專利名稱：霧化清洗裝置和方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體晶片工藝技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種用于半導(dǎo)體晶片清洗的霧化清洗裝置和方法。
背景技術(shù)：
半導(dǎo)體晶片主要為純硅襯底的硅片和帶有銅互連結(jié)構(gòu)的硅片。隨著集成電路的迅速發(fā)展，尤其是銅互連線的線寬進(jìn)一步減小，對(duì)半導(dǎo)體晶片的清洗技術(shù)要求越來越高。要得到高質(zhì)量的半導(dǎo)體器件，僅僅除去硅片表面的沾污已不再是最終的要求，在清洗過程中造成的表面缺陷、表面粗糙度等已成為同樣重要的參數(shù)。目前，由于清洗不佳引起的器件失效已超過集成電路制造總損失中的一半。要得到高質(zhì)量的半導(dǎo)體器件，硅片必須具有非常潔凈的表面。超潔凈表面是指不存在粒子、金屬、有機(jī)物及水分等污染物和自然氧化膜，具有原子級(jí)的平整度的表面，而傳統(tǒng)的清洗噴射技術(shù)采用噴射流或大尺寸液滴，對(duì)65納米及其以下工藝的硅片表面的圖形造成嚴(yán)重?fù)p傷，清洗效果明顯不佳，同時(shí)清洗液和去離子水的利用率低，造成了極度浪費(fèi)。為此超微液滴噴射技術(shù)的開發(fā)及研究已成為重點(diǎn)。目前形成超微液滴霧化噴射裝置主要采用機(jī)械霧化式、介質(zhì)霧化式、超聲霧化式和靜電霧化式，但是單純的霧化機(jī)制無法滿足對(duì)半導(dǎo)體清洗技術(shù)的需求。

發(fā)明內(nèi)容
(一)要解決的技術(shù)問題本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是提供一種結(jié)合氣動(dòng)霧化原理和兆聲波霧化原理的霧化清洗裝置和方法。(二)技術(shù)方案為達(dá)上述目的，本發(fā)明的霧化清洗裝置包括冷卻結(jié)構(gòu)、氣動(dòng)霧化結(jié)構(gòu)以及固定于所述氣動(dòng)霧化結(jié)構(gòu)之上諧振霧化結(jié)構(gòu)，所述冷卻結(jié)構(gòu)固定于所述諧振霧化結(jié)構(gòu)之上，所述諧振霧化結(jié)構(gòu)包括換能器和諧振器，所述諧振器上設(shè)有排液孔，所述氣動(dòng)霧化結(jié)構(gòu)上開有第二進(jìn)液孔、第二進(jìn)氣孔和霧化噴射口，所述排液孔與所述第二進(jìn)液孔相連，所述第二進(jìn)液孔與所述霧化噴射口連通，所述第二進(jìn)氣孔和所述霧化噴射口連通。優(yōu)選的，所述排液孔與所述第二進(jìn)液孔通過導(dǎo)管相連；所述冷卻結(jié)構(gòu)為上端封閉且下端開口的圓柱形殼體，冷卻結(jié)構(gòu)的側(cè)壁上設(shè)有第三進(jìn)氣孔和排氣孔，所述冷卻結(jié)構(gòu)的封閉端設(shè)有電纜接頭，所述電纜接頭與所述換能器相連。所述冷卻結(jié)構(gòu)的內(nèi)部從封閉端向下延伸出與所述冷卻結(jié)構(gòu)的側(cè)壁同心的第二環(huán)狀薄壁，所述第二環(huán)狀薄壁與所述冷卻結(jié)構(gòu)的側(cè)壁之間的空間為第二外環(huán)，所述第二環(huán)狀薄壁內(nèi)的空間為第二內(nèi)環(huán)，所述第三進(jìn)氣孔設(shè)置于冷卻結(jié)構(gòu)的封閉端且與所述第二內(nèi)環(huán)相連，所述排氣孔設(shè)置于所述冷卻結(jié)構(gòu)的側(cè)壁上且與所述第二外環(huán)相連，所述第二環(huán)狀薄壁下端均布有連通第二外環(huán)與第二內(nèi)環(huán)的第二通孔。