專利名稱：使用低比重材料作為小片的人造大理石及其制備方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種通過使用包含低比重材料(具有0.2~2.0的比重) 的小片而制備，以實現天然石樣的紋理的人造大理石；以及制備該人 造大理石的方法。更具體地是，本發(fā)明涉及一種人造大理石，其中使 用常規(guī)人造大理石中不能使用的低比重材料，以通過層壓或者壓碎技 術(cmnch technique)構成具有相對高比重的人造大理石小片，以便得到 與天然石非常相似的紋理；以及制備該人造大理石的方法。
背景技術：
總的來說，人造大理石是指通過用樹脂組分(丙烯酸樹脂、不飽和 聚酯、環(huán)氧樹脂等)或水泥與天然石粉和礦物混合，并向混合物中加入 各種顏料和添加劑以實現天然石樣的紋理而制備的人工合成產品。典 型的人造大理石包括丙烯酸人造大理石、不飽和聚酯人造大理石、工 程石人造大理石(engineered stone artificial marble)等。在這里，工程石人造大理石是通過將天然石粉、石英、玻璃、云 母(mirror )、氫氧化鋁等作為主要材料與15重量％或更少的樹脂混合 而制得，并在下文中稱為"E-石"。最常見的人造大理石產品通常具有單 一顏色或僅使用很少的小片在進行。正如所已知的，如丙烯酸材料等的低比重材料在單獨使用時由于 比重不同會上升至漿料上面。因此，在由低比重材料制成小片的情況，
它們會呈現出與其它具有相對高比重的小片的分離，從而無法使人造 大理石產品實現所需的表面紋理。為此原因，按照慣例，低比重材料 不能用于人造大理石的制備。韓國專利公開號2004-59913公開了 一種丙烯酸人造大理石，其特 征在于使用了特殊的小片，其中每個小片含有各種不同顏色的小片(稱 為"小片中的小片，，(chip-in-chip ))。然而，所公開的丙烯酸人造大理 石是相互具有相似比重的材料為了顏色效果的簡單結合，并且由于其 復合材料中包含無機填料而具有低透明度的問題。韓國專利登記號376605公開了一種包含小片的人造大理石板。在 公開的人造大理石板中，相互具有不同比重和顏色的各種小片以將低、 中和高比重小片分散于所述板的前表面、中間部分、和背面的方式分 散，從而使所制得的板在圖案和顏色上多樣化。然而，上述專利所提 出了通過區(qū)分小片的比重而分離各層，其不同于本發(fā)明。韓國專利登記號491874公開了一種人造大理石，其包含(A)100 重量份的人造大理石漿，其中含有100重量份的丙烯酸樹脂漿、120 200 重量份的無機填料、2 10重量份的交聯劑和0.1~10重量份的聚合引發(fā) 劑，以及(B) 5~70重量份的大理石小片，其含有100重量份的丙烯 酸樹脂漿、100 150重量份的無機填料、2~10重量份的交聯劑和0.1 10 重量份的聚合引發(fā)劑，其中無機填料在人造大理石漿中的混合比率比 在大理石小片中高20~50重量份。然而，由于在大理石小片中加入了 無機填料，上述專利中公開的人造大理石的透明度劣化。日本專利登記號3648592公開了 一種使用相互間具有不同形狀和 比重的各種小片的人造大理石。上述專利與如本發(fā)明所提出的應用低 比重材料以增加材料比重無關。
