清洗劑及玻璃基板的清洗方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及清洗劑和玻璃基板的清洗方法。在不損害用含氧化鈰的研磨劑研磨后的玻璃基板的平坦性的情況下，將殘留、附著于表面上的研磨磨粒分散、除去。該清洗劑是用于對用含氧化鈰的研磨劑研磨后的玻璃基板進(jìn)行清洗的、包含(A)有機(jī)膦酸、(B)多元羧酸鹽、(C)芳族磺酸和(D)胺－環(huán)氧烷加成物的水系清洗劑。玻璃基板的清洗方法包括：使用含有氧化鈰的研磨劑對玻璃基板進(jìn)行研磨的研磨工序，以及利用上述清洗劑對該研磨工序后的該玻璃基板進(jìn)行清洗的清洗工序。
【專利說明】清洗劑及玻璃基板的清洗方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及用于對用含氧化鈰的研磨劑研磨后的玻璃基板進(jìn)行清洗的清洗劑、及玻璃基板的清洗方法。
【背景技術(shù)】[0002]例如、液晶顯示器(LCD)等FPD (Flat Panel Display)中所使用的玻璃基板通過稱為浮法的制造方法將熔融玻璃成形為板狀，將切割所得的玻璃基板用例如自轉(zhuǎn)及公轉(zhuǎn)的研磨工具研磨，除去表面的微小的凹凸及波紋，從而制造成具有滿足了 Fro用玻璃基板所要求的平坦度的規(guī)定厚度(例如、0.4~1.1mm)的薄板狀(例如、參照專利文獻(xiàn)I)。
[0003]為了研磨這種玻璃基板，使用以氧化鈰為主成分且含有鑭等稀土類元素的研磨磨粒，在Fro用玻璃基板這樣的要求高平坦性的玻璃基板中，基板表面的研磨劑的殘留成為問題。因此，研磨后對附著于玻璃基板表面的研磨劑(磨粒)進(jìn)行清洗、除去(例如、參照專利文獻(xiàn)2)。
[0004]在通常的研磨劑的清洗及除去中，使用含有堿成分而形成的清洗劑，但對于含有以氧化鈰為主成分的磨粒的研磨劑，用堿類清洗劑時(shí)清洗性不足夠。此外，為了提高以氧化鈰為主成分的磨粒的清洗、除去性，也使用含無機(jī)或有機(jī)的堿成分和表面活性劑的清洗劑，但無法充分減少粒徑為亞微米級的磨粒殘?jiān)?br> [0005]還有,為了除去玻璃基板上的磨粒的殘洛,考慮使用包含作為有機(jī)酸的一種的朽1檬酸的清洗劑，將氧化鈰溶解。但是，作為有機(jī)酸使用了檸檬酸的清洗劑的情況下，初期的清洗特性雖然良好，但存在經(jīng)時(shí)廢液中的磨粒殘?jiān)?、排水處理中發(fā)生不良狀況的問題。
[0006]現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
[0007]專利文獻(xiàn)
[0008]專利文獻(xiàn)1:日本專利特開2007-190657號公報(bào)
[0009]專利文獻(xiàn)2:日本專利特開2009-215093號公報(bào)

【發(fā)明內(nèi)容】

[0010]發(fā)明所要解決的技術(shù)問題
[0011]本發(fā)明是為了解決上述問題而完成的發(fā)明，其目的在于提供一種在不損害玻璃基板的平坦性的情況下能將殘留和/或附著于其表面的研磨磨粒分散、除去的玻璃基板用清洗劑及玻璃基板的清洗方法。
[0012]解決技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案
