專利名稱：透明導(dǎo)電膜玻璃的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及導(dǎo)電玻璃的制作方法，更具體地說，涉及一種薄透明導(dǎo)電膜玻璃的制
作方法。
背景技術(shù)：
透明導(dǎo)電膜玻璃被大量應(yīng)用于平板顯示器件及新型觸摸屏器件中。目前，平板顯 示行業(yè)對顯示器件的整體要求不斷提高。在繼續(xù)注重顯示性能的同時不斷向輕便時尚的方 向發(fā)展。更輕、更薄成為顯示行業(yè)技術(shù)發(fā)展的新熱點。在此前提下，作為平板顯示器件中一 個重要組件的氧化銦錫透明導(dǎo)電膜玻璃，其整體制作的輕薄化即顯得尤為重要。同時，作為 一種便捷輸入方式，電阻式觸摸屏的應(yīng)用越來越廣泛。電阻式觸摸屏是由一對相距幾十微 米的透明導(dǎo)電膜及其透明載體構(gòu)成，這種透明載體可以是平板玻璃或高分子薄膜基板。當(dāng) 筆尖或手指等硬物觸摸觸摸屏幕時，兩層導(dǎo)電層在觸摸點位置就有了接觸，同時產(chǎn)生相應(yīng) 的電信號。電阻式觸摸屏從結(jié)構(gòu)上可劃分為薄膜/薄膜、薄膜/玻璃、玻璃/玻璃幾大類 型。其中玻璃/玻璃型電阻式觸摸屏以其優(yōu)良的穩(wěn)定性被廣泛應(yīng)用于車載、軍用等顯示領(lǐng) 域。為了保證玻璃/玻璃型觸摸屏的外側(cè)玻璃結(jié)構(gòu)能夠被外界觸摸體輕松地按壓變形而發(fā) 送電信號，外側(cè)透明導(dǎo)電膜玻璃基板必須足夠薄。目前，一般采用的是厚度小于O. 3毫米的 超薄玻璃，業(yè)內(nèi)普遍應(yīng)用的是0. 21毫米的超薄玻璃。 綜上所述，當(dāng)前無論是平板顯示器件還是電阻式觸摸屏器件，都對作為其重要組 件的透明導(dǎo)電膜玻璃基板提出了新的輕薄性需求。超薄透明導(dǎo)電膜玻璃的傳統(tǒng)的制作方法 是，先制作0. 21毫米厚度的平板玻璃基板，然后在上述玻璃基板表面鍍透明導(dǎo)電膜。然而 該方法存在嚴(yán)重的缺點，首先厚度小于0. 3毫米素玻璃制造難度極高，其次厚度小于0. 3毫 米素玻璃真空鍍膜難度極高，在目前廣泛使用的真空鍍膜機上鍍膜時如此薄的玻璃破損率 很高。特殊的專用鍍膜機采用臥式方法在傳送膠輥的間隙對薄玻璃下表面鍍膜，玻璃傳送 帶及膠輥設(shè)計復(fù)雜，工藝及溫度要求苛刻，利用率低，生產(chǎn)效率低，不易大規(guī)模生產(chǎn)，從而鍍 膜費用也大大高于0. 4毫米或以上的玻璃。因此，現(xiàn)有厚度小于0. 3毫米的透明導(dǎo)電膜玻 璃生產(chǎn)成本十分昂貴。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的技術(shù)問題在于，針對現(xiàn)有技術(shù)中薄透明導(dǎo)電膜玻璃生產(chǎn)成本高昂 的缺陷，提供一種低成本、高成品率的透明導(dǎo)電膜玻璃制作方法。 本發(fā)明解決上述技術(shù)問題采用的技術(shù)方案是提供一種透明導(dǎo)電膜玻璃的制作方 法，包括如下步驟 (a)在厚素玻璃基板的一面鍍以透明導(dǎo)電薄膜； (b)對厚素玻璃基板在步驟(a)中鍍了透明導(dǎo)電薄膜的面進(jìn)行保護(hù)； (c)對厚素玻璃基板的另一面進(jìn)行蝕刻減??； (d)去除步驟(b)形成的保護(hù)，即制得超薄透明導(dǎo)電膜玻璃。
