專利名稱：用于cvd的平滑多部分襯底支撐部件的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及用于大面積玻璃襯底的支撐部件。特別是，本發(fā)明涉及在高溫處理期間用于支撐大面積玻璃襯底的支撐部件。
背景技術：
迄今為止已經在大玻璃襯底或板上制成薄膜晶體管，用于監(jiān)視器、平板顯示器、太陽能電池、個人數(shù)字輔助系統(tǒng)(PDA)、移動電話等。晶體管是通過在真空室中依次沉積包括非晶硅、摻雜和非摻雜氧化硅、氮化硅等的各種膜形成的。用于晶體管的薄膜例如可以通過化學汽相沉積(CVD)來沉積。沉積之后，很多用于晶體管制造的膜將被熱處理。
CVD是溫度較高的工藝，其要求襯底承受的溫度在300℃-400℃的數(shù)量級?？梢灶A想更高溫度的工藝，如高于500℃。已經發(fā)現(xiàn)在玻璃襯底上制造集成電路時可廣泛使用CVD膜處理。然而，由于玻璃是易碎的和在快速加熱到高溫時容易彎曲或破裂的介電材料，因此必須小心調整大面積襯底的加熱速度，以便避免熱應力和導致?lián)p壞。
目前系統(tǒng)都存在在處理之前對玻璃襯底進行預處理和進行后熱處理操作。常規(guī)的加熱腔室具有用于加熱一個或多個玻璃襯底的一個或多個加熱架。玻璃通常被支撐在間隔器上的擱板上，以便提高熱均勻性和產量。為了是成本最低，常規(guī)間隔器通常由容易機械加工的金屬例如不銹鋼、鋁和氮化鋁等形成。但是，常規(guī)的間隔器可能會損傷玻璃表面，可能導致在玻璃表面中或上產生缺陷。然后，在切割操作期間，玻璃表面中或上的缺陷可能導致不正常的切割操作，導致器件損失或襯底破裂。
在有些情況下，相信與玻璃接觸的間隔器的部分可能與玻璃反應和暫時粘接到玻璃上。當后來這些粘接部位破裂時，早先反應的殘余物保留在間隔器上，將潛在地損壞正在被處理的襯底。此外，殘余物將引起被處理的襯底被損壞或者可能成為熱處理腔室內的污染源。而且，早先的殘余物可能引起間隔器和玻璃之間的附加化學反應或者進一步使間隔器支撐表面退化或降低間隔器的壽命。
因此，需要一種用于減少或消除玻璃損傷的高溫玻璃面板操作的玻璃支架。

發(fā)明內容
提供一種用于支撐玻璃襯底的裝置。在一個實施例中，提供一種襯底支架，它具有基底部分和在其上具有表面的上頂部，以便適于使襯底支架和在其上支撐的襯底之間的摩擦和/或化學反應最小。
在另一實施例中，用于支撐襯底的裝置包括支撐元件和多個支撐部件，至少一個支撐部件一般包括耦合到支撐元件的第一側的基底結構部件和適于相對于支撐元件的第一側隔開地支撐玻璃襯底的圓形頂部。
在另一實施例中，用于支撐襯底的裝置包括擱板和多個支撐部件。至少一個支撐部件一般包括耦合到擱板的第一側的基底結構部件和適于相對于擱板的第一側間隔地支撐玻璃襯底的圓形頂部。
在另一實施例中，用于支撐襯底的裝置包括腔室和間隔地設置在腔室中的多個擱板。每個擱板具有設置在其上的多個支撐部件。至少一個支撐部件一般包括耦合到擱板第一側的基底結構部件和適于相對于擱板第一側間隔地支撐玻璃襯底的圓形頂部。
在又一實施例中，用于支撐玻璃襯底的裝置包括腔室主體和耦合腔室主體的側壁的多個支撐元件。腔室主體具有第一玻璃傳送端口和第二玻璃傳送端口，它們分別被第一和第二槽形閥密封。多個支撐部件設置在支撐元件上。至少一個支撐部件包括耦合到支撐元件的基底結構部件和圓形頂部。圓形頂部適于相對于支撐元件間隔地支撐玻璃襯底。
附圖簡述本發(fā)明的多個具體描述已上面簡要總結，為了獲得上述的特征，優(yōu)點和本發(fā)明的目標且能被詳細理解，有必要參考具體實施例和附圖。