[0013]本發(fā)明的第一形態(tài)是一種清洗劑，它是用于對用含氧化鈰的研磨劑研磨后的玻璃基板進(jìn)行清洗的清洗劑，該清洗劑是包含(A)有機(jī)膦酸、(B)多元羧酸鹽、(C)芳族磺酸和
(D)胺一環(huán)氧烷加成物的水系清洗劑。
[0014]第一形態(tài)的清洗劑中，較好是相對于上述(A)有機(jī)膦酸、上述(B)多元羧酸鹽、上述(C)芳族磺酸和上述(D)胺一環(huán)氧烷加成物的總量，包含0.01~50質(zhì)量％的上述(A)有機(jī)膦酸、0.01~10質(zhì)量％的上述(B)多元羧酸鹽、0.01~50質(zhì)量％的上述(C)芳族磺酸、0.02~10質(zhì)量％的上述(D)胺一環(huán)氧烷加成物。
[0015]此外，上述(A)有機(jī)膦酸較好是具有以式_P(=0) (OH)2表示的基團(tuán)結(jié)合于碳原子的結(jié)構(gòu)的有機(jī)化合物。
[0016]還有，上述(D)胺一環(huán)氧烷加成物較好是亞烷基二胺的環(huán)氧丙烷-環(huán)氧乙烷加成物。
[0017]還有，本發(fā)明的清洗劑較好是包含上述(A)有機(jī)膦酸、上述(B)多元羧酸鹽、上述(C)芳族磺酸、上述(D)胺一環(huán)氧烷加成物和水，且相對于上述(A)至(D)的各成分及水的總量，含有55~98質(zhì)量％的水。
[0018]對于上述的表示數(shù)值范圍的“~”，只要沒有特定地定義，則以包括記載于其前后而作為下限值及上限值的數(shù)值的涵義來使用，以下在說明書中，也以同樣的涵義使用“~”。
[0019]本發(fā)明的第二形態(tài)是一種玻璃基板的清洗方法，其包括:使用含有氧化鈰的研磨劑對玻璃基板進(jìn)行研磨的研磨工序；以及利用上述第一形態(tài)的清洗劑對該研磨工序后的該玻璃基板進(jìn)行清洗的清洗工序。
[0020]第二形態(tài)的玻璃基板的清洗方法中，上述研磨劑較好是使用包含以氧化鈰為主成分且含有稀土類元素的研磨磨粒的研磨劑。
[0021]此外，上述清洗工序中，較好是以單片式的方式清洗上述玻璃基板。
[0022]還有，較好是使用用水將上述清洗劑稀釋而得的稀釋清洗液，對上述研磨工序后的該玻璃基板進(jìn)行清洗。
[0023]還有，上述清洗工序中，較好是通過對于連續(xù)搬運(yùn)的上述玻璃基板的兩面一邊噴射上述清洗劑一邊用刷子擦洗來進(jìn)行清洗。
[0024]發(fā)明的效果
[0025]如果利用本發(fā)明的清洗劑，則可以在不損害用含氧化鈰的研磨劑研磨后的玻璃基板的平坦性的情況下，將殘留、附著于其表面的由氧化鈰等形成的研磨磨粒分散、除去。
[0026]此外，如果利用本發(fā)明的清洗方法，則可以在不損害表面的平坦性的情況下對使用含氧化鈰的研磨劑進(jìn)行研磨后的玻璃基板進(jìn)行高效的清洗，提供表面上研磨磨粒等異物的殘留極少的玻璃基板。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0027]圖1是表示本發(fā)明的玻璃基板的清洗方法的一種實(shí)施方式的圖。
【具體實(shí)施方式】
[0028]以下，以清洗作為LCD等的FPD用而使用的玻璃基板的清洗劑及使用該清洗劑的清洗方法為例來說明本發(fā)明的實(shí)施方式。對于用含氧化鈰的研磨劑研磨后的Fro用玻璃基板，為了除去研磨后的玻璃基板上的研磨劑的殘?jiān)M(jìn)行清洗，本發(fā)明的實(shí)施方式是用于該清洗的清洗劑及清洗方法。本發(fā)明不局限于這些實(shí)施方式，只要符合本發(fā)明的技術(shù)思想，則其他的實(shí)施方式也屬于本發(fā)明的范疇。
