一種自清洗研磨上盤結(jié)構(gòu)的制作方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種自清洗研磨上盤結(jié)構(gòu)，包括研磨上盤、通過支柱固定支撐在研磨上盤上的研磨砂液導(dǎo)槽、研磨上盤提拉支架以及通過研磨上盤提拉支架以提拉研磨上盤的提拉裝置，其中，所述提拉支架上固定設(shè)有進水管，所述進水管位于研磨上盤上方，所述進水管一端連接有進水裝置，所述進水管上設(shè)置有多個噴頭，所述噴頭上設(shè)置有多個噴嘴，包括中心噴嘴，內(nèi)側(cè)噴嘴及外側(cè)噴嘴，所述中心噴嘴，內(nèi)側(cè)噴嘴及外側(cè)噴嘴在噴頭右側(cè)自中心向外呈“十”字型均勻分布。本發(fā)實用新型在研磨加工結(jié)束后，打開進水裝置即可實現(xiàn)自動清洗，減少了人工清洗的繁瑣過程，大大提高了工作效率。
【專利說明】一種自清洗研磨上盤結(jié)構(gòu)
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及一種自清洗研磨上盤結(jié)構(gòu)，屬于晶片研磨加工領(lǐng)域。
【背景技術(shù)】
[0002]晶體塊出廠時，其表面都是比較粗糙的，需要通過研磨機進行進行研磨。用于晶片研磨加工的研磨機，在加工過程中，一般不單獨對研磨上盤進行清洗，而我們都知道，在研磨加工結(jié)束后，研磨上盤上會帶有研磨砂液以及少許其它雜質(zhì)，現(xiàn)在的對研磨上盤的清洗大多是采用人工清洗的方式進行，人工清洗費時費力效率低下。
實用新型內(nèi)容
[0003]本實用新型所要解決的技術(shù)問題是針對以上弊端提供一種自清洗研磨上盤結(jié)構(gòu)，在研磨加工結(jié)束后，打開進水裝置即可實現(xiàn)自動清洗，減少了人工清洗的繁瑣過程，大大提高了工作效率。
[0004]為解決上述技術(shù)問題，本實用新型的技術(shù)方案是:
[0005]一種自清洗研磨上盤結(jié)構(gòu)，包括研磨上盤、通過支柱固定支撐在研磨上盤上的研磨砂液導(dǎo)槽、研磨上盤提拉支架以及通過研磨上盤提拉支架以提拉研磨上盤的提拉裝置，其中，所述提拉支架上固定設(shè)有進水管，所述進水管位于研磨上盤上方，所述進水管一端連接有進水裝置，所述進水管上設(shè)置有多個噴頭，所述噴頭上設(shè)置有多個噴嘴，包括中心噴嘴，內(nèi)側(cè)噴嘴及外側(cè)噴嘴，所述中心噴嘴，內(nèi)側(cè)噴嘴及外側(cè)噴嘴在噴頭右側(cè)自中心向外呈“十”字型均勻分布，所述中心噴嘴與噴頭所成夾角α為90度，所述內(nèi)側(cè)噴嘴與噴頭所成夾角β為60度，所述外側(cè)噴嘴與噴頭所成夾角Y為30度。
[0006]一種自清洗研磨上盤結(jié)構(gòu)，其中，所述噴頭的數(shù)量為3個。
[0007]—種自清洗研磨上盤結(jié)構(gòu)，其中，所述噴嘴的數(shù)量為9個。
[0008]工作方法:在研磨加工結(jié)束后，打開進水裝置，水通過進水裝置流入進水管，進水管內(nèi)的水經(jīng)過噴頭時通過噴嘴噴出，根據(jù)不同角度的噴嘴噴至下方的研磨上盤進行清洗，直至清洗干凈關(guān)閉進水裝置即可。
[0009]有益效果；
[0010]1，在研磨加工結(jié)束后，打開進水裝置即可實現(xiàn)自動清洗，減少了人工清洗的繁瑣過程，大大提高了工作效率。
[0011]2，根據(jù)不同角度的噴嘴對下方的研磨上盤進行噴灑，實現(xiàn)多角度清洗，大大提高清洗效果。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0012]圖1為本實用新型的示意圖。
[0013]圖2為本實用新型的噴頭示意圖。
[0014]圖3為本實用新型的噴嘴分布示意圖。【具體實施方式】