日本專利登記號3685116 />開了一種通過加熱和石更化含有熱固性樹脂作為主要成分的樹脂化合物制備的人造大理石。所公開的人造大 理石的特征在于其前表面是由非發(fā)泡人造大理石層形成，并且其背面 是由具有比非發(fā)泡人造大理石層更低密度的發(fā)泡人造大理石層所形 成。在上述專利中所公開的發(fā)明的情況下，雖然由于所述人造大理石 背面的發(fā)泡層而使該人造大理石顯示出固定安裝以及再循環(huán)、切割和 其它加工的改進，但是其與如本發(fā)明所提出的應用低比重材料以增加 材料比重無關。日本專利公開號1999-343156公開了 一種輕質人造大理石，其通過 將100重量份的人造大理石漿與20~180重量份的具有0.5 1.5比重和3 mm或更低平均粒徑的發(fā)泡無機粒狀材料混合，并加熱及聚合該混合物 而制備。日本專利公開號2001-335382公開了 一種輕質人造大理石復合 材料，其包含10 65wt。/。的含有曱基丙烯酸甲酯作為主要成分的可聚 合組分、30 85wto/。的無^L填料和0.1 10wt。/。的具有0.05 0.7比重和 10 300 nm平均粒徑的有機中空填料。上述專利僅涉及人造大理石重 量的降低，而與如本發(fā)明所提出的應用低比重材料以增加材料比重無 關。發(fā)明內容技術問題因此，鑒于上述問題已做出本發(fā)明，并且本發(fā)明的目的是提供一 種人造大理石，其中適用于獲得天然大理石樣的紋理的多種低比重材 料可用于構成人造大理石小片，該人造大理石小片具有與相對高比重 的其它單色小片比重相似的比重，以便獲得與天然石非常相似的表面
紋理以及高穩(wěn)定性的物理性質，而沒有與高比重小片分離的風險；以及制備該人造大理石的方法。 技術方案根據本發(fā)明的一個方面，上述和其它目的可通過提出一種具有背 景區(qū)域和小片的人造大理石而實現，其中該小片包括通過使用比背景 區(qū)域比重低的低比重材料以及比背景區(qū)域比重高的高比重材料而制得 的高比重小片。根據本發(fā)明的第一實施方式，各高比重小片可以包括由高比重 材料形成的高比重層，以具有比背景區(qū)域比重高的比重；以及由低比 重材料形成的低比重層，以具有比背景區(qū)域比重低的比重。根據本發(fā)明的第二實施例，各高比重小片可以包括由高比重材 料形成的高比重區(qū)域，以具有比背景區(qū)域比重高的比重；以及由低比 重材料形成的低比重區(qū)域，以具有比背景區(qū)域比重低的比重，并且該 低比重區(qū)域可均勻分布于作為背景的高比重區(qū)域。在本發(fā)明中，由于將高比重材料(具有2.0或更高的比重)加入低 比重材料(具有0.2 2.0的比重)中，該人造大理石可通過使用具有與 包括于人造大理石中的大體上單一顏色的小片相似比重的高比重小片 而制備。高比重小片意為通過將高比重填料加入低比重材料中而得到的小 片，從而得到與包含在人造大理石中的大體上單一顏色的小片比重相 似的比重。本發(fā)明提出通過層壓或壓碎技術而賦予低比重材料高比重。具體 而言，由低比重材料制得的低比重層與由高比重材料制得的高比重層
可通過層壓技術而整體式形成，或者低比重區(qū)域可以通過壓碎技術涂 布含有高比重填料的高比重漿，以便制備壓碎形狀的小片。使用層壓 或壓碎技術，可以將高比重賦予低比重材料，從而消除與使用高比重 小片的人造大理石比重不同的問題。優(yōu)選地，各高比重小片的比重可以等于使用高比重小片的人造大 理石的復合材料的比重，或者可以具有± 0.2或更低的比重差。本發(fā)明的特征為降低了高比重小片與使用所述小片的人造大理石 的復合材料之間的比重差。當高比重小片與復合材料不具有比重差，即相互具有相同的比重，或比重差低于0.2時，則不會存在小片與復合材料的分離。為了得到與石英和包含于天然石中的高純度二氧化硅相當的高透 明度，本發(fā)明人已經嘗試將如丙烯酸樹脂的透明低比重材料引入人造 大理石的復合材料中，以便得到圖案和顏色與天然石相近的人造大理 石。然而，為了維持低比重材料的透明度，他們錯將填料去除。當將 具有小片形狀的低比重材料引入人造大理石中時，由于比重的差異而 導致小片的分離。通常，塑料樹脂為具有1.5或更低比重的低比重材料。例如，透明 丙烯酸樹脂，如聚曱基丙烯酸曱酯(PMMA),具有約1.7~1.20的比重。 但是，人造大理石的復合材料通常具有約1.4 1.8的比重。由于透明樹脂與人造大理石的復合材料之間的比重差異，當將由 透明樹脂制成的透明小片引入人造大理石中時，透明小片會從人造大 理石中分離。因為不存在具有1.6或更高的高比重的透明聚合物，目前 難以使用透明小片制備人造大理石產品。在本發(fā)明中，通過制備包含透明低比重材料的高比重小片，可使