[0029]本發(fā)明的實(shí)施方式I是Fro用玻璃基板的清洗劑，它是包含㈧有機(jī)膦酸、(B)多元羧酸鹽、(C)芳族磺酸和(D)胺一環(huán)氧烷加成物的水系清洗劑。[0030]利用該清洗劑，可以將研磨后的玻璃基板的表面上殘留及/或附著的由氧化鈰等形成的研磨磨粒良好地分散而除去，且不損害玻璃基板的平坦性。此外，清洗廢液中的磨粒殘?jiān)粫?jīng)時(shí)凝集，清洗廢液的處理也能很好地實(shí)施。
[0031]本發(fā)明的實(shí)施方式I的玻璃基板的清洗劑中，作為(A)成分的有機(jī)膦酸起到氧化鈰的螯合劑的作用，并發(fā)揮以下作用:促進(jìn)玻璃基板的表面上殘留及/或附著的由氧化鈰等形成的研磨磨粒的分散，將研磨磨粒從玻璃基板表面剝下、除去。
[0032]本發(fā)明中，作為㈧成分的有機(jī)膦酸是指具有以式_P(=0) (OH)2表示的基團(tuán)(以下稱為膦酸基)結(jié)合于碳原子的結(jié)構(gòu)的有機(jī)化合物。每I分子有機(jī)膦酸的膦酸基的數(shù)量較好是2個(gè)以上，更好是2~8，特別優(yōu)選2~4。
[0033]作為本發(fā)明中的有機(jī)膦酸，較好是具有可具有取代基的烴類的碳所結(jié)合的氫原子被膦酸基取代了的結(jié)構(gòu)的化合物、及具有氨或胺類的氮原子所結(jié)合的氫原子被以-ch2-p(=o) (OH)2表示的亞甲基膦酸基取代了的結(jié)構(gòu)的化合物。
[0034]上述前一種結(jié)構(gòu)的有機(jī)膦酸中，作為可具有取代基的烴類，較好是脂肪族烴及含羥基的脂肪族烴。這些脂肪族烴等中，其碳數(shù)較好是I~6，羥基數(shù)較好是2以下。作為具有該結(jié)構(gòu)的有機(jī)膦酸，具體而言，例如可例舉甲基二膦酸、及1-羥基乙烷-1，1-二膦酸等。
[0035]作為還包含具有下述亞甲基膦酸基的結(jié)構(gòu)的有機(jī)膦酸的本發(fā)明中的有機(jī)膦酸，特別好是具有含羥基的脂肪族烴的碳所結(jié)合的氫原子被膦酸基取代了的結(jié)構(gòu)的化合物，具體而目，最好是1_羥基乙燒_1, 1- 二勝酸。
[0036]作為上述后一種結(jié)構(gòu)的有機(jī)膦酸，較好是具有氨或脂肪族胺的氮原子所結(jié)合的氫原子全部被亞甲基膦酸基取代了的結(jié)構(gòu)的化合物。但是，胺類氮原子所結(jié)合的氫原子的一部分也可以被烷基等有機(jī)基團(tuán)`取代。作為脂肪族胺，較好是亞烷基二胺或作為其聚合物的聚亞烷基多胺。亞烷基二胺的碳數(shù)較好是2~4。這些胺類的氮原子所結(jié)合的氫原子(可被亞甲基膦酸基取代的氫原子)的數(shù)量較好是2~8，更好是2~4。
[0037]作為具有該結(jié)構(gòu)的有機(jī)膦酸，具體而言，可例舉氨基三(亞甲基膦酸)、乙二胺四(亞甲基膦酸)、六亞甲基二胺四(亞甲基膦酸)、丙二胺四(亞甲基膦酸)、二亞乙基三胺五(亞甲基膦酸)、三亞乙基四胺六(亞甲基膦酸)、三(2-氨基乙基)胺六(亞甲基膦酸)、反-1，2-環(huán)己烷二胺四(亞甲基膦酸)、乙二醇醚二胺四(亞甲基膦酸)、及四亞乙基五胺七(亞甲基勝酸)等。
