專利名稱：電子裝置用玻璃襯底以及電子裝置的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及在顯示裝置等的電子裝置的露出部中使用的玻璃襯底的制造方法以 及這樣的電子裝置的制造方法。
背景技術(shù)：
在顯示裝置等的露出部中需要設(shè)置防止破損、玷污的透明的覆蓋部件。在此，作為 覆蓋部件，塑料是最簡單的，但也提出了使用觀察性、耐久性、耐酸性、耐熱性等都比塑料好 的玻璃。另外，在觸摸屏一體型的液晶顯示器的觸摸屏中也是，使用玻璃來取代PET(聚對 苯二甲酸乙二酯)等的薄膜部件時，從制造工序上的制約少且可以利用上述玻璃的優(yōu)點的 角度來看，是優(yōu)選的。<專利文獻(xiàn)1>日本特開2007-241179號公報但是，在電子裝置的露出部中使用玻璃時，需要有用來防止在電子裝置的制造和 使用時防止觸摸屏、蓋板玻璃破損的萬全之策。另外，反射造成的對玻璃面的映射的對策也 是很重要的。本發(fā)明正是鑒于上述問題而提出的，其目的在于提供無須特別增加制造成本就可 以在物理上改善玻璃的脆性、有效利用玻璃的長處的電子裝置用的玻璃襯底以及電子裝置。

發(fā)明內(nèi)容
為了實現(xiàn)上述目的，根據(jù)方案1的玻璃襯底的制造方法，從一片玻璃母材制造多 片電子裝置用玻璃襯底，其具有以下工序在玻璃母材的表背面中的表面?zhèn)仍O(shè)置耐氫氟酸 性的抗蝕劑層的抗蝕劑工序(ST2)；用激光或切割刀刃從玻璃母材的表面?zhèn)刃纬刹回炌ú?璃母材的劃分線，把玻璃母材劃分成多個使用區(qū)域的劃分工序(ST3)；以及蝕刻經(jīng)過了劃 分工序的玻璃母材，從背面?zhèn)仁共Ａ覆臏p薄，并且使上述劃分線加深的蝕刻工序(ST4)。在本發(fā)明的蝕刻工序中，優(yōu)選地，把以背面?zhèn)茸鳛樯媳砻娴牟Ａ覆谋３譃樗?狀態(tài)，進(jìn)行蝕刻處理。另外，在蝕刻工序中，向玻璃母材的表面和背面噴射化學(xué)研磨液是優(yōu) 選的。根據(jù)方案2的玻璃襯底的制造方法，從一片玻璃母材制造多片電子裝置用玻璃襯 底，其具有以下工序在玻璃母材的表背面中的表面?zhèn)入x散地設(shè)置耐氫氟酸性的表面抗蝕 劑層，并且在玻璃母材的背面?zhèn)仍谂c表面抗蝕劑層對應(yīng)的位置上也設(shè)置耐氫氟酸性的背面 抗蝕劑層的抗蝕劑工序(ST11 ST13)；蝕刻玻璃母材中的未設(shè)置抗蝕劑層的部分，形成不 貫通玻璃母材的劃分線，把玻璃母材劃分成多個使用區(qū)域的劃分工序(ST14)；以及在剝離 了表面抗蝕劑層和背面抗蝕劑層的狀態(tài)下蝕刻整個玻璃母材，使上述玻璃母材減薄，并且 使上述劃分線加深的蝕刻工序(ST16)。根據(jù)方案3的玻璃襯底的制造方法，從一片玻璃母材制造多片電子裝置用玻璃襯底，其具有以下工序在玻璃母材的表背面中的表面?zhèn)入x散地設(shè)置耐氫氟酸性的表面抗蝕 劑層，且在玻璃母材的背面?zhèn)仍谂c表面抗蝕劑層對應(yīng)的位置上也設(shè)置耐氫氟酸性的背面抗 蝕劑層的抗蝕劑工序(ST21 ST23)；蝕刻玻璃母材中的未設(shè)置抗蝕劑層的部分，針對玻璃 襯底的每個使用區(qū)域分離玻璃母材的分離工序(ST24)；以及進(jìn)一步蝕刻上述玻璃襯底的 端面，使玻璃端面中的板厚中心區(qū)域變形成圓弧面的變形工序(ST25)。根據(jù)方案9的電子裝置的制造方法，其具有把上述玻璃襯底作為與使用者接觸 的蓋板玻璃組裝到電子裝置中的工序。在此，所謂與使用者接觸是包括直接接觸和間接接 觸的概念，但不管是哪種情況，該蓋板玻璃都有被人為按壓的可能性。