小片與人造大理石的復合材料之間的比重差異最小化，從而賦予人造 大理石產品天然石英樣的外觀，而沒有透明低比重材料分離的風險。優(yōu)選地，高比重小片的總比重為1.3~2.0,并且更具體為1.6 1.8， 這與人造大理石的復合材料的比重相似。為了獲得高比重小片的比重， 高比重層或者高比重區(qū)域的比重可以優(yōu)選為1.5 10,并且更具體為 2.0 5.0。同樣，低比重層或者低比重區(qū)域的比重可為0.2 2.0，并且更 具體為1.5或更低。所述低比重層或低比重區(qū)域可形成具有70 ~ 100%、優(yōu)選為95%或 更高的透光率的透明層或者透明小片。常規(guī)的小片包含如氫氧化鋁的 填料，并且為具有60%或更低透光率的半透明小片。應該指出，即使 在恒定透光率的條件下可通過調節(jié)厚度而增加透明效果。在高和低比重層或者高和低比重區(qū)域中所使用的基礎樹脂可以是 透明的聚合物樹脂，例如丙烯酸樹脂、不飽和聚酯樹脂、環(huán)氧樹脂、 聚氯乙烯(PVC)、聚苯乙烯(PS)、聚碳酸酯(PC)、聚對苯二甲酸乙 二酯(PET)、和苯乙烯-曱基丙烯酸曱酯(SMMA)共聚物樹脂等。更 優(yōu)選的，該低比重層或者低比重區(qū)域可使用丙烯酸樹脂作為基礎樹脂 而形成透明的丙烯酸小片。根據本發(fā)明，因為具有高透光率和良好的物理性質的透明丙烯酸 小片可應用于高比重層或者高比重區(qū)域，其可以在進行如鑄模和研磨 的后加工時而得到天然石英樣的外觀，這是通常由于比重差異而無法 施4亍的。在本發(fā)明中，高比重層或者高比重區(qū)域包含調節(jié)低比重層或者低 比重區(qū)域的比重的填料。適當填料的實例可包括鋇化合物、煤、石粉、 二氧化硅、二氧化鈦、氫氧化鋁、碳酸4弓、金屬粉和金屬鹽。所述填料的比重必須為至少2.5,并且優(yōu)選為2.5 10。為了以低使用量來增加 比重調節(jié)效果，使用高比重填料是有利的。在根據本發(fā)明第 一 實施方式的最終人造大理石產品的情況下，可 通過磨砂除去高比重層，以使低比重層曝露于人造大理石外部表面， 從而依靠透明的低比重層而得到獨特的人造大理石外觀。在根據本發(fā)明第二實施方式的最終人造大理石產品的情況下，可 通過磨^jr部分除去高比重區(qū)域，以使低比重區(qū)域曝露于人造大理石外 部表面，從而依靠透明的低比重區(qū)域而得到獨特的外觀。高比重小片的形狀沒有特別限定，例如，其可具有圓柱形狀或者 包括四面體形狀、六面體形狀等的多面體形狀。'通常，高比重小片具 有六面體形狀。考慮到其外觀和加工性能，高比重小片可具有0.5 mm 20 mm的 尺寸，并且基于100重量份的人造大理石的復合材料，高比重小片的 加入量可以為0.1 ~ 100重量份。所述人造大理石可以是丙烯酸人造大理石、不飽和聚酯人造大理 石或工程石人造大理石。工程石人造大理石可以通過將天然石4分、石 英、玻璃、云母、氫氧化鋁等作為主要材料與15wt。/?；蚋俚臉渲?合而制得。根據本發(fā)明的另一方面，上述和其它目的可通過提出一種制備人 造大理石的方法而實現，該方法包括制備用于形成比重比人造大理 石低的低比重層的平板；制備用于形成比重比人造大理石高的高比重 層的平板，并且將高比重層平板層壓于低比重層平板上面；將層壓的 平板壓碎以制備包括低比重層和高比重層的高比重小片；以及將高比 重小片引入人造大理石中。