[0038]作為(B)成分的多元羧酸鹽和作為(C)成分的芳族磺酸，在提高使用上述(A)有機(jī)膦酸而產(chǎn)生的研磨磨粒的分散性及/或除去性的同時(shí)，還起到防止研磨磨粒的再附著的作用。作為⑶成分的多元羧酸鹽，可例示聚(甲基)丙烯酸鹽、(甲基)丙烯酸-馬來酸共聚物的鹽等。
[0039]這里，(甲基)丙烯酸的記載表示丙烯酸和甲基丙烯酸兩者。多元羧酸的重均分子量(以下簡記為Mw)從研磨磨粒的再付著的防止及低泡性的觀點(diǎn)考慮，較好是2000~50000的范圍。另外，Mw是通過凝膠滲透色譜(以下簡記為GPC)測得的值。
[0040]多元羧酸鹽中，作為形成鹽的抗衡離子，沒有特別限定，較好是堿金屬(例如、鈉及鉀)鹽、銨鹽、伯胺(例如、甲胺、乙胺及丁胺等烷基胺)鹽、仲胺(例如、二甲基胺、二乙基胺及二丁基胺等二烷基胺、以及二乙醇胺)鹽、叔胺(例如、三甲基胺、三乙基胺及三丁基胺等三烷基胺、三乙醇胺、N-甲基二乙醇胺、以及1，8-二氮雜雙環(huán)[5.4.0]-7_十一碳烯(DBU) U, 5-二氮雜雙環(huán)[4.3.0]-5-壬烯(DBN)、或 1，4-二氮雜雙環(huán)[2.2.2]辛烷(DABCO)、IH咪唑、2-甲基-1H-咪唑、2-乙基-1H-咪唑、4，5- 二氫-1H咪唑、2-甲基-4，5- 二氫-1H咪唑、1，4，5，6-四氫-嘧啶、1，6 (4)-二氫嘧啶)鹽、及季銨鹽(例如、四烷基銨)鹽。從防止顆粒的再附著的觀點(diǎn)考慮，它們之中較好是堿金屬(例如、鈉及鉀)鹽、銨鹽、伯胺鹽、仲胺鹽、叔胺鹽及季銨鹽，特別好是堿金屬(例如、鈉及鉀)鹽、銨鹽。
[0041]作為(C)成分的芳族磺酸，可例舉具有碳數(shù)8~14的烷基的烷基苯磺酸、石油磺酸鹽、甲苯磺酸、二甲苯磺酸鈉、及異丙苯磺酸等。特好是使用間二甲苯磺酸(2，4-二甲基苯磺酸)。
[0042]作為⑶成分的胺一環(huán)氧烷加成物，起到促進(jìn)上述㈧有機(jī)膦酸滲透至研磨磨粒與玻璃基板的界面的作用。本實(shí)施方式中，作為胺一環(huán)氧烷加成物，較好是作為環(huán)氧烷加成型的非離子型表面活性劑已知的化合物。作為環(huán)氧烷，較好是環(huán)氧乙烷(以下也稱為E0)和環(huán)氧丙烷(以下也稱為PO)，也可以是僅加成它們中的一方而得的結(jié)構(gòu)的化合物，或者將它們雙方加成而得的結(jié)構(gòu)的化合物。將EO和PO兩者加成而得的化合物中，EO的單元(即、氧乙烯基)和PO的單元(即、氧丙烯基)以嵌段狀存在，或者以無規(guī)狀存在。前者是在胺上分別依次加成EO和PO而獲得，后者是在胺上加成EO和PO的混合物而獲得。本發(fā)明中，PO-EO加成物是指使用這些加成方法中的任一種而獲得的加成物。
[0043]作為可加成環(huán)氧烷的胺類，較好是氮原子所結(jié)合的氫原子的數(shù)量為2~8、氨基的數(shù)量為I~4的胺類。此外，胺類的碳數(shù)較好是16以下，更好是10以下。作為這種胺類，例如可例舉脂肪族的一元胺及多元胺、脂環(huán)族的一元胺及多元胺、芳香族的一元胺及多元胺。更具體而言，較好是烷基一元胺、亞烷基二胺及作為其聚合物的聚亞烷基多元胺、具有I個(gè)以上的脂環(huán)上所結(jié)合的氨基及氨基烷基的脂環(huán)族的一元胺及多元胺、具有I個(gè)以上的芳香環(huán)上所結(jié)合的氨基及氨基烷基的脂環(huán)族的一元胺及多元胺等。