所述換能器包括壓電晶體和耦合片，所述壓電晶體通過導(dǎo)電膠與耦合片連接，所述耦合片位于所述諧振器之上且將所述冷卻結(jié)構(gòu)的下端密封。所述耦合片由單一介質(zhì)或多介質(zhì)制成，厚度為1/4波長(zhǎng)的整數(shù)倍。所述諧振器為上端開口且下端封閉的圓筒結(jié)構(gòu)，其上端開口通過所述耦合片密封，所述諧振器的側(cè)壁上還設(shè)有第一進(jìn)氣孔、第一進(jìn)液孔。所述諧振器的內(nèi)部從封閉端向上延伸出與所述諧振器的側(cè)壁同心的第一環(huán)狀薄壁，所述第一環(huán)狀薄壁與所述諧振器的側(cè)壁之間的空間為第一外環(huán)，所述第一環(huán)狀薄壁內(nèi)的空間為第一內(nèi)環(huán)，所述第一進(jìn)氣孔和所述第一進(jìn)液孔設(shè)置于所述諧振器的側(cè)壁上且與所述第一外環(huán)連通，所述排液孔設(shè)置于第一環(huán)狀薄壁上部且與所述第一內(nèi)環(huán)連通，所述諧振器的側(cè)壁上開有安裝導(dǎo)管的第一安裝孔，所述第一環(huán)狀薄壁下端均布有連通第一外環(huán)與第一內(nèi)環(huán)的第一通孔。在所述第一外環(huán)與所述耦合片之間設(shè)有一個(gè)圓環(huán)形擋板，所述擋板下部沿軸向延伸出凸出部分，使擋板的橫截面成“T”字型，所述擋板下部的凸出部分插入第一外環(huán)并與第一外環(huán)上部粘合。所述擋板的下端面在所述第一通孔之上，所述擋板上開有用于安裝導(dǎo)管的第二安裝孔。所述氣動(dòng)霧化結(jié)構(gòu)為圓柱體，在所述氣動(dòng)霧化結(jié)構(gòu)的中心軸上開孔形成霧化噴射口，在所述氣動(dòng)霧化結(jié)構(gòu)的徑向開有第二進(jìn)液孔。所述氣動(dòng)霧化結(jié)構(gòu)的上端設(shè)有法蘭，所述冷卻結(jié)構(gòu)、諧振器和氣動(dòng)霧化結(jié)構(gòu)通過螺栓固定連接。根據(jù)所述的霧化清洗裝置進(jìn)行霧化清洗的方法，包括以下步驟S1.將第一進(jìn)氣孔、第二進(jìn)氣孔和第三進(jìn)氣孔與外部氣路連接，將第一進(jìn)液孔與外部液路連接；S2.將電纜接頭與功率放大器連接，將交變電壓施加給壓電晶體，使壓電晶體產(chǎn)生振動(dòng)形成兆聲波，使諧振器內(nèi)的液體分裂成超微液滴流并通過導(dǎo)管進(jìn)入氣動(dòng)霧化結(jié)構(gòu)；S3.在從第二進(jìn)氣孔通入的壓縮空氣的作用下，所述超微液滴流分解成單一的超微液滴，從霧化噴射口噴出，將霧化噴射口對(duì)準(zhǔn)需要清洗的半導(dǎo)體晶片進(jìn)行清洗。(三)有益效果本發(fā)明采用上述技術(shù)方案提供的裝置和方法，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，集成度高，實(shí)現(xiàn)了噴射超微霧化液滴，工藝易實(shí)現(xiàn)，克服單純的霧化機(jī)制產(chǎn)生大尺寸液滴或是噴射流，對(duì)65納米及其以下工藝的硅片表面的圖形造成嚴(yán)重?fù)p傷的問題；同時(shí)避免了因清洗液和去離子水的利用率低而造成極度浪費(fèi)；通過導(dǎo)管觀察管路中超微液滴流的實(shí)際情況，從而判斷裝置內(nèi)部是否出現(xiàn)問題，便于維修和維護(hù)。