另外，根據(jù)方案10的電子裝置的制造方法，其具有把上述玻璃襯底作為觸摸屏 一體型的顯示裝置的觸摸屏中的使用者側(cè)的部件組裝到電子裝置中的工序。另外，該使用 者側(cè)的部件也可能被人為按壓。上述的任一個發(fā)明都是從一片玻璃母材制造多片電子裝置用玻璃襯底，但由于玻 璃襯底的周邊不被物理地切斷，所以不產(chǎn)生裂紋等，大幅改善了機(jī)械強度。即，多數(shù)情況下， 玻璃尤其是其周邊處存在的裂紋成為破損的基點，但由于本發(fā)明中制造的玻璃襯底的周邊 不存在裂紋，所以玻璃的脆性被大幅改善。另外，在根據(jù)方案1或方案2的發(fā)明中，由于設(shè)置蝕刻工序，減薄玻璃母材的背面 或玻璃母材的表面和背面，所以不僅玻璃襯底的周邊，至少在其背面上也殘留有裂紋。由于 從具有反射防止膜的玻璃襯底的表面?zhèn)仁┘尤藶榈耐獠繅毫?，所以如果殘留有背面?zhèn)鹊牧?紋，則恐怕玻璃會以它為基點而斷裂，但由于在本發(fā)明的玻璃襯底的背面未殘留有裂紋，所 以可以提高玻璃襯底的物理強度。因此，即使在例如顯示裝置的蓋板玻璃中使用也表現(xiàn)出 優(yōu)良的強度。另外，作為觸摸屏中使用的薄膜部件的代用品，也可以有效地利用本發(fā)明的玻 璃襯底。另外，在本發(fā)明中，由于設(shè)置蝕刻工序，所以即使在劃分工序中萬一在周邊部產(chǎn)生 尖銳的角，該角在蝕刻工序中也被倒圓而平滑化。因此，在隨后的制造工序中，即使與玻璃 周邊有某種接觸，發(fā)生新的裂紋的可能性也大大降低。另外，在本發(fā)明中，在蝕刻工序中，雖然無須一定使劃分線貫通，但通過使劃分線 貫通可以極大地提高玻璃襯底的機(jī)械強度。另一方面，在采用在劃分線不貫通的階段結(jié)束 蝕刻工序的實施方式時，除去抗蝕劑層的剝離處理容易且可靠。即，雖然玻璃母材具有劃分 線，但可以把整個玻璃母材作為一體來進(jìn)行剝離處理，所以制造效率不會變差。與此相對， 在分離成一個一個的玻璃襯底后除去覆蓋膜層時，必須有把一個一個的玻璃襯底排列起來 的操作。在只在玻璃母材的表面上設(shè)置抗蝕劑層的根據(jù)方案1的發(fā)明的情況下，優(yōu)選地， 使在玻璃母材上貼附的干膜抗蝕劑層感光而形成抗蝕劑層。另一方面，在在玻璃母材的表 面和背面上設(shè)置抗蝕劑層的根據(jù)方案2、方案3的發(fā)明的情況下，不限于上述方法，也可以 通過把玻璃母材浸漬在掩蔽劑中而掩蔽玻璃母材。反射防止膜通常是利用薄膜表面的反射光與薄膜背面的反射光的相位差消除反 射波的膜，優(yōu)選地，利用濺射處理在玻璃表面上依次層疊SiO2層、TiO2層、SiO2層、TiO2層、 SiO2層而構(gòu)成。另外，也可以取代氧化鈦TiO2層而設(shè)置氧化銦錫ITO層，還可以取代五層 結(jié)構(gòu)而利用由SiO2層、TiO2層、SiO2層、TiO2層構(gòu)成的四層結(jié)構(gòu)。
另外，上述玻璃母材優(yōu)選應(yīng)為堿性玻璃(alkali glass)。由于堿性玻璃價格低廉，所以作為電子裝置的蓋板玻璃等是有效的，比丙烯板等表現(xiàn)出更好的透射率。另外，不僅僅 是觀察性，在包含耐酸性、耐熱性的耐久性方面也比丙烯板等更好。根據(jù)上述的本發(fā)明，可以制造改善了玻璃的脆性的玻璃襯底，可以實現(xiàn)有效利用 玻璃的長處的電子裝置。