[0044]作為(D)成分的胺一環(huán)氧烷加成物，較好是其至少一部分是亞烷基二胺的PO-EO加成物。作為亞烷基二胺，較好是碳數(shù)2~4的亞烷基二胺，特好是乙二胺。作為乙二胺的PO-EO加成物，例如可例舉在乙二胺的氮原子所結(jié)合的4個(gè)氫原子上加成PO和EO而得的化合物。此外，作為(D)成分的胺一環(huán)氧烷加成物，也可以優(yōu)選同時(shí)使用上述乙二胺的PO-EO加成物和芳香族胺的PO加成物。作為芳香族胺的PO加成物，例如可例舉間二甲苯二胺的PO加成物。作為(D)胺一環(huán)氧烷加成物，在同時(shí)使用乙二胺的PO-EO加成物和芳香族胺的PO加成物的情況下，清洗劑的清洗、除去能力的穩(wěn)定性進(jìn)一步提高。
[0045](A)成分、⑶成分、(C)成分、及⑶成分(以下將㈧成分至⑶成分統(tǒng)一稱呼的情況下，也稱作“㈧~(D) ”)的各成分相對于含本發(fā)明的清洗劑的水的整體的含有比例是，相對于含水的(A)~(D)的各成分的總量，較好是(A)有機(jī)膦酸為0.01~50質(zhì)量％、(B)多元羧酸鹽為0.01~10質(zhì)量％，(C)芳族磺酸為0.01~50質(zhì)量％，(D)胺一環(huán)氧烷加成物為0.02~10質(zhì)量％。
[0046]此外，⑶多元羧酸鹽和(C)芳族磺酸的總量相對于含水的㈧~⑶的總量的質(zhì)量％較好是0.03~60質(zhì)量％。
[0047]作為(D)胺一環(huán)氧烷加成物，同時(shí)使用亞烷基二胺的PO-EO加成物和芳香族胺的PO加成物的情況下，較 好是亞烷基二胺的PO-EO加成物為0.01~5質(zhì)量％和芳香族胺的PO加成物為0.01~5質(zhì)量％，且其總量相對于含水的(A)~(D)的總量的質(zhì)量％為上述0.02~10質(zhì)量％。
[0048]本發(fā)明的清洗劑是將上述(A)~(D)的各成分溶解于水而成的水系清洗劑。本發(fā)明中，清洗劑中的水是用于溶解上述的(A)有機(jī)膦酸、(B)多元羧酸鹽、(C)芳族磺酸、及(D)胺一環(huán)氧烷加成物的溶劑。作為該水，可使用去離子水、超純水、電荷離子水、富氫水及臭氧水等。另外，由于水具有控制本發(fā)明的清洗劑的流動性的功能，所以其含量可根據(jù)清洗速度等目標(biāo)的清洗特性來適當(dāng)設(shè)定。在以上述范圍含有上述㈧~⑶的各成分、且含有水的清洗劑中，水相對于上述⑷~⑶的各成分及水的總量的含有比例可設(shè)為55~98質(zhì)量％。以下，也將含有上述范圍的(A)~(D)的各成分及水的清洗劑稱為“清洗劑原液”。
[0049]本發(fā)明的清洗劑中，除了上述㈧~⑶的各成分以外，還可以將其他添加劑摻合到水中。作為其他添加劑，可例舉分散劑、水溶性有機(jī)溶劑、抗氧化劑、防銹劑、pH調(diào)整劑、緩沖劑、消泡劑、防腐劑、氫捕捉劑(日文卜''口卜口一7剤)等。