根據本發(fā)明的又一方面，上述和其它目的可通過提出一種制備人 造大理石的方法而完成，該方法包括制備用于形成比重比人造大理石低的低比重區(qū)域的小片；將該低比重區(qū)域小片與用于形成比重比人 造大理石高的高比重區(qū)域的復合材料混合；將混合物成形為具有平板 形狀；并且壓碎已成形平板，以制備包括均勻分布于作為背景的高比 重區(qū)域中的低比重區(qū)域的高比重小片；以及將高比重小片引入人造大 理石中。可通過調節(jié)加入高比重層平板或者高比重區(qū)域復合材料中的填料 的比重和數量，而將高比重小片的比重調節(jié)至與人造大理石的復合材 料相等或相接近。根據本發(fā)明第一實施方式，可通過調節(jié)高比重層平板和低比重層 平板的厚度，而將高比重小片的比重調節(jié)至與人造大理石的復合材料 相等或相接近。通過厚度的調節(jié)，可以防止高比重層和低比重層之間 的分離。根據本發(fā)明第二實施方式，在制備用于形成高比重小片的平板過 程中，可將用于平板的模的厚度調節(jié)至與低比重區(qū)域小片的最大直徑 相近。這可有效地防止用于形成低比重區(qū)域的小片在高比重壓碎小片 中聚集。根據本發(fā)明第一實施方式，在人造大理石硬化后，通過磨砂將高 比重層部分或者完全除去，從而將低比重層曝露于人造大理石外部表 面。這有利于通過透明的低比重層而得到人造大理石獨特的外觀。依據本發(fā)明第二實施方式，在人造大理石硬化后，通過磨砂將高 比重區(qū)域部分除去，從而將低比重區(qū)域曝露于人造大理石外部表面。 這有利于通過透明的低比重區(qū)域而得到人造大理石獨特的外觀。
各平板可通過鑄模法、壓制法(press method)、振動器法(vibrator method)或者UV石更化法(UV curing method )而石更化。根據本發(fā)明，通過使用比重比用于制備人造大理石的漿料比重低 的材料，例如透明丙烯酸樹脂，而可以應用各種材料來制備人造大理 石，從而實現與天然大理石的紋理非常相似的外觀。


結合附圖，通過下列詳細描述，將更清楚地理解本發(fā)明的上述和其它目的、特征以及其它優(yōu)點，其中圖1為根據本發(fā)明第一實施方式的高比重小片的剖面圖；圖2為使用根據本發(fā)明第一實施方式的高比重小片的人造大理石的剖面圖；圖3為圖2中所示的人造大理石在磨砂后的剖面圖； 圖4為說明根據本發(fā)明第一實施方式的人造大理石表面的照片； 圖5為根據本發(fā)明第二實施方式的高比重壓碎小片的剖面圖； 圖6為使用根據本發(fā)明第二實施方式的高比重壓碎小片的人造大 理石的剖面圖；圖7為圖6中所示的人造大理石在磨砂后的剖面圖； 圖8為i兌明根據本發(fā)明第二實施方式的人造大理石表面的照片。附圖重要組件參考數字的說明
1:人造大理石 la:背景區(qū)域 10:高比重小片 11:高比重層12:低比重層20:單一顏色小片具體實施方式
現在本發(fā)明將參考附圖進行詳細描述。圖1為根據本發(fā)明第一實施方式的高比重小片的剖面圖。如圖1 所示，高比重小片10包括低比重層12和高比重層11。雖然高比重小片IO優(yōu)選具有六面體形狀，但是并不限于此，其可 具有圓柱或者四面體形狀等。此外，高比重小片IO可以具有規(guī)則或者 不規(guī)則的形狀。高比重小片10的層壓結構并不限于如附圖中所示的雙層結構。換 句話說，高比重小片10可以具有包括多個低比重層12和高比重層11 的多層結構。在多層結構的情況下，低比重層12和高比重層11可以 交替地層壓于高比重小片IO的至少一部分。圖2為使用根據本發(fā)明第一實施方式的高比重小片的人造大理石 的剖面圖。如圖2所示，人造大理石1包括背景區(qū)域la和小片。所述 人造大理石1的小片包括根據本發(fā)明的高比重小片IO和大體上單一顏 色的小片20。高比重小片10基本上是由比重比背景區(qū)域la比重低的低比重材 料制成，但是其也包含比重比背景區(qū)域la比重高的高比重材料，以便 得到相對高的比重。具體而言，高比重小片狀物10包括由比重比背景 區(qū)域la比重高的高比重材料制成的高比重層11，以及由比重比背景區(qū) 域la比重低的低比重材料制成的低比重層12。從圖2可以看出，高比重小片10與背景區(qū)域la基本上沒有比重 差異，因此其可均勻地分布而沒有與大體上單一顏色的小片20分離的