圖1是本發(fā)明的霧化清洗裝置的前視圖；圖2是本發(fā)明的霧化清洗裝置的仰視圖；圖3是本發(fā)明的霧化清洗裝置的剖面圖；圖4是本發(fā)明的冷卻結(jié)構(gòu)的主視圖；圖5是本發(fā)明的冷卻結(jié)構(gòu)的仰視圖6是本發(fā)明的諧振器的剖面圖。圖中，1:電纜接頭；2:第三進(jìn)氣孔；3:冷卻結(jié)構(gòu)；4:導(dǎo)管；5:氣動(dòng)霧化結(jié)構(gòu)；6:諧振器；7:第一進(jìn)氣孔；8:第二進(jìn)氣孔；9:螺栓孔；10:霧化噴射口 ；11:排氣孔；12:第二通孔；13:壓電晶體；15:排液孔；16:第一外環(huán)；17:第一通孔；18:第一進(jìn)液孔；19 禹合片；20 ■ 第一內(nèi)環(huán)。
具體實(shí)施例方式下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本發(fā)明霧化清洗裝置和方法作進(jìn)一步詳細(xì)說明。以下實(shí)施例用于說明本發(fā)明，但不用來限制本發(fā)明的范圍。在本發(fā)明的描述中，需要說明的是，術(shù)語“中心”、“縱向”、“橫向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“豎直”、“水平”、“頂”、“底” “內(nèi)”、“外”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附
圖所示的方位或位置關(guān)系，僅是為了便于描述本發(fā)明和簡(jiǎn)化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對(duì)本發(fā)明的限制。此外，術(shù)語“第一”、“第二”、“第三”僅用于描述目的，而不能理解為指示或暗示相
對(duì)重要性。在本發(fā)明的描述中，需要說明的是，除非另有明確的規(guī)定和限定，術(shù)語“安裝”、“相連”、“連接”應(yīng)做廣義理解，例如，可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或一體地連接；可以是機(jī)械連接，也可以是電連接；可以是直接相連，也可以通過中間媒介間接相連，可以是兩個(gè)元件內(nèi)部的連通。對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以具體情況理解上述術(shù)語在本發(fā)明中的具體含義。此外，在本發(fā)明的描述中，除非另有說明，“多個(gè)”的含義是兩個(gè)或兩個(gè)以上。如圖1至圖6所示，本發(fā)明的霧化清洗裝置，包括冷卻結(jié)構(gòu)3、諧振霧化結(jié)構(gòu)和氣動(dòng)霧化結(jié)構(gòu)5，所述諧振霧化結(jié)構(gòu)固定于所述氣動(dòng)霧化結(jié)構(gòu)5之上，所述冷卻結(jié)構(gòu)3固定于所述諧振霧化結(jié)構(gòu)之上。冷卻結(jié)構(gòu)3為上端封閉且下端開口的圓柱形殼體，材料為聚偏氟乙烯(PVDF)或其它抗腐蝕性高并且強(qiáng)度較好的非金屬材料。冷卻結(jié)構(gòu)3的側(cè)壁上設(shè)有第三進(jìn)氣孔2和排氣孔11。冷卻結(jié)構(gòu)3的封閉端設(shè)有電纜接頭1，電纜接頭I與換能器相連。冷卻結(jié)構(gòu)3的內(nèi)部從封閉端向下延伸出與冷卻結(jié)構(gòu)3的側(cè)壁同心的第二環(huán)狀薄壁，第二環(huán)狀薄壁與冷卻結(jié)構(gòu)3的側(cè)壁之間的空間為第二外環(huán)，第二環(huán)狀薄壁內(nèi)的空間為第二內(nèi)環(huán)。