[0050]如以上所構(gòu)成的本發(fā)明的清洗劑在玻璃基板的制造方法中被用于清洗工序，該玻璃基板的制造方法至少包括下述兩個(gè)工序:使用含有以氧化鈰為主成分的研磨磨粒的研磨劑對玻璃基板進(jìn)行研磨的研磨工序，和對研磨工序后的玻璃基板進(jìn)行清洗的清洗工序。在將本發(fā)明的清洗劑用于實(shí)際清洗時(shí)，優(yōu)選將上述清洗劑原液用水進(jìn)一步稀釋以使得該清洗劑原液的含有比例(濃度)達(dá)到0.5~2.5質(zhì)量％后使用。這樣，通過用水稀釋后使用，可在不損傷玻璃基板表面的情況下，將殘留、附著的由氧化鈰等形成的研磨磨粒很好地除去。
[0051]研磨工序可采用下述工序:使用研磨墊、并利用以氧化鈰為主成分且包含稀土類元素的研磨磨粒、例如平均粒徑為0.5~3.0 μ m的研磨磨粒的研磨劑漿料對玻璃基板的表面進(jìn)行研磨的工序。上述的平均粒徑是對研磨磨粒用空氣透過法(布萊因法:BLAINmethod)測得的值，以下，本說明書中記載平均粒徑的情況下是指由該測定方法求得的值。
[0052]另外，這里，以氧化鈰為主成分且包含稀土類元素的研磨磨粒是指研磨磨粒整體中含45質(zhì)量％以上的氧化鈰、O質(zhì)量％~55質(zhì)量％的稀土類元素的化合物(例如、稀土類元素氧化物)的研磨磨粒。另外，作為稀土類元素，可例舉La、Pr、Nd等。
[0053]清洗工序可通過使本發(fā)明的清洗劑直接接觸研磨后的玻璃基板，以單片方式進(jìn)行清洗的方法來實(shí)施。本發(fā)明的清洗方法中，例如采用下述方法:如圖1所示，向利用搬運(yùn)輥I等機(jī)構(gòu)沿水平方向連續(xù)地搬運(yùn)至清洗室2內(nèi)的玻璃基板3的上下兩面，一邊噴射從清洗噴嘴4噴射出的清洗劑5，一邊用配置在兩面?zhèn)鹊男D(zhuǎn)刷6進(jìn)行摩擦(英文scribe)的方法。
[0054]這里，清洗劑5的溫度沒有特別限定，可采用室溫(15°C )~95°C。超過95°C的情況下，水可能會沸騰，在清洗操作上不方便，因而不優(yōu)選。此外，作為清洗用的旋轉(zhuǎn)刷6，例如可使用多個(gè)PVA(聚乙烯醇)海綿制的外徑為70~IOOmm的圓柱形狀的旋轉(zhuǎn)刷。接著，該情況下，例如將這些刷子以旋轉(zhuǎn)軸相對于玻璃基板3的被清洗面垂直的方式、且以前端部與玻璃基板3的被清洗面接觸或間隔小于2_的方式進(jìn)行配置。旋轉(zhuǎn)刷6的旋轉(zhuǎn)速度較好是 100 ~500rpm。
[0055]作為清洗劑5，可使用將上述的本發(fā)明的清洗劑原液按照達(dá)到所需的濃度的條件用水稀釋而制成的稀釋清洗液。噴射量可設(shè)為15~40升/分鐘。
[0056]實(shí)施例
[0057]下面對本發(fā)明的實(shí)施例進(jìn)行具體說明，但本發(fā)明不受這些實(shí)施例的限定。下面的例子中，只要沒有特別限定，“ % ”是指“質(zhì)量％ ”。[0058]<與氧化鈰的清洗性相關(guān)的預(yù)備試驗(yàn)1>
[0059]首先，制作試驗(yàn)片。即、在長5.0cmX寬4.0cmX厚0.07cm的玻璃基板(商品名:AN100 ;旭硝子株式會社制，以下相同)的單面上滴加公知的研磨用氧化鈰(CeO2)粒子(平均粒徑0.8~1.0 μ m)的4質(zhì)量％水溶液，使其于室溫干燥20分鐘。由此，作為試驗(yàn)片，制得在單面上附著有白色的氧化鈰(CeO2)粒子的玻璃基板(以下記作附著粒子的玻璃基板)。