應該注意，然而，附圖只是表示本發(fā)明的典型實施例，因此不限制本發(fā)明的范圍，本發(fā)明可以允許其它等效的實施例。


圖1是根據本發(fā)明方案的具有支撐部件的加熱腔室的一個實施例的剖面圖。
圖2是根據本發(fā)明方案的支撐部件的一個實施例的剖視圖。
圖3是具有多個支撐部件的擱板的一個實施例的平面圖。
圖4是具有多個支撐部件的支撐元件的負載鎖定腔室的一個實施例的剖視圖。
優(yōu)選實施例的詳細說明本發(fā)明涉及用于玻璃襯底的支撐部件，有利地用于減少由摩擦、化學反應或摩擦和化學反應的污染物產生的玻璃襯底損壞。
圖1表示設置在示意加熱腔室10內的本發(fā)明的支撐部件的實施例。常規(guī)加熱腔室10包括側壁12、14、底壁16和蓋子18。另外的側壁13、15(圖1中未示出)垂直于側壁12、14，由此構成加熱腔室10的結構。與處理系統(tǒng)(未示出)相鄰的側壁13與槽形閥(未示出)配合，通過該槽形閥可以將玻璃板從處理系統(tǒng)傳送到加熱腔室10中和從中移出。
側壁12和14與用于控制加熱腔室10的溫度的合適的加熱線圈20配合。加熱線圈可以是電阻加熱器或用于循環(huán)熱傳遞氣體或液體的導管。底壁16分別與用于循環(huán)溫度控制流體的入口和出口管道24和26配合，和/或與通道27配合，該通道27包含連接到電源(未示出)的用于加熱線圈20的導線?；蛘撸嗤耐ǖ?4、26可用于封閉加熱線圈20和用于循環(huán)通道22中的熱傳遞介質。側壁12、14的內部與多個支撐元件如導熱擱板28配合。擱板28形成與壁12、14的良好熱接觸，以便確?？焖俸途鶆虻乜刂茢R板28的溫度。可用于擱板28的材料的例子包括但不限于鋁、銅、不銹鋼、包覆銅等。
一個或多個外部支承部件30適當?shù)卦O置在擱板28上，以便支撐玻璃襯底32的周邊，根據本發(fā)明的實施例，并且一個或多個內部支撐部件50設置在擱板28上，以便支撐玻璃襯底32的中心部分。在圖3所示實施例中，3個支撐部件30設置在擱板28的相對側壁12和14上，以便支撐襯底32的周邊，同時兩個支撐部件50設置于支撐部件30的內部，以便支撐玻璃襯底32的中心部分。
參見圖1，支撐部件30、50用于支撐被處理的玻璃襯底32，使得在擱板28和玻璃襯底32之間產生間隙。這個間隙確保避免擱板28與玻璃襯底32的直接接觸，它們之間的直接接觸將導致玻璃襯底32中產生應力和碎裂或者導致對玻璃襯底32產生從擱板28傳輸來的污染物。玻璃襯底32由輻射和氣體傳導直接加熱，而不是通過玻璃襯底32和擱板28的之間的直接接觸來加熱。
此外，玻璃襯底32和擱板28的交錯設置使得能夠從上面和下面提供玻璃襯底32的加熱，這可以更快速和更均勻地加熱玻璃襯底32。
圖2是根據本發(fā)明方案的內部支撐部件50的一個實施例的剖視圖。內部支撐部件50包括基底結構部件52和圓形頂部54，基底結構部件52具有一般為圓形的橫截面。由內部支撐部件50支撐的玻璃襯底與圓形頂部54接觸和由與圓形頂部54相鄰的區(qū)域支撐?；捉Y構部件52具有空的中心部分56，該空的中心部分適當?shù)匦纬梢员憬邮瞻惭b桿58，由此通過在加熱腔室10內部的示意示出的它的擱板28支撐內部支撐部件50。使用安裝桿58代替將內部襯底支架50直接安裝到擱板28上的一個優(yōu)點是用于內部支撐部件50和擱板28的材料選擇標準可以不同，并且可能導致不同材料的選擇和涉及選擇材料的不同熱膨脹系數(shù)以及熱膨脹系數(shù)的相關失配的可能問題。通過使用安裝桿58，內部支撐部件50可與相鄰擱板28的膨脹和收縮分開地膨脹和收縮。
