專利名稱：蝕刻設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種蝕刻設(shè)備，特別涉及一種蝕刻設(shè)備的蝕刻室改良， 以解決玻璃基板的兩端因進行蝕刻與接受沖洗的時間不同，所產(chǎn)生蝕刻均勻 性不佳的情形。
背景技術(shù)：
參考圖2，為現(xiàn)有技術(shù)中的一種蝕刻設(shè)備，該蝕刻設(shè)備包含有一送料區(qū) A、 一蝕刻室B、 一初步洗凈室C、 一主洗凈室D、 一干燥室E、 一出料區(qū)F， 工作室之間設(shè)有一連續(xù)的送料導(dǎo)輪G，該送料導(dǎo)輪G是由一外部電控室(圖 未示)控制。其中該蝕刻室包含一浸泡槽Bl，該浸泡槽B1還外接一藥液工 作槽H，該藥液工作槽H基本上包含一浸泡泵Hl做為動力源供給藥液至浸 泡槽B1，以及電阻偵測計H3、酸堿度偵測計H2、溫度偵測器H4、加熱器 H5、冷卻盤管H6等控制藥液的構(gòu)件。玻璃基板I是由送料區(qū)A藉由輸送導(dǎo) 輪G輸送進入蝕刻室B浸泡槽Bl，滾輪停止運行，浸泡泵Hl打入藥液至 浸泡槽B1，使浸泡槽B1內(nèi)的藥液覆蓋玻璃基板I，玻璃基板I浸泡一段時 間后，送料導(dǎo)輪G啟動，將玻璃基板I運送至初步洗凈室C。玻璃基板I一 端(以下稱首端)先進入初步洗凈室C清洗，爾后另一端(以下稱末端)被送料 導(dǎo)輪G帶動也進入初步洗凈室C接受清洗，將殘留在基板上的藥液及副生成 物初步?jīng)_掉。由于現(xiàn)有技術(shù)中蝕刻過程是等待基板完全進入浸泡槽，并靜置于送料導(dǎo) 輪上，才供給藥液至浸泡槽，如此便延長了基板在蝕刻階段的時間；另一方 面，蝕刻過程，是基板全面同步接受浸泡槽的藥液浸泡，浸泡后由基板首端 先離開浸泡槽，同時末端還浸泡于槽內(nèi)，這樣的傳輸運作會造成玻璃基板首、 末兩端接觸藥液的時間不同，而導(dǎo)致蝕刻程度不同，使蝕刻結(jié)果不均勻。又， 在浸泡過程中，必須不斷的更新藥液方能維持藥液的濃度。實用新型內(nèi)容在現(xiàn)有技術(shù)的蝕刻制程，需待玻璃基板完全靜置于浸泡槽后，方開始進 行蝕刻作業(yè)，會造成蝕刻階段的工時過長問題，因此本實用新型主要目的， 是提供一種能節(jié)省蝕刻時間的蝕刻設(shè)備。在玻璃基板在被蝕刻的過程中，基板首、末端接觸藥液的時間不同，會 導(dǎo)致蝕刻不均的情形，因此本實用新型另一目的是提供一種能使基板被均勻 蝕刻的蝕刻設(shè)備。在玻璃基板在浸泡藥液的過程中，完全未更換藥液，蝕刻下所產(chǎn)生的物 質(zhì)可能影響藥液濃度，藥液溫度也會隨蝕刻時間增長而受影響，因此本實用 新型又一目的是使板表面各處能同時且均勻的接觸新藥液。為了達到上述目的，本實用新型提供了一種蝕刻設(shè)備，該設(shè)備包含 一浸泡槽，其內(nèi)面兩側(cè)分別設(shè)有一入料浮動輪及一出料浮動輪；一送料導(dǎo)輪，用以承載一基板，使該基板可通過該入料浮動輪而進入該浸泡槽；一噴灑統(tǒng)，其為該浸泡槽的外接系統(tǒng)，包含有一藥液工作槽以及接受該 藥液工作槽供應(yīng)藥液的多個噴源，噴源是平均設(shè)置并相應(yīng)于該浸泡槽上方， 該藥液工作槽與該浸泡槽之間以管路相連以補給或回收藥液； 該噴灑統(tǒng)與該送料導(dǎo)輪受蝕刻設(shè)備中的一 電控部所控制。 所述浸泡槽的外側(cè)設(shè)置兩個分別相應(yīng)于所述入料浮動輪及該出料浮動 輪的出氣裝置。