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在本發(fā)明所述的透明導(dǎo)電膜玻璃的制作方法中，所述步驟(a)中的厚素玻璃是0.4毫米至1. 1毫米厚的玻璃。 在本發(fā)明所述的透明導(dǎo)電膜玻璃的制作方法中，所述步驟(b)中的保護(hù)采用如下
方式之一抗腐蝕油墨涂布、光刻膠涂布、膠帶貼附、或者抗蝕刻膜材貼合。 在本發(fā)明所述的透明導(dǎo)電膜玻璃的制作方法中，所述步驟(c)中的化學(xué)蝕刻減薄
方法為浸泡蝕刻或噴淋蝕刻。 在本發(fā)明所述的透明導(dǎo)電膜玻璃的制作方法中，所述步驟(b)中的保護(hù)采用真空吸盤保護(hù)裝置。 在本發(fā)明所述的透明導(dǎo)電膜玻璃的制作方法中，所述步驟(c)中的化學(xué)蝕刻減薄方法為噴淋蝕刻。 在本發(fā)明所述的透明導(dǎo)電膜玻璃的制作方法中，所述步驟(d)中的薄透明導(dǎo)電玻璃厚度為0. 10毫米至0. 25毫米。 在本發(fā)明所述的透明導(dǎo)電膜玻璃的制作方法中，所述素玻璃是鈉鈣玻璃或硼硅玻璃。 在本發(fā)明所述的透明導(dǎo)電膜玻璃的制作方法中，還包括將制得的薄透明導(dǎo)電膜玻璃的蝕刻面進(jìn)行充分清洗。
實施本發(fā)明的透明導(dǎo)電膜玻璃的制作方法，具有以下有益效果 (1)傳統(tǒng)超薄素玻璃(0. 25毫米以下)加工工藝復(fù)雜，價格昂貴，本發(fā)明采用價格較低的厚玻璃(0.4毫米以上)作為基礎(chǔ)進(jìn)行鍍膜加工，再減薄到O. 25毫米以下，降低了原料成本； (2)玻璃基板先鍍膜加工再進(jìn)行化學(xué)蝕刻，因此鍍膜基板厚度可以達(dá)到0. 4毫米以上，可以避免鍍膜中玻璃破損，提高產(chǎn)品良率； (3)采用目前廣泛使用的平板顯示器用透明導(dǎo)電膜玻璃真空鍍膜生產(chǎn)線制造，設(shè)備便宜、技術(shù)可靠、良品率高，因而生產(chǎn)成本低。 本發(fā)明的各種優(yōu)點、各個方面和創(chuàng)新特征以及其中所示例的實施例的細(xì)節(jié)，將在以下的描述和附圖中進(jìn)行詳細(xì)介紹。


下面將結(jié)合附圖及實施例對本發(fā)明作進(jìn)一步說明，附圖中
圖1為本發(fā)明待減薄透明導(dǎo)電膜玻璃剖面示意圖2為本發(fā)明透明導(dǎo)電膜玻璃制作方法一實施例的工藝流程圖3為本發(fā)明一實施例減薄過程中采用的平板玻璃承載裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
附圖標(biāo)記統(tǒng)一說明如下1-平板玻璃2-透明導(dǎo)電膜3-化學(xué)防蝕刻保護(hù)層4_玻璃基板減薄部分31-真空吸盤32-傳輸輥33-導(dǎo)向滑輪34-平板玻璃35-閥門36-抽氣孔道
具體實施例方式
以下通過附圖和實施例，對本發(fā)明的技術(shù)方案做進(jìn)一步的詳細(xì)描述。
圖1為本發(fā)明待減薄透明導(dǎo)電膜玻璃剖面示意圖。如圖所示，平板玻璃1上鍍有
透明導(dǎo)電膜2，該平板玻璃需要進(jìn)行減薄的部分如圖中4所示，為了保護(hù)鍍膜面免受蝕刻液
侵蝕，故需要對透明導(dǎo)電膜2進(jìn)行保護(hù)，即為圖中所示化學(xué)防蝕刻保護(hù)層3。在具體實施方
式中，該化學(xué)防蝕刻保護(hù)層3可以為保護(hù)膜，也可以為對透明導(dǎo)電膜2進(jìn)行固定并保護(hù)的吸