第三進(jìn)氣孔2設(shè)置于冷卻結(jié)構(gòu)3的封閉端且與第二內(nèi)環(huán)相連，排氣孔11設(shè)置于冷卻結(jié)構(gòu)3的側(cè)壁上且與第二外環(huán)相連，第二環(huán)狀薄壁下端均布有連通第二外環(huán)與第二內(nèi)環(huán)的第二通孔12，第二通孔12為拱形孔。由第三進(jìn)氣孔2進(jìn)入冷卻結(jié)構(gòu)3的第二內(nèi)環(huán)的冷卻氣，經(jīng)過第二通孔12由排氣孔11排出，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)換能器的均勻冷卻。諧振霧化結(jié)構(gòu)包括換能器和諧振器6，諧振器6上設(shè)有排液孔15。換能器包括壓電晶體13和耦合片19，壓電晶體13通過導(dǎo)電膠與耦合片19連接，耦合片19位于諧振器6之上且將冷卻結(jié)構(gòu)3的下端密封。耦合片19由單一介質(zhì)或多介質(zhì)制成，厚度為1/4波長(zhǎng)的整數(shù)倍。諧振霧化結(jié)構(gòu)還包括密封圈，密封圈設(shè)置于耦合片19和諧振器6之間，用于密封奉禹合片19和諧振器6。 諧振器6為上端開口且下端封閉的圓筒結(jié)構(gòu)，其上端開口通過所述耦合片19密封，諧振器6的側(cè)壁上還設(shè)有第一進(jìn)氣孔7、第一進(jìn)液孔18，第一進(jìn)氣孔7和第一進(jìn)液孔18在諧振器6的側(cè)壁的橫截面上成中心對(duì)稱分布。諧振器6的內(nèi)部從封閉端向上延伸出與諧振器6的側(cè)壁同心的第一環(huán)狀薄壁，第一環(huán)狀薄壁與諧振器6的側(cè)壁之間的空間為第一外環(huán)16。第一環(huán)狀薄壁內(nèi)的空間為第一內(nèi)環(huán)20，第一進(jìn)氣孔7和第一進(jìn)液孔18設(shè)置于諧振器6的側(cè)壁上且與第一外環(huán)16連通。排液孔15有兩個(gè)，設(shè)置于第一環(huán)狀薄壁上部且與第一內(nèi)環(huán)20連通，且兩個(gè)排液孔15在第一環(huán)狀薄壁的橫截面上成中心對(duì)稱分布。諧振器6的側(cè)壁上開有安裝導(dǎo)管4的第一安裝孔，第一環(huán)狀薄壁下端均布有連通第一外環(huán)16與第一內(nèi)環(huán)20的第一通孔17，第一通孔17為倒拱形孔。通入的液體和氣體在第一外環(huán)16混合均勻后，從第一外環(huán)16下部流入第二內(nèi)環(huán)20，經(jīng)過兆聲波處理后的液體分裂成超微液滴流從排液孔15經(jīng)導(dǎo)管4流入氣動(dòng)霧化結(jié)構(gòu)5。在第一外環(huán)16與耦合片19之間設(shè)有一個(gè)圓環(huán)形擋板，擋板下部沿軸向延伸出凸出部分，使擋板的橫截面成“T”字型，擋板下部的凸出部分插入第一外環(huán)16并與第一外環(huán)16上部粘合，擋板與耦合片19配合，使冷卻結(jié)構(gòu)3與諧振器6隔離。擋板的下端面在第一通孔17之上，擋板上開有用于安裝導(dǎo)管4的第二安裝孔。擋板是為了避免第一外環(huán)16內(nèi)未經(jīng)兆聲波處理的液體從排液孔15流入氣動(dòng)霧化結(jié)構(gòu)5，而保證只有第一內(nèi)環(huán)20內(nèi)的超微液滴流從排液孔15流入氣動(dòng)霧化結(jié)構(gòu)5。