圖1是例示玻璃襯底的第一制造方法的流程圖。圖2是例示玻璃襯底的第二制造方法的流程圖。圖3是例示光掩模的構(gòu)成的平面圖。圖4是示出設(shè)置了抗蝕劑層的玻璃襯底的平面圖。圖5是例示玻璃襯底的第三制造方法的流程圖。圖6是示出設(shè)置了抗蝕劑層的玻璃襯底的平面圖。
具體實施例方式下面，基于實施例詳細(xì)說明本發(fā)明。(實施例1)圖1是例示根據(jù)實施例1的玻璃襯底的制造方法的流程圖。在此，經(jīng)步驟STl ST6的工序制造的玻璃襯底用作例如便攜電話的液晶顯示器的蓋板玻璃。另外，也可以用作 構(gòu)成觸摸屏一體型的液晶顯示器的使用者側(cè)的玻璃襯底。另外，在觸摸屏一體型的液晶顯 示器中，由于兩個玻璃襯底中的一個兼作觸摸屏的玻璃襯底，所以由圖1的工序制造的玻 璃襯底用作面對構(gòu)成液晶顯示器的玻璃襯底的使用者側(cè)的玻璃襯底。下面，基于圖1說明。在該實施例中，使用具有400mmX 500mm左右的面積且減薄 至IJ Imm以下(優(yōu)選為0.7mm左右)的堿性玻璃GL。另外，首先在玻璃母材GL的表背面中的 一面(例如表面?zhèn)?上形成反射防止膜(STl)。具體地說，利用濺射法在玻璃母材GL上反 復(fù)多次層疊二氧化硅SiO2層和氧化鈦TiO2層。 雖然沒有特別限定，但優(yōu)選地，象圖1 (a)所示的那樣，依次形成SiO2 (Fal 層)、TiO2(Fbl 層)、Si02(Fa2 層)、Ti02(Fb2 層)、Si02(Fa3 層)這五層。另外，此 時，以100 700人左右的膜厚形成Fal層，以100 300人左右的膜厚形成Fbl層、 以100~500人左右的膜厚形成層、以500 1500A左右的膜厚形成Fb2層、以 100 1000人左右的膜厚形成Fa3層。接著，在玻璃母材GL的表面上貼附干膜抗蝕劑以覆蓋反射防止膜，照射紫外線， 形成耐氫氟酸性的抗蝕劑層RS(ST2)。另外，圖1 (a)示出玻璃母材GL、反射防止膜和抗蝕 劑層RS的層疊關(guān)系。然后，從抗蝕劑層RS的上表面照射激光，沿著劃分線使玻璃母材GL改性(ST3)。 由于利用激光的劃分線以未貫通玻璃母材的深度形成，所以即使在步驟ST3的處理后仍然 維持玻璃母材的一體性。另外，雖然通常用該劃分線把玻璃母材GL劃分成40mmX70mm左 右的矩形形狀，但當(dāng)然也可以劃分成大致圓形等其它任意形狀。另外，也可以取代照射激光而使用劃線機(jī)(scribing machine)，此時用切割刀刃形成成為切入溝GV的劃分線(ST3')。圖1(b)示出形成了劃分線GV的玻璃母材，此時也 是，由于劃分線GV未貫通玻璃母材GL，所以維持了玻璃母材GL的一體性。然后，利用含有氫氟酸的化學(xué)研磨液，蝕刻經(jīng)過了步驟ST3或步驟ST3'的處理后 的玻璃母材GL。作為化學(xué)研磨液，含有1 10重量％氫氟酸、20 50重量％硫酸的化學(xué) 研磨液是優(yōu)選的。氫氟酸的濃度優(yōu)選為1 5重量％，更優(yōu)選為1 3重量％。另外，該研 磨液中的硫酸的濃度優(yōu)選為30 45重量％，更優(yōu)選為35 42重量％。