附工具。 圖2為本發(fā)明透明導(dǎo)電膜玻璃制作方法一實施例的工藝流程圖。如圖2所示，在步驟201中，采用厚度大于0. 3毫米的厚素玻璃進(jìn)行透明導(dǎo)電薄膜鍍膜，鍍膜方式可采用真空磁控濺射方法；在步驟202中，對制得的透明導(dǎo)電膜玻璃的鍍膜面進(jìn)行化學(xué)蝕刻保護(hù)，保護(hù)方式可以是很多種，具體保護(hù)方式在下面實施例中進(jìn)行介紹；在步驟203中，對透明導(dǎo)電膜玻璃的非鍍膜面進(jìn)行化學(xué)蝕刻減??；在步驟204中，去除保護(hù)層，對透明導(dǎo)電膜玻璃進(jìn)行清洗后便可制得厚度小于0. 3毫米的超薄透明導(dǎo)電膜玻璃。
—具體實施例步驟如下 (A)采用厚度為0. 5毫米的素玻璃基板，以真空磁控濺射方法進(jìn)行透明導(dǎo)電膜鍍膜；其中的厚素玻璃基板可以采用鈉鈣玻璃或者硼硅玻璃；
(B)在鍍膜玻璃的鍍膜面附上一層抗蝕刻保護(hù)膜； (C)將步驟B中保護(hù)了鍍膜面的導(dǎo)電膜玻璃的非鍍膜面進(jìn)行化學(xué)蝕刻減薄；其中，
可根據(jù)化學(xué)蝕刻液的濃度以及蝕刻時間的不同來控制蝕刻厚度，直至得到0. 2毫米厚度的
透明導(dǎo)電膜玻璃。所采用的化學(xué)蝕刻方法可以是浸泡蝕刻或者噴淋蝕刻； (D)蝕刻完成后，去掉鍍膜面的保護(hù)層，清洗后便可得到0. 2毫米的超薄透明導(dǎo)電
膜玻璃。 在另一實施例中，針對上述步驟(B)中對鍍膜面的保護(hù)可采用如圖3所示的平板玻璃減薄承載裝置完成，本承載裝置包括真空吸盤31、傳輸棍32、導(dǎo)向滑輪33、閥門35以及抽氣孔道36。透明導(dǎo)電膜玻璃34即通過真空吸盤31進(jìn)行吸附，并且該真空吸盤31能夠密封地全面覆蓋透明導(dǎo)電膜玻璃的鍍膜面，并通過該密封面吸附住透明導(dǎo)電膜玻璃。
吸附減薄流程如下將平板玻璃鍍膜面貼附于真空吸盤31上，隨即開啟閥門35并通過抽氣孔道36將真空吸盤31內(nèi)的空氣抽出，直至接近真空狀態(tài)；關(guān)閉閥門35并切斷真空泵，通過真空吸盤31將平板玻璃34固定在承載裝置上進(jìn)入噴淋隧道進(jìn)行減薄操作；其中，所述承載裝置通過設(shè)置于真空吸盤上方以及下方的導(dǎo)向滑輪33和傳輸輥32在噴淋隧道內(nèi)進(jìn)行移動；減薄蝕刻流程結(jié)束后，開啟閥門35，恢復(fù)真空吸盤內(nèi)的正常氣壓，將平板玻璃卸下；隨后只需進(jìn)行清洗即可包裝入庫。 從上面實施例可以看出，在對鍍有透明導(dǎo)電膜的厚玻璃進(jìn)行蝕刻的過程中，對鍍膜面的保護(hù)以及對整個透明導(dǎo)電膜玻璃的固定承載是最為核心的操作。實施例一采用的是現(xiàn)有技術(shù)中普遍采用的保護(hù)膜辦法，也即是說，對鍍膜面進(jìn)行保護(hù)膜涂覆，并在蝕刻結(jié)束之后將該保護(hù)膜層去除。而第二個實施例則采用的是在固定并承載玻璃基板的同時能夠?qū)崿F(xiàn)對玻璃無需蝕刻的有效區(qū)域進(jìn)行保護(hù)的承載裝置，該種實施方式可以簡化蝕刻流程，并在一定程度上降低成本。 上面結(jié)合附圖對本發(fā)明的實施例進(jìn)行了描述，但是本發(fā)明并不局限于上述的具體
5實施方式，上述的具體實施方式
僅僅是示意性的，而不是限制性的，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員 在本發(fā)明的啟示下，在不脫離本發(fā)明宗旨和權(quán)利要求所保護(hù)的范圍情況下，還可做出很多 形式，這些均屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