氣動(dòng)霧化結(jié)構(gòu)5為圓柱體，氣動(dòng)霧化結(jié)構(gòu)5上開有第二進(jìn)液孔、第二進(jìn)氣孔8和霧化噴射口 10，霧化噴射口 10在氣動(dòng)霧化結(jié)構(gòu)5的中心軸上，第二進(jìn)液孔在氣動(dòng)霧化結(jié)構(gòu)5的徑向上。排液孔15與第二進(jìn)液孔通過導(dǎo)管4相連，第二進(jìn)液孔與霧化噴射口 10連通，第二進(jìn)氣孔8和霧化噴射口 10連通。超微液滴流從諧振器6通入氣動(dòng)霧化結(jié)構(gòu)5的過程，由于不是傳統(tǒng)的霧化噴射口 10直接從諧振器6底部把超微液滴流液體導(dǎo)出，而是經(jīng)導(dǎo)管4將超微液滴流從諧振器6導(dǎo)入氣動(dòng)霧化結(jié)構(gòu)5，此過程延長(zhǎng)了導(dǎo)出的管路，可使導(dǎo)出的超微液滴流存在一個(gè)均勻緩沖區(qū)，并可通過導(dǎo)管4觀察管路中超微液滴流的實(shí)際情況，從而判斷裝置內(nèi)部是否出現(xiàn)問題，便于維修和維護(hù)。在從第二進(jìn)氣孔8通入的壓縮空氣的作用下，超微液滴流進(jìn)一步分解成單一的超微液滴，從霧化噴射口 10噴出。氣動(dòng)霧化結(jié)構(gòu)5的上端設(shè)有法蘭，冷卻結(jié)構(gòu)3、諧振器6和氣動(dòng)霧化結(jié)構(gòu)5通過螺栓固定連接。根據(jù)所述的霧化清洗裝置進(jìn)行霧化清洗的方法，包括以下步驟S1.將第一進(jìn)氣孔7、第二進(jìn)氣孔8和第三進(jìn)氣孔2與外部氣路連接，將第一進(jìn)液孔18與外部液路連接；S2.將電纜接頭I與功率放大器連接，將交變電壓施加給壓電晶體13，使壓電晶體13產(chǎn)生振動(dòng)形成兆聲波，使諧振器6內(nèi)的液體分裂成超微液滴流并通過導(dǎo)管4進(jìn)入氣動(dòng)霧化結(jié)構(gòu)5 ；S3.在從第二進(jìn)氣孔8通入的壓縮空氣的作用下，所述超微液滴流分解成單一的超微液滴，從霧化噴射口 10噴出，將霧化噴射口 10對(duì)準(zhǔn)需要清洗的半導(dǎo)體晶片進(jìn)行清洗。以上實(shí)施方式僅用于說明本發(fā)明，而并非對(duì)本發(fā)明的限制，有關(guān)技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍的情況下，還可以做出各種變化和變型，因此所有等同的技術(shù)方案也屬于本發(fā)明的范疇。
權(quán)利要求
1.一種霧化清洗裝置，其特征在于，所述霧化清洗裝置包括冷卻結(jié)構(gòu)(3)、氣動(dòng)霧化結(jié)構(gòu)(5)以及固定于所述氣動(dòng)霧化結(jié)構(gòu)(5)之上諧振霧化結(jié)構(gòu)，所述冷卻結(jié)構(gòu)(3)固定于所述諧振霧化結(jié)構(gòu)之上，所述諧振霧化結(jié)構(gòu)包括換能器和諧振器(6)，所述諧振器(6)上設(shè)有排液孔(15 )，所述氣動(dòng)霧化結(jié)構(gòu)(5 )上開有第二進(jìn)液孔、第二進(jìn)氣孔(8 )和霧化噴射口( 10 )，所述排液孔(15)與所述第二進(jìn)液孔相連，所述第二進(jìn)液孔與所述霧化噴射口(10)連通，所述第二進(jìn)氣孔(8)和所述霧化噴射口(10)連通。