風險。優(yōu)選地，考慮到人造大理石1外觀的改進以及簡化制備方法，高比重小片10的比重略高于背景區(qū)域la的比重，以4吏高比重小片10 可靠近人造大理石1的表面而分布。高比重小片lO依靠其高比重層ll， 在人造大理石1的表面方向具有如圖中所示的規(guī)則排列。圖3為圖2中所示的人造大理石在磨石少后的剖面圖。由于通過磨 砂部分或者完全除去高比重層11，透明的低比重層12曝露于外部，從 而賦予人造大理石獨特且高質量的外觀。圖4為說明根據本發(fā)明第一實施方式的人造大理石表面的照片。 由圖4可確定，根據本發(fā)明第一實施方式的人造大理石具有與天然大 理石的紋理非常相似的外觀。制備根據本發(fā)明第 一 實施方式的人造大理石的方法包括制備高比 重小片的操作，以及使用該高比重小片制備人造大理石的操作。制備 高比重小片的操作依次包括制備用以形成低和高比重層的平板的操 作、層壓操作和壓碎操作。用于制備高比重小片的人造大理石平板通過將可聚合樹脂化合 物、無機填料等硬化而得到。在本文中，應注意到，用于形成低比重 層的平板不包含無機填料。用于形成低比重層的平板通過將低比重材料(具有0.2 2.0的比重) 硬化以具有平板形狀而制得。雖然所有常規(guī)的透明樹脂均可用作低比 重材料，但是考慮到物理性質和外觀效果，優(yōu)選如PMMA、 PC等的高 透明樹脂。透明平板在它們的制備方法中不受限制。但是，當透明樹脂用于構成低比重層時，問題在于，因為與人造 大理石復合材料的比重差異大，制得的低比重層在硬化過程中會浮向 人造大理石的背面，因而無法賦予產品表面改良的外觀。在本文中，
產品表面是指與鋼帶接觸的表面，而產品背面是指與空氣接觸的表面。 為了解決上述問題，用于形成低比重層的平板與使用高比重填料的高 比重層形成整體。用于形成高比重層的平板通過將含有100重量份的基礎樹脂漿、50 1500重量份的無機填料、0.1~10重量份的交聯劑、0.1 10重量份的 聚合引發(fā)劑和0.1~5重量份的顏料的漿料硬化而制得。用于高比重層中的無機填料為高比重材料(具有2.0或更高的比 重)，例如鋇化合物、煤、石粉、二氧化硅粉末等。各平板的制備和層壓順序不限于特定的方式，并且各平板可通過 通常使用的鑄模、壓制、振動器或UV硬化方法等而硬化。各高和低比重層可為包括兩層或多層的多層形式。例如，單一的 低比重層可與一至三個高比重層整體式形成?；诟弑戎匦∑x用的尺寸，其有必要調節(jié)高和低比重層的厚 度，以防止高比重層和低比重在壓碎過程中分離。如果平板制備完成并相互層壓，則將經層壓的平板壓碎以制備高 比重小片。因此，人造大理石可通過使用高比重小片而制得。圖2說明了當將大體上單一顏色的小片與上述高比重小片一起使 用時所得到的人造大理石圖案，并且圖3說明了磨砂后的人造大理石 圖案。圖5為根據本發(fā)明第二實施方式的高比重壓碎小片的剖面圖。如 圖5所示，高比重壓石,小片10以小片形狀的低比重區(qū)域12均勻地分 布于作為背景的高比重區(qū)域11的方式配置。這一壓碎小片的結構可通 過餅干進行簡易地理解，例如，包埋在如巧克力等的基礎材料中的如 杏仁的谷類。