基底結構部件52的頂部54具有圓形和平滑外表面。在一個實施例中，頂部54包括半球形、錐形、橢圓形或拋物線形端部。頂部54可具有適當平滑度的機械加工或拋光的表面光潔度或者其它合適的表面光潔度。在優(yōu)選實施例中，頂部54具有為R4表面平滑度或更好的表面光潔度，這意味著該表面被拋光到小于4微英寸的粗糙度。在另一優(yōu)選實施例中，內部襯底支架50的橫截面形狀為具有在頂部54的全半徑的圓筒形。
基底結構部件52的材料被加工成適于在熱處理期間支撐玻璃的形狀。在一個實施例中，基底結構部件52的截面形狀一般為具有圓形頂部的圓筒形。在優(yōu)選實施例中，用于支撐玻璃襯底的最頂部被倒圓并具有平滑外表面。選擇用于形成基底結構部件52的材料，以便容易加工，在一些實施例中為了降低成本。在一個實施例中，基底結構部件52是由不銹鋼或低碳含量不銹鋼形成的。在另一實施例中，基底結構部件52由鉻鎳鐵合金(Inconel)或其它鎳合金形成。
前面作為具有玻璃支撐部件而介紹了本發(fā)明的實施例，其中玻璃支撐部件具有由金屬或金屬合金并包括涂層60的基底結構部件52，應該理解其它材料也可以用于不需要涂層60的基底結構部件52。基底結構部件52可由提供摩擦減少和抑制本發(fā)明的特點的化學反應的材料形成。例如，基底結構部件52可以是石英或藍寶石或者提供本發(fā)明優(yōu)點的其它合適非金屬材料。在有些情況下，可以在沒有涂層60的情況下使用這些替代材料。
涂層60通常至少沉積在最頂部54的尖端90上?；蛘撸繉?0可沉積在最頂部54的任何部分上和/或基底結構部件52上。在一個實施例中，本發(fā)明的涂層60具有足夠的厚度，以便用作防止基底結構部件52和玻璃襯底32之間的接觸的阻擋層。而且，基本上防止了基底結構部件50和內部襯底支架之間的污染物的反應。在本申請中，污染物可能是各種材料，包括存在與基底結構部件52內的跡線材料。例如，鉻存在于適于用作基底結構部件32的很多種不銹鋼中。相信本發(fā)明的表面涂層60的阻擋層實施例能夠減少或消除存在于基底結構部件52中的鉻和玻璃襯底32之間的反應。在涂層60減少或消除基底材料52和玻璃基襯底32之間的反應的實施例中，最頂部54可以被倒圓和/或具有用于支撐玻璃32的平面中部。平面中部通常被溝槽或輻射狀部分包圍，以便在裝載和加熱襯底32期間使?jié)撛诘墓蝹钚』?br> 能減少或消除基底材料52和玻璃襯底32之間的反應的涂層60的實施例包括CVD氮化處理和PVD濺射處理。例如，如上成形的基底結構部件52可以設置在反應室中并暴露于包括氨、和/或氮氣、和/或氫氣、和/或其它還原氣體的氣氛中，以便在基底結構部件52的暴露表面上形成氮化層。這個工藝的結果是，在基底結構部件52的最頂部54上形成CVD氮化物涂層60。
上述CVD工藝或用于在基底結構部件52的暴露表面上形成氮化表面的其它合適工藝繼續(xù)進行，直到氮化物層足夠厚以便減少或防止基底結構部件52和玻璃襯底32之間的反應為止。在一個實施例中，涂層60通過CVD形成為至少約3微米的厚度。在另一個實施例中，涂層60通過CVD形成為約3微米到約20微米之間的厚度。