由于玻璃母材GL的未被抗蝕劑層RS覆蓋的部分通過該蝕刻處理被蝕刻，所以劃 分線GV加深，并且玻璃母材GL還被從背面?zhèn)葴p薄。其結(jié)果，即使假設(shè)在形成劃分線GV時 和隨后的搬運時等產(chǎn)生了裂紋，也可以消除它。蝕刻量要適當(dāng)?shù)卦O(shè)定，但如果玻璃母材GL的板厚為0. 7mm左右，經(jīng)步驟ST4的處 理后玻璃母材GL被減薄到0. 6 0. 5mm左右，其結(jié)果劃分線GV事實上貫通了玻璃母材GL。 被減薄到該程度的玻璃母材可以以90°以下的角度自由彎曲，但在本實施例中由于減薄玻 璃母材GL并且劃分線GV被平滑化，所以從玻璃母材GL切出的玻璃襯底的端面上不存在裂 紋，表現(xiàn)出優(yōu)良的切割強度。另外，優(yōu)選地，在步驟ST4的處理中，把未被抗蝕劑層RS覆蓋的玻璃母材GL的背 面?zhèn)茸鳛樯媳砻?，從保持為水平狀態(tài)的玻璃母材GL的表面和背面淋浴狀地噴灑化學(xué)研磨 液。玻璃母材GL，通過收存在例如專用的收存箱中，在收存箱的下面網(wǎng)狀地形成，可以使化 學(xué)研磨液直接接觸劃分線GV。另外，由于劃分線GV向下方開口，所以蝕刻處理產(chǎn)生的反應(yīng) 產(chǎn)物不會殘留附著在劃分線GV上。而且，如果采用這樣的構(gòu)成，由于玻璃母材GL被保持為水平狀態(tài)，所以即使劃分 線GV加深，從玻璃母材GL分離的玻璃襯底也不會分離成散片。另一方面，在化學(xué)研磨槽中 浸漬玻璃母材時，玻璃母材在化學(xué)研磨液中晃動，容易沿劃分線分割玻璃母材而使玻璃襯 底分離成散片。如果象以上那樣結(jié)束步驟ST4的蝕刻處理，則通過剝離抗蝕劑層RS完成顯示裝置 用的蓋板玻璃(ST5)。(實施例2)圖2是例示根據(jù)實施例2的玻璃襯底的制造方法的流程圖。該玻璃襯底也是，用 作例如顯示裝置的蓋板玻璃。另外，也可以用作構(gòu)成觸摸屏一體型的液晶顯示器的使用者 側(cè)的玻璃襯底。在該實施例中也是，首先在玻璃母材GL的一面上形成反射防止膜(STlO)。反射 防止膜的構(gòu)成與實施例1時相同，象圖2(a)所示的那樣，依次形成SiO2 (Fal層)、Ti02(Fbl 層)、SiO2 (Fa2 層)、TiO2 (Fb2 層)、SiO2 (Fa3 層)這五層。然后，在玻璃母材GL的表面和背面上貼附感光性薄膜部件Fi (STll)。實施例使 用的感光性薄膜部件Fi，象圖2 (b)所示的那樣，通過把透光性的基底膜1、感光層2和剝離 膜3層疊而構(gòu)成。另外，從該感光性薄膜部件Fi剝離了剝離膜3后，用轉(zhuǎn)予把感光性薄膜 部件Fi貼附到玻璃母材GL的表面和背面上。然后，把整個玻璃母材GL劃分成40mm X 70mm左右的多個使用區(qū)域，在玻璃母材GL 上覆蓋光掩模4。圖3是例示光掩模4的平面圖。在作為玻璃襯底的使用區(qū)域4B的周邊部 分上矩形環(huán)狀地設(shè)置線寬Imm 5mm左右的非曝光部4A(遮光部)。另外，圖2 (c)是示出配置了光掩模4的狀態(tài)的剖面圖。光掩模4的非曝光部4A確定蝕刻處理中的研磨線(劃 分線GV)。接著，從光掩模4之上照射紫外線，使感光層2的曝光部2B光硬化(ST12)。然后， 用堿溶液使該狀態(tài)的玻璃母材GL顯影，除去感光層2的非曝光部2A(ST13)。通過以上的 處理，除了非曝光部2A以外，玻璃母材GL的表面和背面被耐氫氟酸性的抗蝕劑層2B覆蓋。 圖4是示出該狀態(tài)的平面圖，示出未被蝕刻的抗蝕劑層2B和被蝕刻的劃分線GV。