一種水基硅片清洗劑及其制備方法
【專利摘要】一種水基硅片清洗劑，由下列重量份的原料制成：硼酸鈉2-3、焦磷酸鉀1-2、椰子油烷基醇酰胺磷酸酯3-4、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸鈉4-5、檸檬酸2-3、乙醇30-40、助劑4-5、去離子水100-120。本發(fā)明的清洗劑對有機(jī)物、金屬離子、顆粒等有快速的清除能力，對硅片無腐蝕；損耗更少，降低成本,節(jié)約時(shí)間、從而大大的減少硅片廢品率,以及更快的制造出數(shù)量更多的,質(zhì)量更好的硅片。本發(fā)明的助劑能夠在硅片表面形成保護(hù)膜，隔絕空氣，防止大氣中水及其他分子腐蝕硅片，抗氧化，方便下一步制作工藝進(jìn)行。
【專利說明】一種水基硅片清洗劑及其制備方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及清洗劑領(lǐng)域，尤其涉及一種水基硅片清洗劑及其制備方法。
【背景技術(shù)】
[0002]硅片清洗劑廣泛應(yīng)用于光伏，電子等行業(yè)硅片清洗；由于硅片在運(yùn)輸過程中會(huì)有所污染，表面潔凈度不是很高，對即將進(jìn)行的腐蝕與刻蝕產(chǎn)生很大的影響，所以首先要對硅片表面進(jìn)行一系列的清洗操作。清洗的一般思路首先是去除表面的有機(jī)沾污，然后溶解氧化膜，因?yàn)檠趸瘜邮恰罢次巯葸M(jìn)”，會(huì)引起外延缺陷；再去除顆粒、金屬等，同時(shí)使硅片的表面鈍化。
[0003]目前多數(shù)娃片清洗劑米用RAC清洗中的一號液和三號液,但是一號液顯堿性,可能會(huì)造成硅表面粗糙，要嚴(yán)格控制溫度、濃度和時(shí)間；三號液顯酸性，有強(qiáng)腐蝕性，對人體健康也不利，生產(chǎn)成本高，有刺激性氣味，污染環(huán)境，因此需要進(jìn)一步改進(jìn)配方，以達(dá)到清潔徹底、無污染、腐蝕小、對人體健康、電路安全、降低成本的目的。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明的目的在于提供一種水基硅片清洗劑及其制備方法，該清洗劑具有清潔徹底、清潔速度快的優(yōu)點(diǎn)。
[0005]本發(fā)明的技術(shù)方案如下:`
一種水基硅片清洗劑，其特征在于由下列重量份的原料制成:硼酸鈉2-3、焦磷酸鉀1-2、椰子油烷基醇酰胺磷酸酯3-4、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸鈉4-5、檸檬酸2-3、乙醇30-40、助劑4-5、去離子水100-120 ；
所述助劑由下列重量份的原料制成:硅烷偶聯(lián)劑KH-570 2-3、抗氧劑1035 1_2、植酸1-2、嗎啉3_4、甲基丙烯酸-2-羥基乙酯3_4、乙醇12-15 ;制備方法是將硅烷偶聯(lián)劑KH-570、植酸、乙醇混合，加熱至60-70°C，攪拌20-30分鐘后，再加入其它剩余成分，升溫至80-85°C，攪拌30-40分鐘，即得。
[0006]所述水基硅片清洗劑的制備方法，其特征在于包括以下步驟:將去離子水、硼酸鈉、焦磷酸鉀、椰子油烷基醇酰胺磷酸酯、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸鈉、檸檬酸、乙醇混合，在1000-1200轉(zhuǎn)/分?jǐn)嚢柘?，?-8°C /分的速率加熱到60_70°C，加入其他剩余成分，繼續(xù)攪拌15-20分鐘，即得。
[0007]本發(fā)明的有益效果
本發(fā)明的清洗劑對有機(jī)物、金屬離子、顆粒等有快速的清除能力，對硅片無腐蝕；損耗更少，降低成本，節(jié)約時(shí)間、從而大大的減少硅片廢品率，以及更快的制造出數(shù)量更多的，質(zhì)量更好的硅片。本發(fā)明的助劑能夠在硅片表面形成保護(hù)膜，隔絕空氣，防止大氣中水及其他分子腐蝕硅片，抗氧化，方便下一步制作工藝進(jìn)行。
【具體實(shí)施方式】[0008]一種水基硅片清洗劑，由下列重量份(公斤)的原料制成:硼酸鈉2.5、焦磷酸鉀2、椰子油烷基醇酰胺磷酸酯3.5、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸鈉5、檸檬酸3、乙醇36、助劑4.4、去離子水110 ；
所述助劑由下列重量份(公斤)的原料制成:硅烷偶聯(lián)劑KH-570 2.5、抗氧劑1035
1.5、植酸1.5、嗎啉3.5、甲基丙烯酸-2-羥基乙酯3.5、乙醇14 ;制備方法是將硅烷偶聯(lián)劑KH-570、植酸、乙醇混合，加熱至65°C，攪拌25分鐘后，再加入其它剩余成分，升溫至84°C，攪拌34分鐘，即得。
[0009]所述水基硅片清洗劑的制備方法，包括以下步驟:將去離子水、硼酸鈉、焦磷酸鉀、椰子油烷基醇酰胺磷酸酯、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸鈉、檸檬酸、乙醇混合，在1100轉(zhuǎn)/分?jǐn)嚢柘拢?V /分的速率加熱到65°C，加入其他剩余成分，繼續(xù)攪拌18分鐘，即得。
[0010]該水基硅片清洗劑用于清洗硅片，洗凈率為99.2%，對洗凈硅片表面不會(huì)殘留不溶物，不產(chǎn)生新污染，不 影響產(chǎn)品的質(zhì)量，洗凈后的硅片表面干凈，色澤一致，無花斑。
【權(quán)利要求】
1.一種水基硅片清洗劑，其特征在于由下列重量份的原料制成:硼酸鈉2-3、焦磷酸鉀1-2、椰子油烷基醇酰胺磷酸酯3-4、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸鈉4-5、檸檬酸2-3、乙醇30-40、助劑4-5、去離子水100-120 ； 所述助劑由下列重量份的原料制成:硅烷偶聯(lián)劑KH-570 2-3、抗氧劑1035 1_2、植酸1-2、嗎啉3_4、甲基丙烯酸-2-羥基乙酯3_4、乙醇12-15 ;制備方法是將硅烷偶聯(lián)劑KH-570、植酸、乙醇混合，加熱至60-70°C，攪拌20-30分鐘后，再加入其它剩余成分，升溫至80-85°C，攪拌30-40分鐘，即得。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述水基硅片清洗劑的制備方法，其特征在于包括以下步驟:將去離子水、硼酸鈉、焦磷酸鉀、椰子油烷基醇酰胺磷酸酯、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸鈉、檸檬酸、乙醇混合，在100 0-1200轉(zhuǎn)/分?jǐn)嚢柘?，?-8°C /分的速率加熱到60_70°C，加入其他剩余成分，繼續(xù)攪拌15-20分鐘，即得。
【文檔編號】C11D3/60GK103571644SQ201310528004
【公開日】2014年2月12日 申請日期:2013年10月31日 優(yōu)先權(quán)日:2013年10月31日
【發(fā)明者】郭萬東, 孟祥法, 董培才 申請人:合肥中南光電有限公司