在替換實施例中，將能減少或消除基底材料52和玻璃襯底32之間的反應的涂層60濺射到基底結構部件52的最頂部54上。在一個實施例中，涂層60是通過合適的物理汽相沉積(PVD)工藝形成的，以便在基底結構部件52的外表面上形成氮化表面。在優(yōu)選實施例中，涂層60包括氮化鈦并且通過濺射法如物理汽相沉積形成。在另一替換實施例中，涂層60是通過物理汽相沉積形成的并具有足以減少或消除基底結構部件52和玻璃襯底32之間的化學反應的厚度。在另一替換實施例中，涂層60是通過物理汽相沉積方法形成并至少約為3微米厚。在另一替換實施例中，PVD涂層的厚度為約3微米和約20微米之間。在另一替換實施例中，該涂層是通過濺射方法或其它物理汽相沉積工藝形成的氮化鈦。
在替換實施例，涂層60作為結構部件52和玻璃襯底32之間的摩擦減少層而工作。這里，摩擦減少指的是減少或消除由研磨、振動或玻璃襯底32和內部支撐部件50之間的其它接觸引起的對玻璃襯底32的損傷。相信本發(fā)明的摩擦減少表面涂層60的實施例是適合的膜，以便保持基底結構部件52的總形狀。在摩擦減少涂層60的優(yōu)選實施例中，涂層60是合適的并保持下面的基底結構部件52的平滑的拋光光潔度。
能夠減少引起玻璃襯底32損傷的摩擦的涂層60的實施方式包括CVD氮化工藝和PVD濺射工藝。例如，如上所述成形的基底結構部件52可設置在反應室中并暴露于包括氨氣、和/或氮氣、和/或氫氣、和/或其它還原氣體的氣氛中，以便在基底結構部件52的暴露表面上形成氮化層。作為這個工藝的結果，適合的CVD氮化表面涂層60形成在基底結構部件52的最頂部上。上述CVD工藝或其它合適工藝繼續(xù)進行直到氮化物層足夠厚和適合以便減少內部支撐部件50和玻璃襯底32之間的摩擦損傷為止。
在一個替換實施例中，摩擦減少涂層60是通過CVD形成為至少約3微米。在另一實施例中，摩擦減少涂層60通過CVD形成為約3微米到約30微米。
在替換實施例中，能夠減少內部支撐部件50和玻璃襯底32之間的摩擦損傷的涂層60被濺射到基底結構部件52的外表面上。在一個實施例中，摩擦減少涂層60是通過合適物理汽相沉積(PVD)工藝形成的，以便至少在基底結構部件52的最頂部54上形成氮化表面。在優(yōu)選實施例中，摩擦減少涂層60包括氮化鈦并且通過濺射法或物理汽相沉積形成。在另一替換實施例中，摩擦減少涂層60是通過物理汽相沉積形成的并且相對于基底結構部件52的形狀和光潔度是適合的，其中基底結構部件52具有的厚度足以減少由內部支撐部件52引起的玻璃襯底32的摩擦損傷。
在本發(fā)明的摩擦減少涂層60的另一替換實施方式中，涂層60是通過物理汽相沉積形成的并且相對于內部支撐部件50的形狀是保形的。涂層60適合于基底結構部件52和最頂部54的拋光光潔度。涂層60通常至少為約3微米厚。在另一替換實施例中，PVD涂層是適合的，并且厚度在約3微米和約20微米之間。在另一替換實施例中，涂層60是通過濺射或其它物理汽相沉積工藝形成的合適的氮化鈦層。
應該理解不管形成方法怎樣，表面涂層60提供基底結構部件52的光滑外表面。相信表面涂層60的上述替換實施例保持至少與基底結構部件52的原始光潔度相同的光滑表面?；蛘?，涂層60可以被處理成具有光潔度。還相信根據本發(fā)明形成并具有上述表面涂層60的內部支撐部件50將減少被支撐在內部支撐部件50上的玻璃襯底32之間的摩擦，在有些實施例中，還將減少基底結構部件52內的金屬或其它污染物和/或設置在其上的玻璃32之間的化學反應。