對高比重壓碎小片IO的形狀不作特別限制。例如，高比重壓碎小 片IO可具有六面體或者圓柱形狀等，并可具有規(guī)則或不規(guī)則的形狀。 圖6為使用根據本發(fā)明第二實施方式的高比重壓碎小片的人造大理石的剖面圖。如圖6所示，人造大理石1包括背景區(qū)域la和小片。 人造大理石1的小片包括根據本發(fā)明的高比重壓碎小片IO和大體上單 一顏色的小片20。高比重壓碎小片10通過使用比重比背景區(qū)域la比重低的低比重 材料以及比重比背景區(qū)域la比重高的高比重材料制得。具體而言，高 比重壓碎小片10包括由比重比背景區(qū)域la比重高的高比重材料制成 的高比重區(qū)域11以及由比重比背景區(qū)域la比重低的低比重材料制成 的低比重區(qū)域12。在本文中，小片形狀的低比重區(qū)域12均勻地分布于 作為背景的高比重區(qū)域11中。從圖6可以看出，高比重壓碎小片10與背景區(qū)域la基本上不存 在比重差異，因此可均勻地分布而沒有與大體上單一顏色的小片20分 離的風險。優(yōu)選地，考慮到人造大理石1外觀的改進和簡化的制備方 法，該高比重壓^Ef小片10，的比重略高于背景區(qū)域la的比重，以使高 比重壓碎小片IO可接近于人造大理石l表面而分布。圖7為圖6中所示的人造大理石在磨石少后的剖面圖。由于通過磨 砂部分地除去高比重區(qū)域11，透明的低比重層12曝露于外部，以賦予 人造大理石獨特且高質量的外觀。圖8為說明根據本發(fā)明第二實施方式的人造大理石表面的照片。 由圖8可確定，根據本發(fā)明第二實施方式的人造大理石具有與天然大 理石的紋理非常相似的外觀。制備根據本發(fā)明第二實施方式的人造大理石的方法包括制備高比
重壓碎小片的操作以及使用該高比重壓碎小片制備人造大理石的操 作。制備高比重壓碎小片的操作依次包括制備形成低比重區(qū)域的小片 的操作、制備壓碎小片的操作以及壓碎操作。用于制備人造大理石的高比重壓碎小片的平板通過將可聚合樹脂 化合物、無機填料等硬化而得到。在本文中，應注意到，用于形成低 比重區(qū)域的平板不包含無機填料。用于形成低比重區(qū)域的小片通過將低比重材料(具有0.2 2.0的比重)硬化以具有平板形狀并且壓碎所制成的平板而制得。但是，當使用透明樹脂以構成用于形成低比重區(qū)域的小片時，問 題在于，因為與人造大理石的復合材料的比重差異大，制得的小片在 硬化過程中會浮向人造大理石的背面，因而無法賦予產品表面改良的 外觀。為了解決上述問題，用于形成低比重區(qū)域的小片使用高比重填 料而包埋于高比重漿料中，以具有壓碎小片結構。用于形成高比重區(qū)域的復合材料包含100重量份的基礎樹脂漿、 50~1500重量份的無機填料、0.1 10重量份的交聯劑、0.1 10重量份的 聚合引發(fā)劑以及0.1 5重量份的顏料。用于高比重區(qū)域復合材料中的無機填料為高比重材料(具有2.0或 更高的比重)，例如鋇化合物、煤、石粉、二氧化硅粉末等。高比重壓碎小片通過將用于形成高比重區(qū)域的復合材料與50 500 重量份的形成低比重區(qū)域的小片混合、硬化該混合物以具有平板形狀 以及壓碎制成的平板而制得。在這種情況中，通過調節(jié)用于形成高比重壓碎小片的平板的模厚 度，以使其與形成低比重區(qū)域的小片的最大直徑相等，可調節(jié)用于形 成高比重區(qū)域的復合材料的粘度。這有利于防止用于形成低比重區(qū)域
