專利名稱：高折射率，低色散環(huán)保鑭系光學(xué)玻璃，TZLaF8的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種高折射率，低色散環(huán)保鑭系光學(xué)玻璃，TZLaFS，本發(fā)明是鑭火石玻 璃大類中的一個牌號，是制造數(shù)碼相機，數(shù)碼攝像機、手機、顯微鏡等必要的配套材料，同時 也被廣泛地運用于航天、航空等高折射率低色散的環(huán)保鑭系光學(xué)玻璃。
背景技術(shù)：
TLaF8具有折射率高nd 1. 78427，色散低nF_nc 0. 01899的特點，原來的TLaF8鑭 系光學(xué)玻璃含有氧化鉛PbO，氧化砷AS203等有毒有害的物質(zhì)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明T LaF8按重量百分比計量的組份為Si02 3-6 %, B203 22-29 %, La203 20-28%, Y203 6-9%, Ta205 3-5%, Zr02 2-4%, ZnO 1-4%, Nb205 4-9%, Ti02 4-7%, BaO 16-25%。采用上述配方，制造重鑭火石玻璃TLaF8時，先將各組份混合均勻，在1430°C 1480°C鉬金坩堝中熔制，采用的加熱方式為用硅鉬棒電加熱，采用漏料工藝?yán)瞥筛鞣N 規(guī)格的板料，經(jīng)過網(wǎng)帶粗退火，爆成各種長度尺寸，然后在精密退火爐中升到退火溫度 620°C 650°C保溫15小時再按工藝降溫，7天左右降到室溫。目前環(huán)保的TLaF8去掉了氧化鉛PbO，氧化砷兩種物質(zhì)，一般來講，氧化鉛PbO具有 提高折射率的功效，氧化砷as203具有澄清作用。簡單地用一種或多種組份代替氧化鉛PbO 一般不能成功地再現(xiàn)所希望的受氧化鉛PbO影響的光學(xué)和玻璃工藝性能，反之需要對玻璃 組成進行重新組合。去掉氧化鉛PbO的組份適當(dāng)增加氧化鈦Ti02、氧化鑭La203、氧化鋇B a0的組份，可能使光學(xué)常數(shù)達到TLaF8的標(biāo)準(zhǔn)，難熔物氧化鈦Ti02的增加提高了玻璃的熔 制溫度，氧化鑭La203的適當(dāng)引入可使玻璃的透光性增加，但過量引入易使玻璃析晶性能變 差，氧化鋇BaO的引入使玻璃的單價成本大大降低，所以本發(fā)明玻璃成份氧化鋇BaO含量較 高，但過多引入要使玻璃析晶性能變差，不利于實際生產(chǎn)。為了在高折射率下改變和精確地調(diào)正低色散，這一玻璃配方中引入適量的氧化 鉭Ta205及氧化鈮Nb205，同時也改善了玻璃的析晶性能。為了在保證高折射率，低色散這一特點前提下，提高玻璃的化學(xué)穩(wěn)定性，引入了適 量的氧化鋯&02，但是氧化鋯&02引入過多易使玻璃的析晶性能差，所以只作為適量引入。去掉氧化砷AS203后，玻璃熔制時無澄清劑，通過工藝改進，適當(dāng)提高熔制溫度，改 變加料方式，經(jīng)過多次試制最后取得了滿意的效果，使玻璃的氣泡達到光學(xué)玻璃的標(biāo)準(zhǔn)0A 級別。本發(fā)明中無AS203 PbO CdO，屬于環(huán)保光學(xué)玻璃。
具體實施例方式下面再用實施例，對本發(fā)明作進一步的說明本發(fā)明中各分子式的中文名稱如下
Si02_氧化硅，B203—氧化硼，La203—氧化鑭，Y203—氧化釔，Ta205_氧化鉭，Zr02_氧化鋯，ZnO—氧化鋅，Nb205_氧化鈮，Ti02_氧化鈦，BaO—氧化鋇。本發(fā)明的實施例1-5組份，工藝參數(shù)性能如下表
權(quán)利要求
高折射率，低色散環(huán)保鑭系光學(xué)玻璃，TZLaF8，其特征在于含有按重量百分比計量的如下組份SiO2 3 7％，B2O3 22 30％，La2O3 20 30％，Y2O3 6 10％，Ta2O5 3 7％，ZrO2 2 5％，ZnO 1 5％，Nb2O5 4 10％，TiO2 4 9％，BaO 15 26％。
2.制備基于權(quán)利要求1所述的高折射率，低色散環(huán)保鑭系光學(xué)玻璃，TZLaF4的方法，其 特征在于將上述組份混合，經(jīng)1430°C 1480°C熔制，1150°C成型。再經(jīng)620°C 650°C精密 退火7天左右，即可獲得。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種高折射率，低色散環(huán)保鑭系光學(xué)玻璃TZLaF8，含有按重量百分比計算的如下組份SiO2 3-7％，B2O3 22-30％，La2O3 20-30％，Y2O3 6-10％，Ta2O5 3-7％，ZrO2 2-5％，ZnO 1-5％，Nb2O54-10％，TiO24-9％，BaO 15-26％。將上述組份混合，經(jīng)1430℃～1480℃熔制，1150℃成型。再經(jīng)620℃～650℃精密退火7天左右，TZLaF8是用于制造數(shù)碼相機，數(shù)碼攝像機及高級手機等高折射率低色散鑭系光學(xué)玻璃。
文檔編號C03C3/068GK101973703SQ20101052632
公開日2011年2月16日 申請日期2010年10月29日 優(yōu)先權(quán)日2010年10月29日
發(fā)明者湯志平 申請人:南通晶鑫光學(xué)玻璃有限公司