然后，把被抗蝕劑層2B覆蓋了的玻璃母材GL浸漬在化學(xué)研磨槽中，用化學(xué)研磨液 蝕刻(一次蝕刻)(ST14)。作為化學(xué)研磨液，含有1 10重量％氫氟酸、20 50重量％硫 酸的化學(xué)研磨液是優(yōu)選的。氫氟酸的濃度優(yōu)選為1 5重量％，更優(yōu)選為1 3重量％。另 外，該研磨液中的硫酸的濃度優(yōu)選為30 45重量％，更優(yōu)選為35 42重量％。另外，在步驟ST14的蝕刻工序中，使玻璃母材GL直立起來并使微細(xì)氣泡沿玻璃母 材GL的表面和背面連續(xù)地上升是優(yōu)選的。如果采用這樣的構(gòu)成，可以防止溶出的玻璃成分 (反應(yīng)產(chǎn)物)再次附著到不存在抗蝕劑層2B的劃分線GV上。在本實施例中，由于劃分線 GV細(xì)到1 5mm左右，如果不能防止反應(yīng)產(chǎn)物的再次附著，則研磨速度會產(chǎn)生局部的波動， 結(jié)果可能使劃分線GV的蝕刻深度不能恒定。這樣，使劃分線GV加深，在該部分的玻璃母材GL的板厚到達(dá)100 300 y m左右的 時刻，結(jié)束步驟ST14的一次蝕刻處理。另外，圖2(e)示出一次蝕刻結(jié)束時的玻璃母材GL， 示出了在劃分線GV的上端形成棱角ED。另外，該棱角具有研磨速度越快就越接近90度的 傾向。然后，把玻璃母材GL浸漬在剝離槽中，除去抗蝕劑層2B (ST15)。接著，把玻璃母 材GL配置在適當(dāng)?shù)氖沾嫦渲校蚱浔砻婧捅趁媪茉畹貒姙⒒瘜W(xué)研磨液，進(jìn)行精細(xì)蝕刻處 理(ST16)。另外，玻璃母材GL在收存箱內(nèi)以水平姿勢載置，但也可以在適當(dāng)?shù)臅r刻使玻璃 母材GL的表背面反轉(zhuǎn)。不管怎樣，只要進(jìn)行這樣的蝕刻處理，就可以使劃分線GV更深，并且玻璃表面和 背面也被蝕刻。其結(jié)果，即使在一次蝕刻(ST14)時在劃分線GV上生成比較尖銳的棱角ED 時，該棱角ED也被平滑化。另外，由于玻璃表面和背面被蝕刻，所以即使萬一在玻璃表背面 上殘留微細(xì)的裂紋，也可以消除它。另外，在上下兩個劃分線GV貫通的階段，精細(xì)蝕刻處理結(jié)束。這樣，在本實施例 中，由于在形成劃分線GV的一次蝕刻(ST14)后執(zhí)行精細(xì)蝕刻(ST16)，所以通過精細(xì)蝕刻進(jìn) 行玻璃襯底的分離處理和平滑化處理，可以制成堅固的玻璃襯底。另外，玻璃襯底由于最終被減薄到0.5mm左右或更薄，所以可以表現(xiàn)出與塑料同 等的撓性。因此，在例如顯示裝置的制造工序中有效地發(fā)揮以耐酸性、耐熱性為首的玻璃的 長處。而且，作為蓋板玻璃表現(xiàn)出優(yōu)良的觀察性、耐久性。另外，如果接著精細(xì)蝕刻(ST16)，設(shè)置與實施例3同樣的追加蝕刻處理(ST25)，可 以使玻璃襯底的端面(從板厚中心0算起- a t — a T的范圍)變形成圓弧面，可以更加 提高玻璃強度(參照圖5(b))。針對板厚t的玻璃端面的全部(a = 0. 5)或大部分(0. 5 > a彡0. 35)，圓弧面 的曲率半徑R優(yōu)選應(yīng)為0.4t以上，更優(yōu)選應(yīng)為0.5t以上。此外，追加蝕刻的內(nèi)容與實施例 3的二次蝕刻(ST25)相同，應(yīng)變形成圓弧面的范圍(-a t +a T)和曲率半徑R的評價法也與實施例3相同。以上詳細(xì)說明了實施例，但具體的記載內(nèi)容不對本發(fā)明構(gòu)成特別限定。