的小片在高比重壓碎小片中聚集。平板可通過通常使用的鑄模、壓制、振動器、UV硬化方法等硬化。 圖6說明了當大體上單一顏色的小片和上述高比重壓碎小片一起使用時所得到的人造大理石圖案，并且圖7說明了磨砂后的人造大理石圖案。 [實施例1]用于形成透明低比重層的平板通過使用丙烯酸樹脂(比重1.19， 透光率95%)而制備，然后用于形成高比重層(比重3.175)的平 板通過使用漿料而制得，該漿料包含100重量份的丙烯酸樹脂與150 重量份的作為高比重填料(比重4.499)的硫酸鋇。然后，將高比重 層平板層壓于透明的低比重層平板上。通過壓碎該經層壓的平板，制 得高比重小片。所制得高比重小片的比重為1.65。當使用10wt。/。的高比重小片來 制備人造大理石時，高比重小片與其它大體上單一顏色的小片僅顯示 出±0.1的微小比重差，并且得到在高比重壓碎小片和其它大體上單一 顏色的小片之間無分離風險的優(yōu)良人造大理石產品。 [實施例2]透明低比重平板通過使用丙烯S吏樹脂(比重1.19,透光率95%) 制備。隨后，將該平板壓碎以制備透明的低比重小片。然后，用于形 成高比重小片的平板通過將110重量份的透明低比重小片與漿料(比 重3.175 )混合，同時加入硬化劑和添加劑而制備，所述漿料包含100 重量份的丙烯酸樹脂和160重量份的作為高比重填料(比重4.499) 的硫酸鋇。而后，將用于形成高比重小片的平板壓碎，以制備高比重 壓碎小片。
制得的高比重壓碎小片的比重為1.64。當使用10wt。/。的高比重壓 碎小片來制備人造大理石時，高比重壓碎小片與其它大體上單一顏色的小片僅顯示出±0.1的微小比重差，并且制得在高比重壓碎小片與其它大體上單一顏色的小片之間無分離風險的優(yōu)良人造大理石產品。 工業(yè)應用性從上述描述可明顯得知，本發(fā)明提供了一種人造大理石，其可通 過使用如透明丙烯酸材料等的低比重材料制備。具體而言，該低比重材料的使用， 外觀。雖然為了舉例說明的目的，已公開了本發(fā)明的優(yōu)選實施方式，但 是本領域技術人員應理解，不偏離如附屬權利要求中所公開的發(fā)明范 圍和實質的各種修改、添加和替換是可行的。
權利要求
1、一種具有背景區(qū)域和小片的人造大理石，其中，所述小片包括高比重小片，該高比重小片通過使用具有比所述背景區(qū)域比重低的比重的低比重材料以及具有比所述背景區(qū)域比重高的比重的高比重材料而制得。
2、 根據權利要求1所述的人造大理石，其中，所述各高比重小片 包括由高比重材;阡制成的高比重層，以具有比所述背景區(qū)域比重高的 比重；以及由低比重材料制成的低比重層，以具有比所述背景區(qū)域比重低的 比重。
3、 根據權利要求1所述的人造大理石，其中，所述各高比重小片 包括由高比重材料制成的高比重區(qū)域，以具有比所述背景區(qū)域比重高 的比重；以及由低比重材料制成的低比重區(qū)域，以具有比所述背景區(qū)域比重低 的比重；且其中所述低比重區(qū)域均勻分布于所述高比重區(qū)域的背景中。
4、 根據權利要求1所述的人造大理石，其中，所述各高比重小片 的比重與包括該高比重小片的人造大理石的復合原材料的比重相等， 或者與所述人造大理石的復合原材料的比重相差± 0.2或更低。
5、 根據權利要求1所述的人造大理石，其中，所述高比重小片的 總比重為1.3 ~ 2.0。
6、 根據權利要求2或3所述的人造大理石，其中，所述高比重層或者高比重區(qū)域的比重為1.5 ~ 10。
7、 根據權利要求2或3所述的人造大理石，其中，所述低比重層 或者^^比重區(qū)^4的比重為0.2-2.0。
8、 根據權利要求2或3所述的人造大理石，其中，所述低比重層 或者低比重區(qū)域形成透光率為70~ 100%的透明層或者透明小片。
9、 根據權利要求2或3所述的人造大理石，其中，用于高和低比 重層或者高和低比重區(qū)域的基礎樹脂為選自丙烯酸樹脂、不飽和聚酯 樹脂、環(huán)氧樹脂、聚氯乙烯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚 對苯二甲酸乙二酯樹脂和苯乙烯-曱基丙烯酸甲酯共聚物樹脂的至少一 種。
10、 根據權利要求2或3所述的人造大理石，其中，所述低比重 層或者低比重區(qū)域形成使用丙烯酸樹脂作為基礎樹脂的透明丙烯酸小片。
