專利名稱：均勻清洗裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及光學(xué)器件領(lǐng)域，尤其涉及一種鏡片的均勻清洗裝置。
背景技術(shù)：
隨著電子技術(shù)的發(fā)展，數(shù)碼相機(jī)、攝像機(jī)等設(shè)備的使用越來(lái)越廣泛。在數(shù)碼相機(jī)、攝像機(jī)等設(shè)備的制造過(guò)程中，光學(xué)器件是不可缺少的部件。其中使用的圓形光學(xué)玻璃鏡片一般是先通過(guò)選原材料、切割、超聲波清洗，再進(jìn)行鍍膜、光譜及外觀檢測(cè)，接著將玻璃鏡片粘結(jié)在一起形成玻璃方柱，再通過(guò)內(nèi)圓切割機(jī)將玻璃方柱切成小塊小塊的玻璃方柱，最后通過(guò)磨圓機(jī)進(jìn)行磨圓、泡膠、清洗、干燥，得到所需的光學(xué)鏡片。其中，鏡片的清洗工藝是光學(xué)鏡片加工中的一道重要工序，其直接影響到光學(xué)鏡片的質(zhì)量。目前鏡片的清洗是放置在 清洗槽內(nèi)，通過(guò)超聲波進(jìn)行清洗。由于承載鏡片的夾具在通過(guò)設(shè)備在快下慢上的運(yùn)動(dòng)過(guò)程中，清洗槽的邊角不均勻，使得鏡片上的雜質(zhì)聚流到一個(gè)角落，在運(yùn)動(dòng)過(guò)程中又被帶入清洗的純水內(nèi)，影響了鏡片的清洗質(zhì)量。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明克服了現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、水流均勻的均勻清洗裝置。為達(dá)到上述目的，本發(fā)明采用的技術(shù)方案為一種均勻清洗裝置，包括槽體，所述槽體的下端設(shè)置有超聲波發(fā)生器，所述槽體的側(cè)壁上端分別設(shè)置有擋板，所述擋板的邊緣設(shè)置有梯形凸起，所述相鄰梯形凸起之間為凹面梯形齒。本發(fā)明一個(gè)較佳實(shí)施例中，均勻清洗裝置進(jìn)一步包括所述擋板上的凹面梯形齒設(shè)置在同一個(gè)平面上。本發(fā)明一個(gè)較佳實(shí)施例中，均勻清洗裝置進(jìn)一步包括所述相鄰梯形凸起、相鄰凹面梯形齒的形狀相同。本發(fā)明解決了背景技術(shù)中存在的缺陷，本發(fā)明通過(guò)打磨機(jī)將擋板上的尖角打磨成凹面梯形齒，使得水流的地方平整，水流帶動(dòng)雜質(zhì)從水槽的四周溢出，快速且均勻的去除了水中的雜質(zhì)，保證鏡片的清洗質(zhì)量。


下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)一步說(shuō)明。圖I是本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意 圖中1、槽體，2、超聲波發(fā)生器，3、擋板，4、梯形凸起，5、凹面梯形齒。
具體實(shí)施例方式現(xiàn)在結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)的說(shuō)明，這些附圖均為簡(jiǎn)化的示意圖，僅以示意方式說(shuō)明本發(fā)明的基本結(jié)構(gòu)，因此其僅顯示與本發(fā)明有關(guān)的構(gòu)成。如圖I所示，一種均勻清洗裝置，包括槽體I，所述槽體I的下端設(shè)置有超聲波發(fā)生器2，通過(guò)振動(dòng)帶動(dòng)槽體I內(nèi)的水不斷地沖擊鏡片表面，使鏡片上的雜質(zhì)快速地剝落，清洗效果好，而且速度快，對(duì)鏡片表面無(wú)損傷，達(dá)到很好的清洗效果。本發(fā)明優(yōu)選所述槽體I的側(cè)壁上端分別設(shè)置有擋板3，所述擋板3的邊緣設(shè)置有梯形凸起4，所述相鄰梯形凸起4之間為凹面梯形齒5，并且所述擋板3上的凹面梯形齒5設(shè)置在同一個(gè)平面上，所述相鄰梯形凸起4、相鄰凹面梯形齒5的形狀相同。水流的地方平整，水流帶動(dòng)雜質(zhì)從水槽的四周溢出，快速且均勻的去除了水中的雜質(zhì)，保證鏡片的清洗質(zhì)量，提聞了鏡片的良品率。以上依據(jù)本發(fā)明的理想實(shí)施例為啟示，通過(guò)上述的說(shuō)明內(nèi)容，相關(guān)人員完全可以 在不偏離本項(xiàng)發(fā)明技術(shù)思想的范圍內(nèi)，進(jìn)行多樣的變更以及修改。本項(xiàng)發(fā)明的技術(shù)性范圍并不局限于說(shuō)明書上的內(nèi)容，必須要根據(jù)權(quán)利要求范圍來(lái)確定技術(shù)性范圍。
權(quán)利要求
1.一種均勻清洗裝置，包括槽體，所述槽體的下端設(shè)置有超聲波發(fā)生器，其特征在于所述槽體的側(cè)壁上端分別設(shè)置有擋板，所述擋板的邊緣設(shè)置有梯形凸起，所述相鄰梯形凸起之間為凹面梯形齒。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的均勻清洗裝置，其特征在于所述擋板上的凹面梯形齒設(shè)置在同一個(gè)平面上。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的均勻清洗裝置，其特征在于所述相鄰梯形凸起、相鄰凹面梯形齒的形狀相同。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種均勻清洗裝置，包括槽體，所述槽體的下端設(shè)置有超聲波發(fā)生器，所述槽體的側(cè)壁上端分別設(shè)置有擋板，所述擋板的邊緣設(shè)置有梯形凸起，所述相鄰梯形凸起之間為凹面梯形齒，所述擋板上的凹面梯形齒設(shè)置在同一個(gè)平面上，所述相鄰梯形凸起、相鄰凹面梯形齒的形狀相同。本發(fā)明通過(guò)打磨機(jī)將擋板上的尖角打磨成凹面梯形齒，使得水流的地方平整，水流帶動(dòng)雜質(zhì)從水槽的四周溢出，快速且均勻的去除了水中的雜質(zhì)，保證鏡片的清洗質(zhì)量。
文檔編號(hào)B08B3/12GK102836840SQ20111017124
公開日2012年12月26日 申請(qǐng)日期2011年6月23日 優(yōu)先權(quán)日2011年6月23日
發(fā)明者奐微微 申請(qǐng)人:蘇州五方光電科技有限公司