應該理解根據本發(fā)明的方案制造的內部支撐部件50適于在250℃以上進行的熱處理操作。其它加熱處理操作也可以使用本發(fā)明的內部支撐部件50進行，如在制造低溫多晶硅時使用的熱處理工藝。相信根據本發(fā)明制造的玻璃支撐部件適于在約450℃以上并高到和包括600℃進行的熱處理操作，這取決于施加和玻璃材料性能。相信上述表面涂層60提供保護層，減少基底結構部件52和被支撐的玻璃襯底之間的摩擦損傷的可能性，同時還用作阻擋層以防止基底結構部件52內的污染物或金屬和玻璃襯底32之間的反應。
前面已經示出和描述了作為中心支架的內部支撐部件50的實施方式，以便減少可能導致不正常分割操作的損傷或有源區(qū)損傷，這些損傷都將有害地影響器件產量。上述實施方式示出了作為中心支架的內部支撐部件50，同時常規(guī)外部支撐部件30可用于支撐玻璃面板32的周邊。還應該理解外部支撐部件30可以與內部支撐部件30相同地有利地構成，特別對于高溫玻璃序列。參照圖2已經介紹了使用構成為內部支撐部件50的玻璃支撐部件30和50的結果，可以減少或消除對玻璃襯底32的損傷，由此增加給定玻璃襯底的產量。
前面關于特殊材料和雜質介紹了支撐部件30和50，應該理解其它熱處理應用可能需要由其它不同材料制造的基底結構部件52，由此需要替換涂層60以便用作這里所述以外的其它不同雜質的阻擋層。
前面已經使用玻璃襯底介紹了本發(fā)明，本發(fā)明的支撐部件30和50的其它實施方式也可用于減少支撐部件30、50和不同襯底材料之間的摩擦損傷和化學反應。例如，可選擇涂層60以便防止基底材料52雜質擴散到替換類型的襯底中，例如塑料襯底。前面已經作為用在上述加熱系統(tǒng)10中而介紹了本發(fā)明，也可以使用其它熱處理系統(tǒng)和腔室。例如，電阻加熱器可直接安裝到擱板28中，以便提供將在其中被處理的玻璃襯底32的加熱和溫度控制。本發(fā)明的方法和設備可單獨實施而與其中采用本發(fā)明的實施例的加熱腔室的類型無關。
前面關于用于容納熱膨脹失配的有利的應用已經介紹了空的中間部分56和安裝桿58的設計，支撐部件30和50可使用其它裝置固定到擱板28上。機械固定的其它形式例如冷壓也可用于將玻璃支撐部件30和50固定到擱板28上。應該理解將玻璃支撐部件30和50的實施方式粘接或固定到加熱擱板28上的方法也是可以的。
前面所述和所示的涂層60在上部54中示出并只覆蓋基底結構部件52的一部分，應該理解也可以使用涂層的其它程度。例如，涂層60可覆蓋基底結構部件52的所有暴露部分或者可以只用于覆蓋上部54。在有些實施例中，涂層60可覆蓋基底結構部件52的所有表面，包括與擱板28接觸的那些表面。在優(yōu)選實施例中，施加于基底結構部件52的涂層60的量最優(yōu)化，以便提供本發(fā)明的化學和/或摩擦減少優(yōu)點。
圖4示出了具有多個支撐部件30和設置在其中的至少一個支撐部件50的負載鎖定腔室400的一個實施方式的剖面圖。負載鎖定腔室400一般包括室主體402，該室主體402具有設置在其中的第一玻璃傳送端口404和第二玻璃傳送端口406。一般，每個端口404、406選擇地被槽形閥408密封。通常，負載鎖定腔室400設置在例如包含于腔室(未示出)中的第一氣氛和真空氣氛之間，該腔室分別設置在第一和第二端口404、406上，負載鎖定腔室400用于允許玻璃32傳送到真空氣氛的內部或外部而不損失真空。腔室主體402另外包括可調整室主體402內的壓力的泵送端口410。任選地，腔室主體402可包括用于升高室主體402內的壓力的通道412。其中腔室主體402處于真空條件下。通常，通過通道412進入腔室400的空氣或流體經過過濾器414，以使進入腔室400的顆粒最少。這種過濾器一般可從Riverdale、New Jersey的Camfil-USA公司獲得。