11、 根據權利要求2或3所述的人造大理石，其中，所述高比重 層或者高比重區(qū)域包含比重為2.5 ~ 10的填料。
12、 根據權利要求11所述的人造大理石，其中，所述填料為選自 鋇化合物、煤、石粉、二氧化硅、二氧化鈦、氫氧化鋁、碳酸鈣、金 屬粉和金屬鹽的至少一種。
13、 根據權利要求2所述的人造大理石，其中，所述高比重層通 過磨砂除去，以使所述低比重層曝露于人造大理石外部表面。
14、 根據權利要求3所述的人造大理石，其中，所述高比重區(qū)域 通過磨砂部分除去，以使所述低比重區(qū)域曝露于人造大理石外部表面。
15、 根據權利要求1所述的人造大理石，其中，所述高比重小片具有0.5-20 mm的尺寸。
16、 根據權利要求1所述的人造大理石，其中，基于100重量份 的所述人造大理石的復合原材料，所述高比重小片的含量為0.1-100重量份。
17、 根據權利要求1所述的人造大理石，其中，所述人造大理石 為丙烯酸人造大理石、不飽和聚酯人造大理石或者工程石人造大理石。
18、 一種制備人造大理石的方法，其包括制備用于比重比人造大理石比重低的低比重層的平板； 制備用于比重比人造大理石比重高的高比重層的平板，并將所述用于高比重層的平板層壓于所述用于低比重層的平板之上；壓碎經層壓的平板以制成包括低比重層和高比重層的高比重小片；以及將所述高比重小片引入人造大理石中。
19、 一種制備人造大理石的方法，其包括制備用于比重比人造大理石比重低的低比重區(qū)域的小片；將所述用于低比重區(qū)域的小片與用于比重比人造大理石比重高的 高比重區(qū)域的復合材料混合，然后形成平板；壓碎所述平板以制成高比重小片，其包括均勻分布于所述高比重 區(qū)域的背景中的低比重區(qū)域；以及將所述高比重小片引入人造大理石中。
20、 根據權利要求18或19所述的方法，其中，通過調節(jié)加入所 述用于高比重層的平板或者用于高比重區(qū)域的復合材料中的填料的比 重和含量，將所述高比重小片的比重調節(jié)至與所述人造大理石的復合 原材料的比重相等或相接近。
21、 根據權利要求18所述的方法，其中，通過調節(jié)所述用于高比重層的平板和用于低比重層的平板的厚度，將所述高比重小片的比重 調節(jié)至與所述人造大理石的復合原材料的比重相等或相接近。
22、 根據權利要求19所述的方法，其中，將用于所述平板的模的 厚度調節(jié)至與所述用于低比重區(qū)域的小片的最大直徑相近。
23、 根據權利要求18所述的方法，其中，所述人造大理石硬化后， 通過磨砂將所述高比重層部分或者完全除去。
24、 根據權利要求19所述的方法，其中，所述人造大理石硬化后， 通過磨砂將所述高比重區(qū)域部分除去，以使所述低比重區(qū)域曝露于人 造大理石外部表面。
25、 根據權利要求18或19所述的方法，其中，各平板通過鑄模 法、壓制法、振動器法或UV硬化法硬化。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種使用由低比重材料制成的小片通過層壓或者壓碎技術以實現天然石樣的紋理的人造大理石；以及制備該人造大理石的方法。在一個實施例中，將包含高比重無機填料的高比重層層壓于由低比重材料制成的低比重層上而形成平板，然后壓碎該平板，以制備小片。在另一個實施例中，由低比重材料制備的低比重區(qū)域用包含高比重無機填料的高比重漿料涂覆，以制備壓碎小片。因此，常規(guī)上不能使用的低比重材料可應用于人造大理石，以得到與天然大理石的紋理非常相似的外觀。
文檔編號C04B35/16GK101163651SQ200680001373
公開日2008年4月16日 申請日期2006年9月25日 優(yōu)先權日2006年6月2日
發(fā)明者吳栽皞 申請人:Lg化學株式會社