專利名稱：可鋼化低輻射鍍膜玻璃及其生產方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種鍍膜玻璃，特別是涉及一種可鋼化低輻射鍍膜玻璃及其生產方法。
背景技術：
低輻射鍍膜玻璃也稱Low-E玻璃，是在優(yōu)質浮法玻璃表面，鍍數(shù)層低輻射材料及其它金屬化合物薄膜而形成。低輻射鍍膜玻璃具有以下特點極低的表面輻射率，極高的遠紅外(熱輻射)反射率，可阻擋玻璃吸熱升溫后以輻射形式從膜面向外散熱，也可直接反射遠紅外熱輻射。LOW-E膜的以上兩個特性與中空玻璃對熱的對流傳導的阻隔作用相配合，便構成了U值極低的LOW-E中空玻璃。它可阻隔熱量從熱的一端向冷的一端傳遞，冬季阻擋室內的熱量瀉向室外，可將室內的熱量保持在室內，起到節(jié)能的作用；而夏季阻擋室外熱輻射進入室內，起到良好的隔熱作用，是目前最理想的窗玻璃材料。
目前低輻射鍍膜玻璃主要有二種生產方法一)在線高溫熱解沉積法在浮法玻璃冷卻工藝過程中完成，液體金屬或金屬粉末直接噴射到熱玻璃表面上，隨著玻璃的冷卻，金屬膜層成為玻璃的一部分，該膜層堅固耐用。此鍍膜方式因與玻璃制程連線，一般稱為在線鍍膜，這種方法生產的低輻射玻璃雖具有可熱彎鋼化，不必在中空狀態(tài)下使用，可以長期儲存，但其熱學性能、熱絕緣效果比較差，如果想通過增加膜厚來改善其熱學性能，其透明性就非常差。二)離線真空磁控濺射法在原板玻璃上以真空磁控濺射方式濺鍍多層金屬或陶磁(氧化金屬)薄膜，因其不與玻璃制程連線，故稱為離線鍍膜，此種方法工藝生產的低輻射鍍膜玻璃，需要一層純銀薄膜作為功能膜，純銀膜在二層金屬氧化物膜之間，金屬氧化物膜對純銀膜提供保護，且作為膜層之間的中間層，有調整鍍膜玻璃顏色及抗反射增加透射率的作用，其具有下列特性1)接近玻璃的自然原色，對波長(380nm～780nm)的可見光波段有著高透視率，不致因玻璃對可見光的高反射而產生嚴重的反眩光公害；2)太陽光中可見光透入室內多，且顏色自然、采光佳，減少室內燈具的使用，節(jié)省能源；3)對紅外線光有較高之反射率(波長780nm～3000nm)，尤其是對長波長之紅外線(波長3000nm以上)，幾乎是全反射，可阻斷大量熱源進入，使室內覺得涼爽，達到冬暖夏涼的效果；適合于高檔的幕墻建筑使用。
但由于安全性的考慮，上述低輻射鍍膜玻璃常要進行鋼化處理，如果鍍膜后再進行鋼化，由于高溫(680℃以上)的作用，使鍍膜層極易被氧化和燒壞，導致低輻射鍍膜玻璃的功能完全喪失。

發(fā)明內容
本發(fā)明所要解決的技術問題是提供一種可鋼化低輻射鍍膜玻璃，鋼化后仍能保持高性能特性。
本發(fā)明還要提供一種上述可鋼化低輻射鍍膜玻璃的生產方法。
本發(fā)明解決技術問題所采用的技術方案是可鋼化低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基板，在玻璃基板上還依此包括抗反射膜層、金屬隔離膜層、抗反射膜層、阻絕紅外線膜層、金屬隔離膜層和保護總體膜層，所述抗反射膜層為Si3N4或Si3N4+TiO2；所述金屬隔離膜層為NiCr合金；所述抗反射膜層為氧化鋅鋁陶磁靶；所述阻絕紅外線膜層為金屬Ag；所述金屬隔離膜層為NiCr合金；所述保護總體膜層為Si3N4、SnO2+Si3N4或TiO2+Si3N4。
可鋼化低輻射鍍膜玻璃的生產方法，采用真空磁控濺射方式鍍膜，真空磁控濺射鍍膜機至少有14個濺射靶位和6個氣體隔離室。
本發(fā)明的有益效果是由于本發(fā)明的可鋼化低輻射鍍膜玻璃上的各膜層安排合理，可以進行鋼化或熱處理，并且在進行鋼化或熱處理后仍能保持高性能特性；具有與雙銀LOW-E一樣的隔熱節(jié)能性能；產品可儲存4-6個月不會氧化；具有自然顏色，在可見光波段具有高透過率，不會產生嚴重的反眩光公害。本發(fā)明的生產方法具有產量高、成本低的優(yōu)點。


