專利名稱：用于吹掃硅片表面灰塵的裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及硅片印刷前粉塵清理用具技術(shù)領(lǐng)域，具體是一種用于吹掃硅片表面灰塵的裝置。
背景技術(shù)：
硅片經(jīng)過烘箱后用行走臂運(yùn)輸，因表面會有些粉塵附著硅片上在印刷時表面粉塵粘附在網(wǎng)版上，使網(wǎng)版網(wǎng)孔堵塞圖形無法完全印上。因此在印刷機(jī)印刷前加裝一個除塵器，來去除硅片表面粉塵。目前市場是還沒有能夠有效去除硅片表面有機(jī)物或粉塵的清掃裝置。

實用新型內(nèi)容本實用新型針對現(xiàn)有技術(shù)中存在的上述不足，提供了一種用于吹掃硅片表面灰塵的裝置。本實用新型是通過以下技術(shù)方案實現(xiàn)的。一種用于吹掃硅片表面灰塵的裝置，包括空心銅管，所述空心銅管的兩端分別安裝有直通，兩個直通分別連接氣管，兩 根氣管的自由端端部共同接入一個三通，所述三通接入壓縮空氣輸入管，所述壓縮空氣輸入管靠近三通處設(shè)有一個節(jié)流閥；所述空心銅管上設(shè)有若干出氣孔。優(yōu)選地，所述出氣孔的數(shù)量為多個，多個出氣孔排列為兩排，相鄰出氣孔之間的距離為10mnin優(yōu)選地，所述出氣孔呈低幅度鋸齒樣式結(jié)構(gòu)。優(yōu)選地，所述直通為Θ8轉(zhuǎn)Θ 6直通；所述氣管為Θ 6氣管,所述三通為Θ6三通，所述節(jié)流閥為Θ 6節(jié)流閥。將本實用新型提供的用于吹掃硅片表面灰塵的裝置，固定在印刷機(jī)上，從而實現(xiàn)硅片的被印刷面得到風(fēng)刀的清掃，實現(xiàn)除粉塵效果。本實用新型能夠在印刷前對即要印刷的硅片進(jìn)行表面粉塵的清掃，達(dá)到表面無異物功能，減少網(wǎng)版擦拭次數(shù)降低成本，提高硅片的電性能。

通過閱讀參照以下附圖對非限制性實施例所作的詳細(xì)描述，本實用新型的其它特征、目的和優(yōu)點將會變得更明顯:圖1為本實用新型整體結(jié)構(gòu)示意圖；圖中:1為空心銅管，2為直通，3為氣管，4為三通，5為壓縮空氣輸入管，6為節(jié)流閥，7為出氣孔。
具體實施方式
[0015]下面結(jié)合具體實施例對本實用新型進(jìn)行詳細(xì)說明。以下實施例將有助于本領(lǐng)域的技術(shù)人員進(jìn)一步理解本實用新型，但不以任何形式限制本實用新型。應(yīng)當(dāng)指出的是，對本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本實用新型構(gòu)思的前提下，還可以做出若干變形和改進(jìn)。這些都屬于本實用新型的保護(hù)范圍。本實施例提供了一種用于吹掃硅片表面灰塵的裝置包括空心銅管，所述空心銅管的兩端分別安裝有直通，兩個直通分別連接氣管，兩根氣管的自由端端部共同接入一個三通，所述三通接入壓縮空氣輸入管，所述壓縮空氣輸入管靠近三通處設(shè)有一個節(jié)流閥；所述空心銅管上設(shè)有若干出氣孔。進(jìn)一步地，所述若干出氣孔排列為兩排，相鄰出氣孔之間的距離為10mm。進(jìn)一步地，所述若干出氣孔呈低幅度鋸齒樣式結(jié)構(gòu)。進(jìn)一步地，所述直通為Θ8轉(zhuǎn)Θ 6直通；所述氣管為Θ 6氣管，所述三通為Θ6三通，所述節(jié)流閥為Θ 6節(jié)流閥。將本實施例提供的用于吹掃硅片表面灰塵的裝置，固定在印刷機(jī)上，從而實現(xiàn)硅片的被印刷面得到風(fēng)刀的清掃，實現(xiàn)除粉塵效果。本實施例能夠在印刷前對即要印刷的硅片進(jìn)行表面粉塵的清掃，達(dá)到表面無異物功能，減少網(wǎng)版擦拭次數(shù)降低成本，提高硅片的電性能。以上對本實用新型的具體實施例進(jìn)行了描述。需要理解的是，本實用新型并不局限于上述特定實施方式，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以在權(quán)利要求的范圍內(nèi)做出各種變形或修改，這并不影響本實用新型·的實質(zhì)內(nèi)容。
權(quán)利要求1.一種用于吹掃硅片表面灰塵的裝置，其特征在于，包括空心銅管，所述空心銅管的兩端分別安裝有直通，兩個直通分別連接氣管，兩根氣管的自由端端部共同接入一個三通，所述三通接入壓縮空氣輸入管，所述壓縮空氣輸入管靠近三通處設(shè)有一個節(jié)流閥；所述空心銅管上設(shè)有若干出氣孔。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于吹掃硅片表面灰塵的裝置，其特征在于，所述出氣孔的數(shù)量為多個，多個出氣孔排列為兩排，相鄰出氣孔之間的距離為10mm。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于吹掃硅片表面灰塵的裝置，其特征在于，所述出氣孔呈低幅度鋸齒樣式結(jié)構(gòu)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項所述的用于吹掃硅片表面灰塵的裝置，其特征在于，所述直通為Θ8轉(zhuǎn)Θ 6直通；所述氣管為Θ 6氣管，所述三通為Θ 6三通，所述節(jié)流閥為Θ6節(jié) 流閥。
專利摘要本實用新型公開了一種用于吹掃硅片表面灰塵的裝置，包括空心銅管，所述空心銅管的兩端分別安裝有直通，兩個直通分別連接氣管，兩根氣管的自由端端部共同接入一個三通，所述三通接入壓縮空氣輸入管，所述壓縮空氣輸入管靠近三通處設(shè)有一個節(jié)流閥；所述空心銅管上設(shè)有若干出氣孔。本實用新型能夠在印刷前對即要印刷的硅片進(jìn)行表面粉塵的清掃，達(dá)到表面無異物功能，減少網(wǎng)版擦拭次數(shù)降低成本，提高硅片的電性能。
文檔編號B08B5/02GK203155625SQ20132008855
公開日2013年8月28日 申請日期2013年2月27日 優(yōu)先權(quán)日2013年2月27日
發(fā)明者蔡振華, 楊金軍 申請人:上海艾力克新能源有限公司