尤其是，不 限于為了掩蔽處理而使用感光性薄膜的實施例的制造方法，例如，在實施例2的情形下，在 貯存掩蔽材料的槽中浸漬玻璃母材GL而形成覆蓋膜層是優(yōu)選的。如果采用這樣的構(gòu)成，則 可以也包含玻璃母材GL的周邊地設(shè)置覆蓋膜層。(實施例3)另外，在實施例2中，在剝離抗蝕劑層2B之后進(jìn)行蝕刻處理(ST15、ST16)，但也可 以在殘留抗蝕劑層2B的狀態(tài)下進(jìn)行蝕刻處理。但是，此時，由于玻璃母材GL不被減薄，所 以預(yù)先用蝕刻處理減薄到合適的板厚(優(yōu)選為0. 4 0. 6mm左右或更薄)是優(yōu)選的。圖5是用來說明該實施例3的流程圖和示意圖。用實施例3制造的玻璃襯底用作 例如便攜電話的液晶顯示器的蓋板玻璃。另外，也可以用作構(gòu)成觸摸屏一體型的液晶顯示 器的使用者側(cè)的玻璃襯底。在實施例3中，取代貼附感光性薄膜部件，而利用浸涂(dipping)法設(shè)置感光膜 (ST21)。在浸涂法中，把玻璃母材GL以垂直狀態(tài)浸漬在涂敷液(感光劑)的液槽中，以與 涂敷液的粘性對應(yīng)的速度提起玻璃母材GL，形成預(yù)定膜厚的感光膜。另外，在步驟ST21的 處理之前，在玻璃母材GL上可以設(shè)置反射防止膜，也可以不設(shè)置反射防止膜。然后，把整個玻璃母材GL劃分成多個使用區(qū)域，在玻璃母材GL上覆蓋光掩模4。 從光掩模4之上照射紫外線，使感光層2的曝光部2B光硬化(ST22)。然后，用堿溶液使該 狀態(tài)的玻璃母材GL顯影，除去感光層2的非曝光部2A(ST23)。通過以上的處理，玻璃母材GL的表面和背面被耐氫氟酸性的抗蝕劑層2B覆蓋。圖 6示出未被蝕刻的抗蝕劑層2B、和被蝕刻的劃分線GV和開口窗H0。如圖所示，劃分線GV劃 分作為玻璃襯底的使用區(qū)域而縱橫狀地形成。另外，開口窗H0在作為玻璃襯底的使用區(qū)域 的內(nèi)側(cè)以橢圓形形成。該開口窗H0通過步驟ST24的一次蝕刻處理成為貫通孔。然后，把被抗蝕劑層2B覆蓋了的玻璃母材GL浸漬在化學(xué)研磨槽中，用化學(xué)研磨液 一次蝕刻(ST24)。執(zhí)行該一次蝕刻，在玻璃母材GL的板厚方向上蝕刻劃分線GV、開口窗 H0，直到貫通玻璃母材GL。因此，在一次蝕刻結(jié)束時，利用劃分線GV把玻璃母材GL分離成 多個玻璃襯底5、5……。針對各玻璃母材GL，分別保持著其劃分線GV的內(nèi)側(cè)區(qū)域(圖6的實施例中劃分成 25個)地進(jìn)行該一次蝕刻(ST24)。優(yōu)選地，在一個收存箱內(nèi)收存一片玻璃母材GL，把多個 收存箱浸漬在化學(xué)研磨槽中進(jìn)行。另外，玻璃母材GL的研磨速度優(yōu)選為5 u m/min以下，更優(yōu)選為3 u m/min左右。這 是因為，如果研磨速度過快，則在被蝕刻的劃分線GV上再次附著從玻璃母材溶出的玻璃成 分(反應(yīng)產(chǎn)物)，玻璃端面的平坦性惡化。另外，化學(xué)研磨液的組成與上述實施例的情形相 同。不管怎樣，在一次蝕刻結(jié)束時，把玻璃母材GL分離成多個玻璃襯底5、5……。另 外，各玻璃襯底5的端面象圖5(b)那樣形成稍尖的銳角。因此，在使用玻璃襯底5時，該突 出部PK不能作為裂紋的起點。于是，在實施例3中，如果一次蝕刻結(jié)束，則把保持多個玻璃襯底5、5……的收存 箱移動到另一化學(xué)研磨槽，進(jìn)一步蝕刻各玻璃襯底5的端面(ST25)。