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的霧化清洗裝置，其特征在于，所述排液孔(15)與所述第二進(jìn)液孔通過導(dǎo)管(4)相連；所述冷卻結(jié)構(gòu)(3)為上端封閉且下端開口的圓柱形殼體，冷卻結(jié)構(gòu)(3)的側(cè)壁上設(shè)有第三進(jìn)氣孔(2)和排氣孔(11)，所述冷卻結(jié)構(gòu)(3)的封閉端設(shè)有電纜接頭(I )，所述電纜接頭(I)與所述換能器相連。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的霧化清洗裝置，其特征在于，所述冷卻結(jié)構(gòu)(3)的內(nèi)部從封閉端向下延伸出與所述冷卻結(jié)構(gòu)(3)的側(cè)壁同心的第二環(huán)狀薄壁，所述第二環(huán)狀薄壁與所述冷卻結(jié)構(gòu)(3)的側(cè)壁之間的空間為第二外環(huán)，所述第二環(huán)狀薄壁內(nèi)的空間為第二內(nèi)環(huán)，所述第三進(jìn)氣孔(2)設(shè)置于冷卻結(jié)構(gòu)(3)的封閉端且與所述第二內(nèi)環(huán)相連，所述排氣孔(11)設(shè)置于所述冷卻結(jié)構(gòu)(3)的側(cè)壁上且與所述第二外環(huán)相連，所述第二環(huán)狀薄壁下端均布有連通第二外環(huán)與第二內(nèi)環(huán)的第二通孔(12)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的霧化清洗裝置，其特征在于，所述換能器包括壓電晶體(13)和耦合片(19)，所述壓電晶體(13)通過導(dǎo)電膠與耦合片(19)連接，所述耦合片(19)位于所述諧振器(6)之上且將所述冷卻結(jié)構(gòu)(3)的下端密封。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的霧化清洗裝置，其特征在于，所述耦合片(19)由單一介質(zhì)或多介質(zhì)制成，厚度為1/4波長(zhǎng)的整數(shù)倍。
6.根據(jù) 權(quán)利要求5所述的霧化清洗裝置，其特征在于，所述諧振器(6)為上端開口且下端封閉的圓筒結(jié)構(gòu)，其上端開口通過所述耦合片(19)密封，所述諧振器(6)的側(cè)壁上還設(shè)有第一進(jìn)氣孔(7)、第一進(jìn)液孔(18)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的霧化清洗裝置，其特征在于，所述諧振器(6)的內(nèi)部從封閉端向上延伸出與所述諧振器(6)的側(cè)壁同心的第一環(huán)狀薄壁，所述第一環(huán)狀薄壁與所述諧振器(6 )的側(cè)壁之間的空間為第一外環(huán)(16 )，所述第一環(huán)狀薄壁內(nèi)的空間為第一內(nèi)環(huán)(20 )，所述第一進(jìn)氣孔(7)和所述第一進(jìn)液孔(18)設(shè)置于所述諧振器(6)的側(cè)壁上且與所述第一外環(huán)(16 )連通，所述排液孔(15 )設(shè)置于第一環(huán)狀薄壁上部且與所述第一內(nèi)環(huán)(20 )連通，所述諧振器(6)的側(cè)壁上開有安裝導(dǎo)管(4)的第一安裝孔，所述第一環(huán)狀薄壁下端均布有連通第一外環(huán)(16)與第一內(nèi)環(huán)(20)的第一通孔(17)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的霧化清洗裝置，其特征在于，在所述第一外環(huán)(16)與所述耦合片(19)之間設(shè)有一個(gè)圓環(huán)形擋板，所述擋板下部沿軸向延伸出凸出部分，使擋板的橫截面成“T”字型，所述擋板下部的凸出部分插入第一外環(huán)(16)并與第一外環(huán)(16)上部粘合。