多個支撐元件416一般設置在室主體402內，每個支撐元件支撐至少一個支撐部件30和50。每個支撐元件416通常耦合到腔室400的至少一個壁418上。在圖4所示實施例中，支撐元件416包括第一組支撐元件420耦合懸掛到第二組支撐元件422上，其中第二組支撐元件422耦合在壁418和相對壁(未示出)之間。通常，第一組支撐元件420具有在其上支撐玻璃32的周邊的支撐部件30，而第二組支撐元件422支撐玻璃32的中心部分?；蛘撸尾考神詈系绞抑黧w402的其它部分，如其它側壁、底部或其組合。另外，一些或所有支撐部件30都設置在側壁之間延伸的支撐元件416上，而一些或所有支撐部件50可設置在只耦合到一部分室主體(即耦合懸掛)上的支撐元件416上。此外，一個或多個支撐部件30可構成為與支撐部件50相同或相近。其它負載鎖定腔室可構成為利用包括控制多個襯底的那些支撐部件的支撐部件50，其中多個襯底疊置在設置在圖4所示的支撐元件416上或與其平行的平面中的第二組支撐元件上的腔室400內。
前面已經關于本發(fā)明的實施例進行了說明，在不脫離本發(fā)明的基本范圍的情況下也可以實施本發(fā)明的其它和進一步的實施方式，并且本發(fā)明的范圍由所附權利要求書確定。
權利要求
1.一種襯底支撐部件，包括具有基部和上部的主體；和適于接觸和支撐其上襯底的上部的表面，其中該表面適于使摩擦最小和減少與支撐在其上的襯底的化學反應。
2.一種用于支撐玻璃襯底的設備，包括具有第一側的支撐元件；和設置在支撐元件上的多個支撐部件，至少一個支撐部件包括耦合到支撐元件的第一側的基底結構部件；和適于以與支撐元件的第一側隔開的方式支撐玻璃襯底的圓形頂部。
3.根據權利要求2的設備，其中圓形頂部具有4微英寸的粗糙度或更高的平滑度。
4.根據權利要求2的設備，其中圓形頂部還包括半球形、錐形、橢圓形或拋物線形的端部。
5.根據權利要求2的設備，還包括耦合到支撐元件的第一側的多個安裝桿，每個安裝桿耦合到相應的支撐部件。
6.根據權利要求5的設備，其中基底結構部件是中空的并接收安裝桿的至少一部分。
7.根據權利要求2的設備，其中多個支撐部件，還包括沿著支撐元件的至少一部分周邊設置的第一組支撐部件；和至少第二組支撐部件，它們包括設置在第一組內部的至少一個支撐部件。
8.根據權利要求2的設備，其中至少一個支撐部件由非金屬材料構成。
9.根據權利要求8的設備，其中至少一個支撐部件由石英或藍寶石構成。
10.根據權利要求2的設備，其中至少一個支撐部件由不銹鋼或鎳合金構成。
11.根據權利要求2的設備，其中至少一個支撐部件還包括涂層。
12.根據權利要求11的設備，其中涂層是氮化層。
13.根據權利要求12的設備，其中圓形頂部具有4微英寸的表面粗糙度或更高的平滑度。
14.根據權利要求11的設備，其中涂層具有4微英寸的表面粗糙度或更高的平滑度。
15.根據權利要求2的設備，其中至少一個支撐部件是擱板。
16.一種用于支撐玻璃襯底的設備，包括具有第一側的擱板；設置在擱板上的多個支撐部件，至少一個支撐部件包括耦合到擱板的第一側的基底結構部件；適于以與擱板第一側隔開的方式支撐玻璃襯底的頂部；和設置在頂部的至少尖端上的涂層。
17.根據權利要求16的設備，其中頂部具有4微英寸的表面粗糙度或更高的平滑度。
18.根據權利要求16的設備，其中頂部還包括半球形、錐形、橢圓形或拋物線形的端部。
19.根據權利要求16的設備，其中頂部還包括平的中心部分。
