專利名稱：一種磁力定位轉(zhuǎn)盤的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型屬于轉(zhuǎn)盤技術(shù)領(lǐng)域，特別地涉及ー種磁力定位轉(zhuǎn)盤。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有的轉(zhuǎn)盤結(jié)構(gòu)中，多數(shù)不存在定位結(jié)構(gòu)，轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動(dòng)后停止是隨機(jī)的。然而在有些應(yīng)用場(chǎng)合，需要所述的轉(zhuǎn)盤結(jié)構(gòu)在停止時(shí)固定在某個(gè)或某幾個(gè)位置上，如在塔式迷宮中的應(yīng)用，為了實(shí)現(xiàn)固定在內(nèi)圈上的迷宮與固定在外圈上的迷宮出入口相對(duì)應(yīng)，則需在出入口對(duì)應(yīng)時(shí)在轉(zhuǎn)盤結(jié)構(gòu)上增加定位結(jié)構(gòu)。又對(duì)于轉(zhuǎn)盤在ー圈中需要有不同的固定點(diǎn)，定位結(jié)構(gòu)就需要實(shí)現(xiàn)在不同點(diǎn)上的定位功能
實(shí)用新型內(nèi)容
為解決上述問題，本實(shí)用新型的目的在于提供ー種磁力定位轉(zhuǎn)盤，用于通過在轉(zhuǎn)盤的內(nèi)圈和外圈上分別設(shè)置永磁體，使得轉(zhuǎn)盤在內(nèi)圈上的永磁體和外圈上的永磁體正對(duì)時(shí)相吸，提供ー個(gè)定位力，從而實(shí)現(xiàn)定位的效果。為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型的技術(shù)方案為ー種磁力定位轉(zhuǎn)盤，包括內(nèi)圈和外圈，所述內(nèi)圈和外圈可以相互轉(zhuǎn)動(dòng)，進(jìn)一歩包括多個(gè)永磁塊，所述多個(gè)永磁塊的設(shè)置方式為一個(gè)永磁塊設(shè)置在所述內(nèi)圈上，其余的所述永磁塊設(shè)置在所述外圈上或，一個(gè)永磁塊設(shè)置在所述外圈上，其余的所述永磁塊設(shè)置在所述內(nèi)圈上，所述內(nèi)圈上設(shè)置的所述永磁塊和所述外圈上設(shè)置的所述永磁塊在接近時(shí)相互吸引。與現(xiàn)有技術(shù)轉(zhuǎn)盤無定位結(jié)構(gòu)相比，本實(shí)用新型通過在轉(zhuǎn)盤的內(nèi)圈和外圈上分別設(shè)置永磁體，使得轉(zhuǎn)盤在內(nèi)圈上的永磁體和外圈上的永磁體正對(duì)時(shí)相吸，提供ー個(gè)定位力，從而實(shí)現(xiàn)定位的效果，結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)簡(jiǎn)単，定位效果好。

圖I為本實(shí)用新型實(shí)施例的磁力定位轉(zhuǎn)盤結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
為了使本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，
以下結(jié)合附圖及實(shí)施例，對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行進(jìn)一歩詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋本實(shí)用新型，并不用于限定本實(shí)用新型。相反，本實(shí)用新型涵蓋任何由權(quán)利要求定義的在本實(shí)用新型的精髄和范圍上做的替代、修改、等效方法以及方案。進(jìn)ー步，為了使公眾對(duì)本實(shí)用新型有更好的了解，在下文對(duì)本實(shí)用新型的細(xì)節(jié)描述中，詳盡描述了ー些特定的細(xì)節(jié)部分。對(duì)本領(lǐng)域技術(shù)人員來說沒有這些細(xì)節(jié)部分的描述也可以完全理解本實(shí)用新型。[0013]參見圖1，所示為本實(shí)用新型實(shí)施例磁力定位轉(zhuǎn)盤的結(jié)構(gòu)示意圖，包括內(nèi)圈I和外圈2，內(nèi)圈I和外圈2同心圓設(shè)置，內(nèi)圈I和外圈2可以相互轉(zhuǎn)動(dòng)，進(jìn)一歩包括4個(gè)永磁塊，其中第一永磁塊101設(shè)置在內(nèi)圈I上，第二永磁塊201,第三永磁塊202和第四永磁塊203設(shè)置在外圈2上，轉(zhuǎn)盤在轉(zhuǎn)動(dòng)過程中，當(dāng)內(nèi)圈I上的第一永磁塊101與外圈上的第二永磁塊201，第三永磁塊202或第四永磁塊203接近時(shí)，內(nèi)圈上的永磁塊和外圈上的永磁塊相互吸弓丨，給轉(zhuǎn)盤提供了ー個(gè)定位力，實(shí)現(xiàn)轉(zhuǎn)盤的定位功能。此實(shí)施例中在外圈上設(shè)置了 3個(gè)永磁塊，同理，也可以在外圈上設(shè)置其他數(shù)量的至少ー個(gè)永磁塊。本領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)人員可以理解的是，也可以在內(nèi)圈上設(shè)置至少ー個(gè)永磁塊，在外圈上設(shè)置ー個(gè)永磁塊，給轉(zhuǎn)盤提供定位力，實(shí)現(xiàn)轉(zhuǎn)盤的定位功能，具體的在此不再贅述。以上所述僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已，并不用以限制本實(shí)用新型，凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)?！?br> 權(quán)利要求1 ー種磁力定位轉(zhuǎn)盤，包括內(nèi)圈和外圈，所述內(nèi)圈和外圈可以相互轉(zhuǎn)動(dòng)，其特征在干，進(jìn)ー步包括多個(gè)永磁塊，所述多個(gè)永磁塊的設(shè)置方式為 一個(gè)永磁塊設(shè)置在所述內(nèi)圈上，其余的所述永磁塊設(shè)置在所述外圈上或， 一個(gè)永磁塊設(shè)置在所述外圈上，其余的所述永磁塊設(shè)置在所述內(nèi)圈上， 所述內(nèi)圈上設(shè)置的所述永磁塊和所述外圈上設(shè)置的所述永磁塊在接近時(shí)相互吸引。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種磁力定位轉(zhuǎn)盤。本實(shí)用新型實(shí)施例的磁力定位轉(zhuǎn)盤，包括內(nèi)圈和外圈，內(nèi)圈和外圈可以相互轉(zhuǎn)動(dòng)，進(jìn)一步包括多個(gè)永磁塊，多個(gè)永磁塊的設(shè)置方式為一個(gè)永磁塊設(shè)置在內(nèi)圈上，其余的永磁塊設(shè)置在外圈上或，一個(gè)永磁塊設(shè)置在外圈上，其余的永磁塊設(shè)置在內(nèi)圈上，內(nèi)圈上設(shè)置的永磁塊和外圈上設(shè)置的永磁塊在接近時(shí)相互吸引。本實(shí)用新型用于通過在轉(zhuǎn)盤的內(nèi)圈和外圈上分別設(shè)置永磁體，使得轉(zhuǎn)盤在內(nèi)圈上的永磁體和外圈上的永磁體正對(duì)時(shí)相吸，提供一個(gè)定位力，從而實(shí)現(xiàn)轉(zhuǎn)盤定位的效果。
文檔編號(hào)A63F7/04GK202620670SQ20122022353
公開日2012年12月26日 申請(qǐng)日期2012年5月17日 優(yōu)先權(quán)日2012年5月17日
發(fā)明者張其森, 朱璟, 陸家悅, 范達(dá), 劉子君, 陳清秀, 袁屹 申請(qǐng)人:浙江工業(yè)大學(xué)