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的霧化清洗裝置，其特征在于，所述擋板的下端面在所述第一通孔(17)之上，所述擋板上開有用于安裝導(dǎo)管(4)的第二安裝孔。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的霧化清洗裝置，其特征在于，所述氣動(dòng)霧化結(jié)構(gòu)(5)為圓柱體，在所述氣動(dòng)霧化結(jié)構(gòu)(5)的中心軸上開孔形成霧化噴射口(10)，在所述氣動(dòng)霧化結(jié)構(gòu)(5)的徑向開有第二進(jìn)液孔。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的霧化清洗裝置，其特征在于，所述氣動(dòng)霧化結(jié)構(gòu)(5)的上端設(shè)有法蘭，所述冷卻結(jié)構(gòu)(3)、諧振器(6)和氣動(dòng)霧化結(jié)構(gòu)(5)通過螺栓固定連接。
12.根據(jù)權(quán)利要求1-11任一項(xiàng)所述的霧化清洗裝置進(jìn)行霧化清洗的方法，其特征在于，包括以下步驟: S1.將第一進(jìn)氣孔(7)、第二進(jìn)氣孔(8)和第三進(jìn)氣孔(2)與外部氣路連接，將第一進(jìn)液孔(18)與外部液路連接； S2.將電纜接頭(1)與功率放大器連接，將交變電壓施加給壓電晶體(13)，使壓電晶體(13)產(chǎn)生振動(dòng)形成兆聲波， 使諧振器(6)內(nèi)的液體分裂成超微液滴流并通過導(dǎo)管(4)進(jìn)入氣動(dòng)霧化結(jié)構(gòu)(5)； S3.在從第二進(jìn)氣孔(8)通入的壓縮空氣的作用下，所述超微液滴流分解成單一的超微液滴， 從霧化噴射口(10)噴出， 將霧化噴射口(10)對(duì)準(zhǔn)需要清洗的半導(dǎo)體晶片進(jìn)行清洗。
全文摘要
本發(fā)明提供一種霧化清洗裝置和方法，該霧化清洗裝置包括冷卻結(jié)構(gòu)、諧振霧化結(jié)構(gòu)和氣動(dòng)霧化結(jié)構(gòu)，所述諧振霧化結(jié)構(gòu)固定于所述氣動(dòng)霧化結(jié)構(gòu)之上，所述冷卻結(jié)構(gòu)固定于所述諧振霧化結(jié)構(gòu)之上，所述諧振霧化結(jié)構(gòu)包括換能器和諧振器，所述諧振器上設(shè)有排液孔，所述氣動(dòng)霧化結(jié)構(gòu)上開有第二進(jìn)液孔、第二進(jìn)氣孔和霧化噴射口，所述排液孔與所述第二進(jìn)液孔相連，所述第二進(jìn)液孔與所述霧化噴射口連通，所述第二進(jìn)氣孔和所述霧化噴射口連通。本發(fā)明的霧化清洗裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，集成度高，實(shí)現(xiàn)了噴射超微霧化液滴，工藝易實(shí)現(xiàn)，克服單純的霧化機(jī)制產(chǎn)生大尺寸液滴或是噴射流，對(duì)65納米及其以下工藝的硅片表面的圖形造成嚴(yán)重?fù)p傷的問題。
文檔編號(hào)B08B3/02GK103071638SQ20131004338
公開日2013年5月1日 申請(qǐng)日期2013年1月30日 優(yōu)先權(quán)日2013年1月30日
發(fā)明者劉效巖, 吳儀, 初國超, 王浩 申請(qǐng)人:北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司