一種透明導(dǎo)電膜玻璃的制作方法，其特征在于，包括如下步驟(a)在厚素玻璃基板的一面鍍以透明導(dǎo)電薄膜；(b)對厚素玻璃基板在步驟(a)中鍍了透明導(dǎo)電薄膜的面進(jìn)行保護(hù)；(c)對厚素玻璃基板的另一面進(jìn)行蝕刻減??；(d)去除步驟(b)形成的保護(hù)，即制得超薄透明導(dǎo)電膜玻璃。
2. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的透明導(dǎo)電玻璃的制作方法，其特征在于，所述步驟(a)中的厚 素玻璃是0. 4毫米至1. 1毫米厚的玻璃。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的透明導(dǎo)電膜玻璃的制作方法，其特征在于，所述步驟(b)中的 保護(hù)采用如下方式之一抗腐蝕油墨涂布、光刻膠涂布、膠帶貼附、或者抗蝕刻膜材貼合。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的透明導(dǎo)電膜玻璃的制作方法，其特征在于，所述步驟(c)中的 化學(xué)蝕刻減薄方法為浸泡蝕刻或噴淋蝕刻。
5. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的透明導(dǎo)電膜玻璃的制作方法，其特征在于，所述步驟(b)中的 保護(hù)采用真空吸盤保護(hù)裝置。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的透明導(dǎo)電膜玻璃的制作方法，其特征在于，所述步驟(c)中的化學(xué)蝕刻減薄方法為噴淋蝕刻。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1 6中任一項所述的透明導(dǎo)電膜玻璃的制作方法，其特征在于，所述 步驟(d)中的薄透明導(dǎo)電玻璃厚度為0. 10毫米至0. 25毫米。
8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的透明導(dǎo)電膜玻璃的制作方法，其特征在于，所述素玻璃是鈉 鈣玻璃或硼硅玻璃。
9. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的透明導(dǎo)電膜玻璃的制作方法，其特征在于，還包括將制得的 薄透明導(dǎo)電膜玻璃的蝕刻面進(jìn)行充分清洗。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種透明導(dǎo)電膜玻璃的制作方法，更具體地說，涉及一種厚度小于0.3毫米的超薄透明導(dǎo)電膜玻璃的制作方法。所述制作方法包含以下步驟首先采用厚度大于0.3毫米的厚素玻璃進(jìn)行透明導(dǎo)電膜薄膜鍍膜；然后保護(hù)透明導(dǎo)電膜玻璃的鍍膜面對其非鍍膜面進(jìn)行化學(xué)蝕刻減薄；最后得到厚度小于0.3毫米的超薄透明導(dǎo)電膜玻璃。按照本發(fā)明的方法，可以采用目前廣泛使用的平板顯示器用透明導(dǎo)電膜玻璃真空鍍膜生產(chǎn)線，并以價格較低的厚度大于0.4毫米的普通素玻璃作為原料來制造超薄透明導(dǎo)電膜玻璃，具有工藝簡單、設(shè)備便宜、技術(shù)可靠、玻璃不易破裂、良品率高及運行成本低的優(yōu)點。
文檔編號C03C17/00GK101781092SQ20091010507
公開日2010年7月21日 申請日期2009年1月16日 優(yōu)先權(quán)日2009年1月16日
發(fā)明者劉志斌, 張莉, 金弼 申請人:中國南玻集團(tuán)股份有限公司