該出氣裝置為具有狹長縫隙，能釋放出壓縮空氣的風(fēng)刀。 所述入料浮動輪及所述出料浮動輪是重迭于一平臺上，且可相對于該平 臺縱向移動微小距離。本實用新型蝕刻程序，是使基板進入浸泡槽的同時便接觸了藥液，故可 節(jié)省蝕刻時間。又，配合著送料導(dǎo)輪的運行，使基板的首端先進入浸泡槽接 觸到藥液，蝕刻結(jié)束時，也是由基板的首端先離開浸泡槽，如此便能使基板 首、末兩端接觸藥液的時間相同，可得到均勻的蝕刻度。再者，在浸泡槽的 蝕刻過程中，送料導(dǎo)輪帶動機板前、后移動，配合著噴源不斷噴出新的藥液， 使基板表面的各處能同時接觸新的藥液且可使基板表面的光學(xué)膜均勻的被 蝕刻。


圖1為本實用新型實施例中蝕刻設(shè)備的示意圖。圖2為現(xiàn)有技術(shù)中的一種蝕刻設(shè)備。
具體實施方式
以下配合圖式對本實用新型的實施方式做更詳細的說明，使熟悉本領(lǐng)域 的技術(shù)人員在研讀本說明書后能據(jù)以實施。參考圖1，為本實用新型蝕刻設(shè)備的較佳實施例示意圖。蝕刻室10接設(shè) 一通至內(nèi)部的抽氣裝置l。蝕刻室10內(nèi)部設(shè)有一浸泡槽2，該浸泡槽2兩側(cè) 分別設(shè)有一入料浮動輪31與一出料浮動輪32，兩浮動輪分別重迭于一平臺 3上，且可相對于該平臺3縱向移動微小距離，浸泡槽2兩邊外側(cè)分別設(shè)置 對應(yīng)于該入料浮動輪31及該出料浮動輪32的一出氣裝置4，該出氣裝置可 為一種具有狹長縫隙能噴出氣體的風(fēng)刀，出氣裝置4是與一壓縮空氣源(圖未 示)連結(jié)。浸泡槽2底部有一連續(xù)的送料導(dǎo)輪5的其中一段部通過。浸泡槽2 外接一噴灑系統(tǒng)6，其包含有以管路相連的一排噴源61與一藥液工作槽62， 該噴源61是指噴嘴，噴嘴是平均設(shè)置在浸泡槽2上方，并分別相應(yīng)于浸泡 槽2各處。該藥液工作槽62是接設(shè)于蝕刻室10外部，并與浸泡槽2之間有 管路相連以回收或供給藥液，藥液工作槽內(nèi)部包含有一浸泡泵621控制浸泡 槽2內(nèi)的藥液量，以及一噴灑泵627，做為動力源供給藥液至各噴源61;藥 液工作槽62尚包含有一電阻偵測計623、 一酸堿度偵測計622、 一溫度偵測 器624、 一加熱器625、 一冷卻盤管626、..等控制藥液溫度或濃度的構(gòu)件。蝕刻設(shè)備的運作，是浸泡泵621先供給藥液至蝕刻槽2，由一電控室(圖 未示)來控制驅(qū)動送料導(dǎo)輪5使玻璃基板7隨送料導(dǎo)輪5進入蝕刻室10，玻 璃基板7通過浸泡槽2將入料浮動輪31往上推，同時鄰近的出氣裝置4強 力的噴出氣體，以限制浸泡槽2內(nèi)的藥液因入料浮動輪31的上升而溢出浸 泡槽2，玻璃基板7首、末兩端先后進入浸泡槽2并接觸藥液，待玻璃基板 7完全進入浸泡槽2，入料浮動輪31便下降至接觸平臺3位置，形成類似一 阻擋墻，防止浸泡槽2內(nèi)藥液流出，玻璃基板7浸泡藥液的同時，噴灑泵627 被開啟控制噴源61噴灑出藥液，控制室則控制送料導(dǎo)輪5前、后反復(fù)移動，在送料導(dǎo)輪5上的玻璃基板7必隨著送料導(dǎo)輪5微幅的前、后往復(fù)移動，使 玻璃基板7不但浸泡在槽內(nèi)，還一邊接受噴源61噴灑藥液，使基板表面能 充分均勻的接觸新的藥液，維持玻璃基板7表面的藥液濃度，可使玻璃基板 7表面的光學(xué)膜均勻的被蝕刻;所述抽氣裝置1則會使蝕刻室10內(nèi)保持負壓， 藥氣不會溢漏至浸泡槽2外。