圖1是本發(fā)明的膜層結構示意圖。
圖2是實施例1與不同低輻射玻璃透過率光譜圖。
具體實施例方式
圖1是本發(fā)明的膜層結構示意圖，各濺射膜層的作用為
抗反射膜層1為Si3N4或Si3N4+TiO2，可以降低反射率；調整玻璃面顏色；阻擋玻璃鋼化時基片本身釋放出的Na及O2侵蝕Ag膜層，造成Ag層被氧化而喪失功能。抗反射膜層1的膜厚約為15～30nm。
金屬隔離膜層2和5為NiCr合金，可以保護Ag層，避免Ag層被氧化，延長儲存時間。金屬隔離膜層2和5的膜厚約為1～5nm。
抗反射膜層3為氧化鋅鋁陶磁靶，可以調整膜層顏色；提高可見光的透射率?？狗瓷淠?的膜厚約為5～10nm。
阻絕紅外線膜層4為金屬Ag，可以降低輻射率；增加隔熱或保溫的效果。阻絕紅外線膜層4的膜厚約為8～14nm。
保護總體膜層6為Si3N4、SnO2+Si3N4或TiO2+Si3N4，可以調整鍍膜面的顏色；提高總體膜層耐化學腐蝕和機械摩擦的能力；保護整體膜層結構；阻擋鋼化時空氣中的化學物質或O2侵蝕Ag層；減少氧化。保護總體膜層6的膜厚約為35～60nm。
本發(fā)明采用真空磁控濺射鍍膜機生產，至少要有14個濺射靶位和6個氣體隔離室，抗反射膜層Si3N4或Si3N4+TiO2及保護總體膜層Si3N4或SnO2+Si3N4或TiO2+Si3N4采用最先進的雙陰極旋轉靶(C-MAG)濺射，具有可高功率濺射及不起弧、不掉塵的優(yōu)點，可大幅提高生產量?？狗瓷淠訛檠趸\鋁陶磁靶，可與NiCr合金或Ag放在同一個氣體隔離室，生產中只加入少許O2，Ar和O2的重量百分比含量分別為85-95％和5-15％，不會污染Ag層，在架構安排中可減少一個氣體隔離室，從而降低設備的投資成本。
本發(fā)明的低輻射鍍膜玻璃鋼化后可見光透過率為70～84％；輻射率ε為0.04～0.09。
實施例1抗反射膜層采用Si3N4；保護總體膜層采用Si3N4；抗反射膜層1的膜厚為21nm，金屬隔離膜層2的膜厚為2nm，金屬隔離膜層5的膜厚為2nm，抗反射膜層3的膜厚為7nm，阻絕紅外線膜層4的膜厚為12nm，保護總體膜層6的膜厚為50nm。
生產中，抗反射膜層3的靶材與阻絕紅外線膜層4的靶材放在同一個氣體隔離室，Ar和O2的重量百分比含量分別為95％和5％。
下表是本實施例與不同低輻射鍍膜玻璃性能數(shù)據(jù)表。

上表中SLE為單銀低輻射鍍膜玻璃；TLE為鈦基單銀低輻射鍍膜玻璃；DLE為雙銀低輻射鍍膜玻璃；K.Glass和Sunergy為在線低輻射鍍膜玻璃；PLE為本發(fā)明的可鋼化低輻射鍍膜玻璃。
在建筑節(jié)能中，傳熱系數(shù)(U值)越低，說明保溫隔熱性能越好，從上表可以看出(1)本發(fā)明的可鋼化低輻射鍍膜玻璃(PLE)與雙銀低輻射玻璃(DLE)在合成中空使用時的U值相近，即能達到DLE的保溫隔熱效果，但比其他單銀LOW-E的U值更低，因此本發(fā)明的可鋼化低輻射鍍膜玻璃在建筑節(jié)能的性能上非常優(yōu)異；(2)本發(fā)明的可鋼化低輻射鍍膜玻璃與同樣可鋼化的K.GLASS相比，其U值相差0.4，因此本發(fā)明的可鋼化低輻射鍍膜玻璃在建筑節(jié)能中的保溫隔熱效果比K.GLASS更優(yōu)異。
圖2是本實施例與不同低輻射玻璃的透過率光譜圖。圖中，SLE為單銀低輻射鍍膜玻璃；TLE為鈦基單銀低輻射鍍膜玻璃；DLE為雙銀低輻射鍍膜玻璃；GLAVERBEL-SUNERGY為在線低輻射鍍膜玻璃；PLE為本發(fā)明的可鋼化低輻射鍍膜玻璃。
從圖2可以看出本發(fā)明的可鋼化低輻射鍍膜玻璃在可見光(380-780nm)范圍內有很高的透光率，在短波長紅外線(780-3000nm)范圍內有很高的阻絕率，因此本發(fā)明的可鋼化低輻射鍍膜玻璃能使建筑物達到冬暖夏涼的效果，是一種高性能的隔熱節(jié)能玻璃。
實施例2抗反射膜層采用Si3N4+TiO2；保護總體膜層采用SnO2+Si3N4；抗反射膜層1的膜厚為30nm，金屬隔離膜層2的膜厚為1.5nm，金屬隔離膜層5的膜厚為1.5nm，抗反射膜層3的膜厚為5nm，阻絕紅外線膜層4的膜厚為8nm，保護總體膜層6的膜厚為35nm。
生產中，抗反射膜層3的靶材與阻絕紅外線膜層4的靶材放在同一個氣體隔離室，Ar和O2的重量百分比含量分別為85％和15％。
下表是本實施例的性能數(shù)據(jù)表。

