄰，在檢修時(shí)可通過相應(yīng)的分支塔頭直接進(jìn)入 相應(yīng)回路的導(dǎo)線。優(yōu)選的是，其更包括地線支架，其與最上層的導(dǎo)線橫擔(dān)及每個(gè)分支塔頭連接，地線 支架與塔頭連接，降低了雷擊地線時(shí)雷擊電流所產(chǎn)生的電位值，減小絕緣子串閃絡(luò)的概率， 從而降低了雷擊跳閘率，改善了線路的防雷性能。為了更優(yōu)化該塔頭的結(jié)構(gòu)，該分支塔頭具有塔頭身部和連接部，該塔頭的身部通過連接部與鐵塔塔身連接，而塔頭身部位于左、右兩對(duì)回路導(dǎo)線的中間，檢修時(shí)，依次通過 鐵塔塔身、連接部、塔頭身部再進(jìn)入相應(yīng)回路的導(dǎo)線。本實(shí)用新型的同塔四回路塔頭結(jié)構(gòu)與現(xiàn)有技術(shù)相比，在塔重和塔高不變的條件 下，將鐵塔上部的塔頭身部一分為二分別布置在左右兩個(gè)雙回路的中間，這樣由塔頭 身部 可直接進(jìn)入停電檢修的任何一個(gè)回路，而不需穿越其它帶電回路，極大地方便同塔四回路 線路的運(yùn)行維護(hù)，不僅克服了檢修時(shí)的非故障回路導(dǎo)線停電的問題，且不增加塔頭結(jié)構(gòu)的 高度，塔重輕，工程投資低，經(jīng)濟(jì)性好；同時(shí)，將地線支架直接與塔頭身部連接，降低雷擊地 線時(shí)雷電流所產(chǎn)生的電位值，減小絕緣子串閃絡(luò)的概率，降低了雷擊跳閘率，改善了線路的 防雷性能。

圖1為現(xiàn)有技術(shù)一的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為現(xiàn)有技術(shù)二的結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
下面將結(jié)合圖3及實(shí)例對(duì)本發(fā)明進(jìn)一步詳細(xì)說明。本實(shí)用新型同塔四回路塔頭結(jié)構(gòu)，其包括有塔身10、塔頭20、及四個(gè)回路導(dǎo)線 30a、30b、30c、30d，三層導(dǎo)線橫擔(dān)40a、40b、40c。其中，該導(dǎo)線橫擔(dān)40a、40b、40c掛四個(gè)回 路導(dǎo)線30a、30b、30c、30d，該塔頭20具有二個(gè)分支塔頭20a、20b，其中分支塔頭20a位于兩 個(gè)回路導(dǎo)線30a及30b之間，而分支塔頭20b位于另兩個(gè)回路導(dǎo)線30c及30d之間，在檢修 時(shí)，可通過塔身10、分支塔頭20a或20b，即可直接進(jìn)入各個(gè)回路導(dǎo)線30a、30b、30c、30d。該分支塔頭20a、20b還分別具有塔頭身部20la、201b，及連接部202a、202b，該塔 頭身部201a位于回路導(dǎo)線30a及30b之間，而該201b位于回路導(dǎo)線30c及30d之間，該連 接部202a、202b分別將塔頭身部201a、201b與塔身10連接。通過塔身10、連接部202a或 202b、塔頭身部201a或201b，可直接進(jìn)入任何一回路導(dǎo)線30a、30b、30c、30d。該塔頭結(jié)構(gòu)更包括地線支架50，其與最上層的導(dǎo)線橫擔(dān)40a及每分支塔頭20a、 20b連接，使得地線支架與塔頭處A與塔頭的頂端B重合，當(dāng)雷擊地線時(shí)，因雷電流在B點(diǎn)所 產(chǎn)生的電位值低于A點(diǎn)所產(chǎn)生的電位值，造成絕緣子串閃絡(luò)的概率減小，從而降低了雷擊 跳閘率，改善了線路的防雷性能。以上所述者，僅為本發(fā)明之較佳實(shí)施例而已，當(dāng)不能以此限定本發(fā)明實(shí)施之范圍， 即大凡依本發(fā)明權(quán)利要求及發(fā)明說明書所記載的內(nèi)容所作出簡單的等效變化與修飾，皆仍 屬本發(fā)明權(quán)利要求所涵蓋范圍之內(nèi)。此外，摘要部分和標(biāo)題僅是用來輔助專利文件搜尋之 用，并非用來限制本發(fā)明之權(quán)利范圍。
權(quán)利要求一種新型同塔四回路塔頭結(jié)構(gòu)，其包括有塔身、塔頭、及三層導(dǎo)線橫擔(dān)，每層導(dǎo)線橫擔(dān)掛四相導(dǎo)線，其特征在于，該塔頭具有二分支塔頭，每個(gè)分支塔頭分別位于該塔的左、右兩對(duì)回路導(dǎo)線的中間。
2.如權(quán)利要求1所述的新型同塔四回路塔頭結(jié)構(gòu)，其特征在于，其更包括地線支架，其 與最上層的導(dǎo)線橫擔(dān)及每個(gè)分支塔頭連接。
3 如權(quán)利要求1或2所述的新型同塔四回路塔頭結(jié)構(gòu)，其特征在于，該分支塔頭具有塔 頭身部和連接部，該塔頭身部通過該連接部與鐵塔塔身連接，而塔頭身部位于左、右兩對(duì)回 路導(dǎo)線的中間。
專利摘要一種新型同塔四回路塔頭結(jié)構(gòu)，其包括有塔身、塔頭、及三層導(dǎo)線橫擔(dān)，每層導(dǎo)線橫擔(dān)掛四相導(dǎo)線。該塔頭具有二分支塔頭，每個(gè)分支塔頭分別位于該塔的左、右兩對(duì)回路導(dǎo)線的中間。本實(shí)用新型的塔頭結(jié)構(gòu)不僅克服了故障回路檢修時(shí)使非故障回路導(dǎo)線停電的缺點(diǎn)，且不增加塔頭結(jié)構(gòu)的高度，塔重輕，工程投資低，經(jīng)濟(jì)性好，同時(shí)又降低了雷擊跳閘率。
文檔編號(hào)E04H12/08GK201639247SQ201020130358
公開日2010年11月17日 申請(qǐng)日期2010年3月10日 優(yōu)先權(quán)日2010年3月10日
發(fā)明者潘春平, 熊靜進(jìn), 黎景輝 申請(qǐng)人:廣東省電力設(shè)計(jì)研究院