蝕刻達一預(yù)定時間后，電控室控制送料導(dǎo)輪5 往出料浮動輪32方向運轉(zhuǎn)，玻璃基板7通過出料浮動輪32，另一出氣裝置 4對應(yīng)出料浮動輪32噴出氣體， 一方面限制浸泡槽2內(nèi)的藥液因浮動輪的上 升而溢出浸泡槽2，另一方面可將基板上的殘留藥液吹除，待玻璃基板7完 全離開浸泡槽2，出料浮動輪32便下降至接觸平臺3形成類似一阻擋墻，防 止浸泡槽2內(nèi)藥液流出，玻璃基板7即進入蝕刻設(shè)備的初步?jīng)_洗程序?；?離開浸泡槽2后，浸泡槽2內(nèi)的藥液經(jīng)過過濾處理后便回流至藥液工作槽62。本實用新型蝕刻設(shè)備的設(shè)計，是使玻璃基板首端先進入浸泡槽接觸藥 液，也是由首端先離開浸泡槽，如此玻璃基板首、末兩端(全面)接觸藥液的 總時間便相同，可以產(chǎn)生均勻的蝕刻度。且是使基板進入浸泡槽的同時便接 觸了藥液，能節(jié)省蝕刻階段的時間。又，在浸泡槽的蝕刻過程中，送料導(dǎo)輪 帶動機板前、后移動，配合著噴源不斷噴出新的藥液，使基板表面的各處能 同時均勻的接觸新藥液，保持基板表面的藥液濃度。以上所述僅為用以解釋本實用新型的較佳實施例，并非企圖據(jù)以對 本實用新型做任何形式上的限制，因此，凡有在相同的實用新型精神下 所作有關(guān)本實用新型的任何修飾或變更，皆仍應(yīng)包括在本實用新型意圖 保護的范疇。
權(quán)利要求1.一種蝕刻設(shè)備，其特征在于，該設(shè)備包含一浸泡槽，其內(nèi)面兩側(cè)分別設(shè)有一入料浮動輪及一出料浮動輪；一送料導(dǎo)輪，用以承載一基板，使該基板可通過該入料浮動輪而進入該浸泡槽；一噴灑統(tǒng)，其為該浸泡槽的外接系統(tǒng)，包含有一藥液工作槽以及接受該藥液工作槽供應(yīng)藥液的多個噴源，噴源是平均設(shè)置并相應(yīng)于該浸泡槽上方，該藥液工作槽與該浸泡槽之間以管路相連以補給或回收藥液；該噴灑統(tǒng)與該送料導(dǎo)輪受蝕刻設(shè)備中的一電控部所控制。
2. 如權(quán)利要求1所述的蝕刻設(shè)備，其特征在于，所述浸泡槽的外側(cè)設(shè)置 兩個分別相應(yīng)于所述入料浮動輪及該出料浮動輪的出氣裝置。
3. 如權(quán)利要求2所述的蝕刻設(shè)備，其特征在于，該出氣裝置為具有狹長 縫隙，能釋放出壓縮空氣的風(fēng)刀。
4. 如權(quán)利要求1或2所述的蝕刻設(shè)備，其特征在于，所述入料浮動輪及 所述出料浮動輪是重迭于一平臺上，且可相對于該平臺縱向移動微小距離。
專利摘要本實用新型公開了一種蝕刻設(shè)備，主要特征在于浸泡槽上方平均設(shè)置多個個噴源，噴源接受一藥液工作槽的供給；浸泡槽內(nèi)面兩側(cè)分別設(shè)置一入料浮動輪及一出料浮動輪，浮動輪分別重疊于一平臺上；另在浸泡槽外側(cè)對應(yīng)浮動輪處分別設(shè)置一風(fēng)刀。當玻璃基板通過入料浮動輪，該風(fēng)刀便提供高速強勁的風(fēng)來限制浸泡槽內(nèi)的藥液不至于溢出，待玻璃基板完全進入浸泡槽，送料導(dǎo)輪被控制帶動基板微幅的往復(fù)移動進行浸泡，同時噴源對基板噴灑藥液，藉此，可使玻璃基板表面得到均勻的藥液接觸，以及使基板表面接受藥液更新的時間相同。
文檔編號C03C15/00GK201381279SQ20092000695
公開日2010年1月13日 申請日期2009年3月16日 優(yōu)先權(quán)日2009年3月16日
發(fā)明者朱德銘, 李玟澄, 陳麒文 申請人:亞智科技股份有限公司