實施例3抗反射膜層采用Si3N4；保護總體膜層采用TiO2+Si3N4；抗反射膜層1的膜厚為15nm，金屬隔離膜層2的膜厚為5nm，金屬隔離膜層5的膜厚為5nm，抗反射膜層3的膜厚為10nm，阻絕紅外線膜層4的膜厚為14nm，保護總體膜層6的膜厚為60nm。
生產中，抗反射膜層3的靶材與阻絕紅外線膜層4的靶材放在同一個氣體隔離室，Ar和O2的重量百分比含量分別為90％和10％。
下表是本實施例的性能數(shù)據(jù)表。

權利要求
1.可鋼化低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基板，其特征在于自玻璃基板向外依次包括抗反射膜層(1)、金屬隔離膜層(2)、抗反射膜層(3)、阻絕紅外線膜層(4)、金屬隔離膜層(5)和保護總體膜層(6)，所述抗反射膜層(1)為Si3N4或Si3N4+TiO2；所述金屬隔離膜層(2)為NiCr合金；所述抗反射膜層(3)為氧化鋅鋁陶磁靶；所述阻絕紅外線膜層(4)為金屬Ag；所述金屬隔離膜層(5)為NiCr合金；所述保護總體膜層(6)為Si3N4、SnO2+Si3N4或TiO2+Si3N4。
2.根據(jù)權利要求1所述的可鋼化低輻射鍍膜玻璃，其特征在于所述金屬Ag是部分氧化的金屬Ag。
3.根據(jù)權利要求1所述的可鋼化低輻射鍍膜玻璃，其特征在于所述可鋼化低輻射鍍膜玻璃的可見光透射率為70～84％，輻射率ε為0.04～0.09。
4.權利要求1所述的可鋼化低輻射鍍膜玻璃的生產方法，其特征在于采用真空磁控濺射方式鍍膜，真空磁控濺射鍍膜機至少有14個濺射靶位和6個氣體隔離室。
5.根據(jù)權利要求4所述的可鋼化低輻射鍍膜玻璃的生產方法，其特征在于抗反射膜層(1)和保護總體膜層(6)采用雙陰極旋轉靶濺射。
6.根據(jù)權利要求4所述的可鋼化低輻射鍍膜玻璃的生產方法，其特征在于所述抗反射膜層(3)的靶材與金屬隔離膜層(5)的靶材放在同一個氣體隔離室。
7.根據(jù)權利要求4所述的可鋼化低輻射鍍膜玻璃的生產方法，其特征在于所述抗反射膜層(3)的靶材與阻絕紅外線膜層(4)的靶材放在同一個氣體隔離室。
8.根據(jù)權利要求6或7所述的可鋼化低輻射鍍膜玻璃的生產方法，其特征在于生產中Ar和O2的重量百分比含量分別為85-95％和5-15％。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種可鋼化低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基板，在玻璃基板上還依此包括抗反射膜層、金屬隔離膜層、抗反射膜層、阻絕紅外線膜層、金屬隔離膜層和保護總體膜層，所述抗反射膜層為Si
文檔編號C03C17/36GK1931764SQ20061002207
公開日2007年3月21日 申請日期2006年10月19日 優(yōu)先權日2006年10月19日
發(fā)明者林嘉宏 申請人:林嘉宏