另外，二次蝕刻的研磨速度優(yōu)選為4 u m/min以上，更優(yōu)選為5 u m/min左右。這樣的二次蝕刻的結(jié)果，劃分線GV、開口窗HO進(jìn)一步被蝕刻，在玻璃襯底的端面 上形成的突出部PK變形成曲率半徑R的圓弧狀。圖5(c)示出二次蝕刻結(jié)束時的玻璃襯底5的端面的理想的狀態(tài)。另外，玻璃端面 變形成圓弧狀，是因為抗蝕劑層2B的終端部TE從玻璃GL剝離而在圖示的水平方向上進(jìn)行 蝕刻。換言之，在實施例3中，形成具有終端部TE因蝕刻液而稍微被剝離的程度的接合力 的抗蝕劑層2B。但是，在實際制造中，無須一定使玻璃襯底5的整個端面都完全地變形成圓弧面， 只要突出部PF的銳角部分變形成圓弧狀就夠了。即，在二次蝕刻(ST25)中，只要以板厚t 的玻璃襯底5的板厚中心0為基準(zhǔn)，使-a t + a t的范圍變形成曲率半徑R的圓弧面就 夠了(參照圖5(d))。在此，0. 35 ^ a ^ 0. 5，利用二次蝕刻(ST25)使玻璃襯底5的端面 的全部(a = 0. 5)或大部分(0. 5 > a彡0. 35)成為曲率半徑R的圓弧面。另外，雖然說是曲率半徑R的圓弧面，但如果用顯微鏡觀察實際的玻璃端面，是有 小波紋的凹凸形狀。于是，在實際的玻璃端面的全部或大部分落在0.98R 1.02R的范圍 內(nèi)的情況下，在本說明書中就評價成曲率半徑是R。圖5(e)中，用實線示出曲率半徑R的圓 弧面，用虛線示出曲率半徑R+= 1.02R的圓弧面、曲率半徑R_ = 0.98R的圓弧面。因此，在 實際的玻璃端面的全部或大部分位于圖5(e)的虛線所示的區(qū)域內(nèi)時，評價成該玻璃端面 的曲率半徑是R。另外，針對板厚t的玻璃端面的全部或大部分，把研磨時間設(shè)定成，二次蝕刻結(jié)束 時的曲率半徑R優(yōu)選為0. 4t以上(R彡0. 4t)，更優(yōu)選為0. 5t以上(R彡0. 5t)。如果考慮 制造效率，則優(yōu)選地，把研磨時間設(shè)定成曲率半徑R為0. 4t彡R彡0. 6t。如果以上那樣的二次蝕刻結(jié)束，則隨后把收存玻璃襯底5的收存箱浸漬在剝離槽 中，除去抗蝕劑層2B，完成玻璃襯底5 (ST26)。另外，也可以在二次蝕刻處理之前除去抗蝕 劑層2B，此時可以減薄玻璃襯底并且使玻璃端面變形成圓弧面。如上所述，利用實施例3也可以制造克服了玻璃脆性的玻璃襯底，有效地發(fā)揮以 耐酸性、耐熱性為首的玻璃的長處。
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權(quán)利要求
一種玻璃襯底的制造方法，從一片玻璃母材制造多片電子裝置用玻璃襯底，其特征在于具有以下工序在玻璃母材的表背面中的表面?zhèn)仍O(shè)置耐氫氟酸性的抗蝕劑層的抗蝕劑工序(ST2)；用激光或切割刀刃從玻璃母材的表面?zhèn)刃纬刹回炌úＡ覆牡膭澐志€，把玻璃母材劃分成多個使用區(qū)域的劃分工序(ST3)；以及蝕刻經(jīng)過了劃分工序的玻璃母材，從背面?zhèn)仁共Ａ覆臏p薄，并且使上述劃分線加深的蝕刻工序(ST4)。
