專利名稱：一種流體介質(zhì)均勻分布的裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種流體介質(zhì)均布的裝置，屬于化工領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
紙漿在過濾洗滌、濃縮的過程中目的是用最少量的洗滌液達到最大量的脫除存在 漿中的蒸煮液(包括木素和蒸煮用化學藥品)中未溶的固形物。在蒸煮及洗滌工段后，殘存 在紙漿中的不溶固形物，會對后序工段如漂白和抄紙造成不利影響。同時紙漿中黑液與夾 雜的大量固形物的流失將意味著堿回收系統(tǒng)熱能回收率和化學品回收率的降低。如果無限 制的使用洗滌水，理論上可以把漿洗滌得很干凈，然而對一個工廠來說，是不夠經(jīng)濟的。為 了減少洗滌液的使用量，需要使?jié){料在進入脫水載體時呈均勻分布和平穩(wěn)流動，目前，所使 用的使?jié){料均勻分布和平穩(wěn)流動的裝置存在很多問題，如用于漿料洗滌和濃縮的雙輥擠漿 機，采用一端進漿的布漿裝置，在運行較長一段時間后，遠離進漿端的分漿口由于壓力較小 會出現(xiàn)堵塞現(xiàn)象，從而使進入脫水載體的漿料分布不均勻，由于漿料分布不均勻，在后序洗 滌過程中將會增加洗滌液的用量，增加了生產(chǎn)成本。

實用新型內(nèi)容本實用新型要解決的技術(shù)問題是針對以上問題，提供能夠使?jié){料在進入脫水載體
時呈均勻分布和平穩(wěn)流動，降低生產(chǎn)成本的一種流體介質(zhì)均勻分布的裝置。 為解決上述問題，本實用新型采用以下技術(shù)方案 —種流體介質(zhì)均勻分布的裝置，該裝置包括進液單元和增速紊流單元及橫向分布
單元，所述橫向分布單元的出口位置上連接有延伸到脫水載體的入口的流道。 作為進一步的改進 該裝置包括縱向設(shè)置的進液單元和增速紊流單元及橫向設(shè)置的橫向分布單元，所
述橫向分布單元的出口位置上連接有延伸到脫水載體的入口的流道。
作為進一步的改進 所述進液單元包括一個進料管，所述增速紊流單元包括紊流形成箱，紊流形成箱 與進料管之間設(shè)有一個增速縮口 ，該增速縮口和紊流形成箱保證了漿料流體形成紊流而不 會絮集。 所述紊流形成箱為扁平漏斗形狀。 所述紊流形成箱與進料管之間設(shè)有擋板，所述增速縮口設(shè)置在擋板上，增速縮口
的直徑小于進料管直徑，以保證漿料壓力和流速在此位置得到的瞬間增大。 所述橫向分布單元包括一個與延伸到脫水載體的入口的流道相連通的出料通道，
所述紊流形成箱的上部設(shè)有截面為矩形的出口 ，該出口與出料通道連通。 作為進一步的改進 所述出口與出料通道的連接處圓滑過渡。 作為進一步的改進
3[0016] 所述流道與脫水載體的入口連接處圓滑過渡。 作為進一步的改進 所述連接處圓滑過渡的曲率半徑為紊流形成箱內(nèi)徑的1/2 1。
由于采用了上述的技術(shù)方案，本實用新型的優(yōu)點是由于在進料管與紊流形成箱
之間設(shè)置有擋板，擋板上設(shè)置有增速縮口 ，增速縮口的直徑小于進料管的直徑，所以漿料在
通過設(shè)置在擋板上的增速縮口時，流速和壓力突然瞬間增大，漿料呈發(fā)散狀流入紊流形成
箱，在漿料進入紊流形成箱后，將會在紊流形成箱內(nèi)形成紊流，從而有效的防止了漿料的絮
集，使?jié){料均勻分布，在經(jīng)過出料通道時，漿料呈現(xiàn)均勻分布和平穩(wěn)流動，由于漿料呈現(xiàn)均
勻分布和平穩(wěn)流動，漿料會洗滌的較干凈均勻，可減少后序洗滌工藝過程中洗滌液的用量，
從而降低了生產(chǎn)成本。 該裝置可單個使用亦可多個并聯(lián)使用，多個并聯(lián)使用時，漿料在進入流道與脫水 載體的入口連接處前各工作單元是獨立而互不干涉，進入連接處時各工作單元聯(lián)通為一 體。
以下結(jié)合附圖和具體實施方法對本實用新型作進一步的說明。
附圖1為本實用新型實施例中流體介質(zhì)均布裝置的結(jié)構(gòu)示意圖； 附圖2為附圖1中的A-A向剖視圖； 附圖3為附圖1的俯視圖。