[0015]下面結(jié)合附圖對本實用新型作進一步說明。
實施例
[0016]如圖所示，一種自清洗研磨上盤結(jié)構(gòu)，包括研磨上盤1、通過支柱2固定支撐在研磨上盤I上的研磨砂液導(dǎo)槽3、研磨上盤提拉支架4以及通過研磨上盤提拉支架以提拉研磨上盤的提拉裝置5，其中，所述提拉支架4上固定設(shè)有進水管6，所述進水管6位于研磨上盤I上方，所述進水管6 —端連接有進水裝置7，所述進水管6上設(shè)置有多個噴頭8，所述噴頭8上設(shè)置有多個噴嘴9，包括中心噴嘴91，內(nèi)側(cè)噴嘴91及外側(cè)噴嘴93，所述中心噴嘴91，內(nèi)側(cè)噴嘴92及外側(cè)噴嘴93在噴頭8右側(cè)自中心向外呈“十”字型均勻分布，所述中心噴嘴91與噴頭8所成夾角α為90度，所述內(nèi)側(cè)噴嘴92與噴頭8所成夾角β為60度，所述外側(cè)噴嘴93與噴頭8所成夾角Y為30度。所述噴頭8的數(shù)量為3個。所述噴嘴9的數(shù)量為9個。
[0017]工作方法:在研磨加工結(jié)束后，打開進水裝置7，水通過進水裝置7流入進水管6，進水管6內(nèi)的水經(jīng)過噴頭8時通過噴嘴9噴出，根據(jù)不同角度的噴嘴9噴至下方的研磨上盤I進行清洗，直至清洗干凈關(guān)閉進水裝置7即可。
[0018]有益效果；在研磨加工結(jié)束后，打開進水裝置即可實現(xiàn)自動清洗，減少了人工清洗的繁瑣過程，大大提高了工作效率。根據(jù)不同角度的噴嘴對下方的研磨上盤進行噴灑，實現(xiàn)多角度清洗，大大提高清洗效果。
[0019]以上所述，僅為本實用新型較佳的【具體實施方式】，但本實用新型的保護范圍并不局限于此，任何熟悉本【技術(shù)領(lǐng)域】的技術(shù)人員在本實用新型揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到的變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本實用新型的保護范圍內(nèi)。因此，本實用新型的保護范圍應(yīng)該以權(quán)利要求書的保護范圍為準。
【權(quán)利要求】
1.一種自清洗研磨上盤結(jié)構(gòu)，包括研磨上盤、通過支柱固定支撐在研磨上盤上的研磨砂液導(dǎo)槽、研磨上盤提拉支架以及通過研磨上盤提拉支架以提拉研磨上盤的提拉裝置，其特征在于，所述提拉支架上固定設(shè)有進水管，所述進水管位于研磨上盤上方，所述進水管一端連接有進水裝置，所述進水管上設(shè)置有多個噴頭，所述噴頭上設(shè)置有多個噴嘴，包括中心噴嘴，內(nèi)側(cè)噴嘴及外側(cè)噴嘴，所述中心噴嘴，內(nèi)側(cè)噴嘴及外側(cè)噴嘴在噴頭右側(cè)自中心向外呈“十”字型均勻分布，所述中心噴嘴與噴頭所成夾角α為90度，所述內(nèi)側(cè)噴嘴與噴頭所成夾角β為60度，所述外側(cè)噴嘴與噴頭所成夾角Y為30度。
2.如權(quán)利要求1所述的一種自清洗研磨上盤結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述噴頭的數(shù)量為3個。
3.如權(quán)利要求1所述的一種自清洗研磨上盤結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述噴嘴的數(shù)量為9個。
【文檔編號】B08B3/02GK203695496SQ201320886129
【公開日】2014年7月9日 申請日期:2013年12月31日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月31日
【發(fā)明者】聶金根 申請人:鎮(zhèn)江市港南電子有限公司