2.一種玻璃襯底的制造方法，從一片玻璃母材制造多片電子裝置用玻璃襯底，其特征 在于具有以下工序在玻璃母材的表背面中的表面?zhèn)入x散地設(shè)置耐氫氟酸性的表面抗蝕劑層，并且在玻璃 母材的背面?zhèn)仍谂c表面抗蝕劑層對應(yīng)的位置上也設(shè)置耐氫氟酸性的背面抗蝕劑層的抗蝕 劑工序(ST11 ST13)；蝕刻玻璃母材中的未設(shè)置抗蝕劑層的部分，形成不貫通玻璃母材的劃分線，把玻璃母 材劃分成多個使用區(qū)域的劃分工序(ST14)；以及在剝離了表面抗蝕劑層和背面抗蝕劑層的狀態(tài)下蝕刻整個玻璃母材，使上述玻璃母材 減薄，并且使上述劃分線加深的蝕刻工序(ST16)。
3.一種玻璃襯底的制造方法，從一片玻璃母材制造多片電子裝置用玻璃襯底，其特征 在于具有以下工序在玻璃母材的表背面中的表面?zhèn)入x散地設(shè)置耐氫氟酸性的表面抗蝕劑層，并且在玻璃 母材的背面?zhèn)仍谂c表面抗蝕劑層對應(yīng)的位置上也設(shè)置耐氫氟酸性的背面抗蝕劑層的抗蝕 劑工序(ST21 ST23)；蝕刻玻璃母材中的未設(shè)置抗蝕劑層的部分，針對玻璃襯底的每個使用區(qū)域分離玻璃母 材的分離工序(ST24)；以及進(jìn)一步蝕刻上述玻璃襯底的端面，使玻璃端面中的板厚中心區(qū)域變形成圓弧面的變形 工序(ST25)。
4.如權(quán)利要求1 3中任一項所述的制造方法，其特征在于在上述抗蝕劑工序之前在玻璃母材的整個表面?zhèn)刃纬煞瓷浞乐鼓さ哪ば纬晒ば颉?br> 5.如權(quán)利要求2或3所述的制造方法，其特征在于在完成狀態(tài)的玻璃襯底中，玻璃端面的板厚中心區(qū)域變形成圓弧面，上述圓弧面的曲 率半徑R相對于玻璃襯底的板厚t為0. 4t < R < 0. 6t。
6.如權(quán)利要求5所述的制造方法，其特征在于以板厚t的玻璃襯底的板厚中心0為基準(zhǔn)，在-a t + a t的范圍內(nèi)形成上述圓弧面， 其中，0. 35彡a彡0. 5。
7.如權(quán)利要求4所述的制造方法，其特征在于上述反射防止膜是利用濺射處理在玻璃表面上依次層疊Si02層、Ti02層、Si02層、Ti02 層、Si02層而構(gòu)成的。
8.如權(quán)利要求1 7中任一項所述的制造方法，其特征在于 上述玻璃母材是堿性玻璃。
9.一種電子裝置的制造方法，其特征在于具有把用如權(quán)利要求1 8中任一項的制造方法制造的上述玻璃襯底，作為與使用者接觸的蓋板玻璃組裝到電子裝置中的工序。
10. 一種電子裝置的制造方法，其特征在于具有把用如權(quán)利要求1 8中任一項的制 造方法制造的上述玻璃襯底作為觸摸屏一體型的顯示裝置的觸摸屏中的使用者側(cè)的部件 組裝到電子裝置中的工序。
全文摘要
提供一種電子裝置用玻璃襯底以及電子裝置的制造方法。該玻璃襯底的制造方法是從一片玻璃母材制造多片電子裝置用玻璃襯底的方法，具有以下工序在玻璃母材的表背面中的表面?zhèn)仍O(shè)置耐氫氟酸性的抗蝕劑層的抗蝕劑工序(ST2)；用激光或切割刀刃從玻璃母材的表面?zhèn)刃纬刹回炌úＡ覆牡膭澐志€，把玻璃母材劃分成多個使用區(qū)域的劃分工序(ST3)；以及蝕刻經(jīng)過了劃分工序的玻璃母材，從背面?zhèn)仁共Ａ覆臏p薄，并且使上述劃分線加深的蝕刻工序(ST4)。根據(jù)本發(fā)明，可以提供有效利用玻璃的長處的電子裝置用玻璃襯底。
文檔編號C03C15/00GK101857377SQ20101015454
公開日2010年10月13日 申請日期2010年4月2日 優(yōu)先權(quán)日2009年4月3日
發(fā)明者西山榮 申請人:西山不銹化學(xué)股份有限公司