[0060]接著，制備以I質(zhì)量％的濃度含有表1所示的有機(jī)酸的酸水溶液。接著，在該水溶液中將上述的附著粒子的玻璃基板于室溫浸潰I小時(shí)。接著，肉眼觀察浸潰后的玻璃基板的表面狀態(tài)，按照下述基準(zhǔn)評價(jià)清洗性。評價(jià)結(jié)果示于表1。
[0061](評價(jià)基準(zhǔn))
[0062]O:氧化鈰粒子被完全從玻璃基板表面除去。
[0063]Δ:玻璃基板表面殘留有若干的氧化鈰粒子。
[0064]X:可觀察到氧化鈰粒子的殘留。
[0065][表 I]
【權(quán)利要求】
1.清洗劑，它是用于對用含氧化鈰的研磨劑研磨后的玻璃基板進(jìn)行清洗的清洗劑，其特征在于，該清洗劑是包含(A)有機(jī)膦酸、(B)多元羧酸鹽、(C)芳族磺酸和(D)胺一環(huán)氧烷加成物的水系清洗劑。
2.如權(quán)利要求1所述的清洗劑，其特征在于，相對于所述(A)有機(jī)膦酸、所述(B)多元羧酸鹽、所述(C)芳族磺酸和所述(D)胺一環(huán)氧燒加成物的總量,包含0.01~50質(zhì)量％的所述⑷有機(jī)膦酸、0.01~10質(zhì)量％的所述⑶多元羧酸鹽、0.01~50質(zhì)量％的所述(C)芳族磺酸、0.02~10質(zhì)量％的所述(D)胺一環(huán)氧烷加成物。
3.如權(quán)利要求1或2所述的清洗劑，其特征在于，所述(A)有機(jī)膦酸是具有以式-P(=0)(OH)2表示的基團(tuán)結(jié)合于碳原子的結(jié)構(gòu)的有機(jī)化合物。
4.如權(quán)利要求1~3中任一項(xiàng)所述的清洗劑，其特征在于，所述(D)胺一環(huán)氧烷加成物是亞烷基二胺的環(huán)氧丙烷-環(huán)氧乙烷加成物。
5.如權(quán)利要求1~4中任一項(xiàng)所述的清洗劑，其特征在于，包含所述(A)有機(jī)膦酸、所述(B)多元羧酸鹽、所述(C)芳族磺酸、所述(D)胺一環(huán)氧烷加成物和水，且相對于所述(A)至(D)的各成分及水的總量，含有55~98質(zhì)量％的水。
6.玻璃基板的清洗方法，其特征在于，包括: 使用含有氧化鈰的研磨劑對玻璃基板進(jìn)行研磨的研磨工序；以及 利用權(quán)利要求1~5中任一項(xiàng)所述的清洗劑對該研磨工序后的該玻璃基板進(jìn)行清洗的清洗工序。
7.如權(quán)利要求6所述的玻璃基板的清洗方法，其特征在于，所述研磨劑包含以氧化鈰為主成分且含有稀土類元素的研磨磨粒。
8.如權(quán)利要求6或7所述的玻璃`基板的清洗方法，其特征在于，所述清洗工序中，以單片式的方式清洗所述玻璃基板。
9.如權(quán)利要求6~8中任一項(xiàng)所述的玻璃基板的清洗方法，其特征在于，使用用水將所述清洗劑稀釋而得的稀釋清洗液，對所述研磨工序后的該玻璃基板進(jìn)行清洗。
10.如權(quán)利要求6~9中任一項(xiàng)所述的玻璃基板的清洗方法，其特征在于，所述清洗工序中，對于連續(xù)地搬運(yùn)的所述玻璃基板的兩面，一邊噴射所述清洗劑或所述稀釋清洗液一邊用刷子進(jìn)行擦洗。
【文檔編號】B08B3/02GK103562366SQ201280022749
【公開日】2014年2月5日 申請日期:2012年5月24日 優(yōu)先權(quán)日:2011年5月24日
【發(fā)明者】榎本久男, 佐原幸治, 金子愛子, 石川智章, 橫山哲史, 前柳佳孝, 田中 明 申請人:旭硝子株式會社, 帕卡股份有限公司