圖中1-進料管；2_擋板；3_紊流形成箱；4_出料通道；5_流道；6_脫水載體；7、 8_連接處；9_出口 ； 10-增速縮口 。 具體實施方法 實施例一種流體介質(zhì)均勻分布的裝置，如附圖1、附圖2所示，該裝置包括進液單 元和增速紊流單元及橫向分布單元，所述橫向分布單元的出口位置上連接有延伸到脫水載 體6的入口的流道5，所述進液單元包括一個控制流量和壓力的進料管l，所述增速紊流單 元包括扁平漏斗形狀的紊流形成箱3和設(shè)置在紊流形成箱3與進料管1之間的擋板2，在擋 板2上開有一個口徑小于進料管1直徑的增速縮口 10，以保證漿料壓力和流速在此位置得 到的瞬間增大，所述橫向分布單元包括一個與延伸到脫水載體6的入口的流道5相連通的 出料通道4，所述流道5與脫水載體6的入口連接處7圓滑過渡，圓滑過渡的曲率半徑為紊 流形成箱3內(nèi)徑的1/2 l，如圖3所示，所述紊流形成箱3的上部設(shè)有截面為矩形的出口 9，該出口 9與出料通道4連通，所述出口 9與出料通道4的連接處8圓滑過渡，圓滑過渡的 曲率半徑為紊流形成箱3內(nèi)徑的1/2 1，所述出料通道4為矩形。 在生產(chǎn)過程中，漿料在通過設(shè)置在進料管1與紊流形成箱3之間的擋板2上的增 速縮口 10時，由于增速縮口 10的直徑小于進料管1的直徑，所以槳料的流速和壓力突然瞬 間增大，漿料呈發(fā)散狀流入紊流形成箱3，在漿料進入紊流形成箱3后，將會在紊流形成箱3 內(nèi)形成紊流，從而有效的防止了漿料的絮集，漿料再經(jīng)過出料通道4和流道5，使?jié){料在進 入脫水載體前呈均勻分布和平穩(wěn)流動。 上述實施例中，本裝置可以根據(jù)生產(chǎn)需要多個并聯(lián)使用，多個并聯(lián)使用時，漿料在 進入流道5與脫水載體6的入口連接處7前各工作單元是獨立而互不干涉，漿料在各個裝置內(nèi)分別經(jīng)過紊流形成箱和出料通道后，進入連接處7時各工作單元聯(lián)通為一體，然后進 入脫水載體。
權(quán)利要求一種流體介質(zhì)均勻分布的裝置，其特征在于該裝置包括縱向設(shè)置的進液單元和增速紊流單元及橫向設(shè)置的橫向分布單元，所述橫向分布單元的出口位置上連接有延伸到脫水載體(6)的入口的流道(5)。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種流體介質(zhì)均勻分布的裝置，其特征在于所述進液單元包括一個進料管(1)，所述增速紊流單元包括紊流形成箱(3)，紊流形成箱(3)與進料管(1) 之間設(shè)有一個增速縮口 (10)。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種流體介質(zhì)均勻分布的裝置，其特征在于所述紊流形成箱(3)為扁平漏斗形狀。
4. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種流體介質(zhì)均勻分布的裝置，其特征在于所述紊流形成箱(3)與進料管(1)之間設(shè)有擋板(2)，所述增速縮口 (10)設(shè)置在擋板(2)上，增速縮口 (10)的直徑小于進料管(1)直徑。
5. 根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的一種流體介質(zhì)均勻分布的裝置，其特征在于所述橫向 分布單元包括一個與延伸到脫水載體(6)的入口的流道(5)相連通的出料通道(4)，所述紊 流形成箱(3)的上部設(shè)有截面為矩形的出口 (9)，該出口 (9)與出料通道(4)連通。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種流體介質(zhì)均勻分布的裝置，其特征在于所述出口 (9) 與出料通道(4)的連接處(8)圓滑過渡。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種流體介質(zhì)均勻分布的裝置，其特征在于所述流道(5) 與脫水載體(6)的入口連接處(7)圓滑過渡。
8. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種流體介質(zhì)均勻分布的裝置，其特征在于所述連接處(8) 圓滑過渡的曲率半徑為紊流形成箱(3)內(nèi)徑的1/2 1。
9. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種流體介質(zhì)均勻分布的裝置，其特征在于所述連接處(7) 圓滑過渡的曲率半徑為紊流形成箱(3)內(nèi)徑的1/2 1。
專利摘要本實用新型公開了一種流體介質(zhì)均勻分布的裝置，該裝置包括進液單元和增速紊流單元及橫向分布單元，所述橫向分布單元的出口位置上連接有延伸到脫水載體的入口的流道，本實用新型能夠有效的防止了漿料的絮集，使?jié){料均勻分布，在經(jīng)過出料通道時，漿料呈現(xiàn)均勻分布和平穩(wěn)流動，由于漿料呈現(xiàn)均勻分布和平穩(wěn)流動，漿料會洗滌的較干凈均勻，可減少后序洗滌工藝過程中洗滌液的用量，從而降低了生產(chǎn)成本。
文檔編號D21C9/02GK201459501SQ20092001982
公開日2010年5月12日 申請日期2009年3月27日 優(yōu)先權(quán)日2009年3月27日
發(fā)明者于佃梅, 曹欽, 王永金, 王玉成 申請人:汶瑞機械(山東)有限公司