20.根據權利要求16的設備，還包括耦合到擱板的第一側的多個安裝桿，每個安裝桿耦合到相應的支撐部件。
21.根據權利要求20的設備，其中基底結構部件是中空的并接收安裝桿的至少一部分。
22.根據權利要求16的設備，其中多個支撐部件還包括沿著擱板的至少一部分周邊設置的第一組支撐部件；和至少第二組支撐部件，包括設置在第一組內部的至少一個支撐部件。
23.根據權利要求16的設備，其中至少一個支撐部件由非金屬材料構成。
24.根據權利要求16的設備，其中至少一個支撐部件由石英或藍寶石構成。
25.根據權利要求16的設備，其中至少一個支撐部件由不銹鋼或鎳合金構成。
26.根據權利要求16的設備，其中涂層是氮化層。
27.根據權利要求16的設備，其中涂層具有4微英寸的表面粗糙度或更高的平滑度。
28.一種用于支撐玻璃襯底的設備，包括腔室；以與腔室隔開的方式設置的多個擱板，每個擱板具有第一側和設置在其上的多個支撐部件，至少一個支撐部件包括耦合到擱板的第一側的基底結構部件；和適于以與擱板第一側隔開的方式支撐玻璃襯底的圓形頂部。
29.根據權利要求28的設備，其中腔室還包括具有電阻加熱或用于流過熱傳送流體的導管的至少一個側壁。
30.根據權利要求28的設備，其中圓形頂部具有4微英寸的表面粗糙度或更高的平滑度。
31.根據權利要求28的設備，其中圓形頂部還包括半球形、錐形、橢圓形或拋物線形的端部。
32.根據權利要求28的設備，還包括耦合到擱板的第一側的多個安裝桿，每個安裝桿耦合到相應的支撐部件上。
33.根據權利要求32的設備，其中基底結構部件是中空的和接收安裝桿的至少一部分。
34.根據權利要求28的設備，其中多個支撐部件還包括沿著擱板的至少一部分周邊設置的第一組支撐部件；和至少第二組支撐部件，包括設置在第一組內部的至少一個支撐部件。
35.根據權利要求28的設備，其中至少一個支撐部件由非金屬材料構成。
36.根據權利要求28的設備，其中至少一個支撐部件由石英或藍寶石構成。
37.根據權利要求28的設備，其中至少一個支撐部件由不銹鋼或鎳合金構成。
38.根據權利要求28的設備，其中至少一個支撐部件還包括涂層。
39.根據權利要求38的設備，其中涂層是氮化層。
40.根據權利要求38的設備，其中圓形頂部具有4微英寸的表面粗糙度或更高的平滑度。
41.根據權利要求38的設備，其中涂層具有4微英寸的表面粗糙度或更高的平滑度。
42.一種用于支撐玻璃襯底的設備，包括具有至少一個側壁的腔室主體；耦合到側壁上的多個支撐元件；選擇地密封設置在腔室主體中的第一玻璃傳送端口的第一槽形閥；和選擇地密封設置在腔室主體中的第二玻璃傳送端口的第二槽形閥；設置在支撐元件上的多個支撐部件，其中至少一個支撐部件包括耦合到支撐元件上的基底結構部件；和適于以與支撐元件隔開的方式支撐玻璃襯底的圓形頂部。
全文摘要
本發(fā)明提供一種用于支撐玻璃襯底的設備。在一個實施例中，提供基片支撐部件(50)，它具有基底結構部件(52)和上頂部(54)，上頂部(54)上具有表面，該表面適于使襯底支架和在其上支撐的玻璃襯底之間的摩擦和/或化學反應最小。襯底支架可用于各種處理腔室中，如負載鎖定腔室和具有熱處理的腔室。
文檔編號C03C17/00GK1518757SQ02812495
公開日2004年8月4日 申請日期2002年5月2日 優(yōu)先權日2001年5月22日
發(fā)明者W·A·巴格利, E·M·拉米雷, S·C·沃爾加斯特, W A 巴格利, 拉米雷, 沃爾加斯特 申請人:應用材料有限公司