專利名稱：電極箔沖洗裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種電極箔生產(chǎn)過程中的清洗技術(shù)，具體涉及一種電極箔沖 洗裝置。
背景技術(shù)：
電極箔生產(chǎn)過程中腐蝕、化成工序使用大量的自來水及純水噴淋沖洗，常規(guī) 腐蝕工序用3道自來水沖洗和3道純水沖洗、化成工序用5道純水沖洗，其目的 是利用水沖洗鋁箔表面，去除箔表面腐蝕酸液、化成藥液、氫氧化物及鋁粉等雜 質(zhì)。
現(xiàn)有一套電極箔腐蝕、化成生產(chǎn)線中的電極箔沖洗裝置，如圖1、 2所示， 該裝置是將寬度為500mm的電極箔1放置在存水槽2中，存水槽內(nèi)還設(shè)有底輥筒 3,電極箔套在底輥筒上并可上下運行，電極箔的兩側(cè)面分別設(shè)有一排沖洗管4， 沖洗管的位置靠近電^及箔并距離存水槽液面50mm，沖洗管的管壁上對應電極箔 的位置設(shè)有01mm的沖洗孔5，沖洗孔沿電極箔寬幅面上均勻分布，相鄰間距為 lOmra，共設(shè)有51個。
此裝置每道沖洗水流量為1000L/H，用水量比較大。 發(fā)明內(nèi)容
本實用新型的目的是克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種用水量節(jié)省的電極箔沖 洗裝置。
本實用新型的技術(shù)方案是 一種電極箔沖洗裝置，包括電極箔、存水槽、沖 洗管和沖洗孔，所述電極箔放置在存水槽中，電極箔的寬度為500mm，電極箔的 兩側(cè)面分別設(shè)有一排沖洗管，沖洗管的位置靠近電極箔并距離存水槽液面 100-300mm，沖洗管的管壁上對應電極箔的位置設(shè)有Ol. 2-3誦的沖洗孔，沖洗 孔沿電極箔寬幅面上均勻分布，相鄰間距為30-100mm。
所述沖洗管與電極箔的距離最好為20mm，沖洗管距離存水槽液面最好為 150mm，所述沖洗孔的直徑最好為1. 2mm，沖洗孔的相鄰間距最好為50mm。
本實用新型的有益效果是該裝置減少了每道噴淋沖洗水的量，可以節(jié)約近 60%用水。

圖1是現(xiàn)有電極箔沖洗裝置的結(jié)構(gòu)示意圖； 圖2是現(xiàn)有電極箔沖洗裝置中沖洗管的結(jié)構(gòu)示意圖； 圖3是本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖； 圖4是本實用新型中沖洗管的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式

以下結(jié)合附圖和具體實施方式
對本實用新型作進一步說明
如圖3、 4所示 一種電極箔沖洗裝置，包括電極箔6、存水槽7、沖洗管8 和沖洗孔9，所述電極箔6放置在存水槽7中，電極箔6的寬度為500ram，電極 箔6的兩側(cè)面分別設(shè)有一排沖洗管8，沖洗管8的位置與電極箔6距離20mm，并 距離存水槽7液面150rnra,沖洗管8的管壁上對應電極箔6的位置設(shè)有Ol. 2mm 的沖洗孔9，沖洗孔9沿電極箔6寬幅面上均勻分布，相鄰間距為50mm，共設(shè)有 10個。
本實用新型沖洗裝置使沖洗管距液面150mrn，利用從孔噴出的水濺射到箔表 面上，在箔表面形成直徑約70隨的扇形分布水流，水流扇形交叉淋洗箔面。
由于扇形分布的水流在邊緣部分水流量明顯減少，故將沖洗孔間距定為 50mm使每個沖洗孔形成的扇形水流交叉重疊，確保沖洗徹底。
由于原先O lmm沖洗孔易被水垢堵塞，現(xiàn)在沖洗孔改為①1. 2圍。
當改進后的沖洗管噴射出的水流速度是以前的1. 5倍時根據(jù)流體計算公式 Q=S*V,算出改進后沖洗管流量為 1000L/H 兀*1雖102
-=- =2.36 Q=424L/H
0 兀*1.2*1.2*1.5乂*20
通過對產(chǎn)生線的改進計量后，每道沖洗水在400L/H時，沖洗效果即可達到 以前的效果，從面達到節(jié)約水的效果。
權(quán)利要求1、一種電極箔沖洗裝置，包括電極箔、存水槽、沖洗管和沖洗孔，其特征在于所述電極箔放置在存水槽中，電極箔的寬度為500mm，電極箔的兩側(cè)面分別設(shè)有一排沖洗管，沖洗管的位置靠近電極箔并距離存水槽液面100-300mm，沖洗管的管壁上對應電極箔的位置設(shè)有Φ1.2-3mm的沖洗孔，沖洗孔沿電極箔寬幅面上均勻分布，相鄰間距為30-100mm。
2、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的電極箔沖洗裝置，其特征在于所述沖洗管與電極箔的距離為20mm。
3、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的電極箔沖洗裝置，其特征在于所述沖洗管距離存水槽液面為150mra。
4、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的電極箔沖洗裝置，其特征在于所述沖洗孔的直徑為1. 2mm。
5、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的電極箔沖洗裝置，其特征在于所述沖洗孔的相鄰間距為50mm。
專利摘要本實用新型提供了一種用水量節(jié)省的電極箔沖洗裝置，包括電極箔、存水槽、沖洗管和沖洗孔，所述電極箔放置在存水槽中，電極箔的寬度為500mm，電極箔的兩側(cè)面分別設(shè)有一排沖洗管，沖洗管的位置靠近電極箔并距離存水槽液面100-300mm，沖洗管的管壁上對應電極箔的位置設(shè)有Φ1.2mm-Φ3mm的沖洗孔，沖洗孔沿電極箔寬幅面上均勻分布，相鄰間距為30-100mm。有益效果是該裝置減少了每道噴淋沖洗水的量，可以節(jié)約近60％用水。
文檔編號B08B3/04GK201366417SQ20092003569
公開日2009年12月23日 申請日期2009年3月16日 優(yōu)先權(quán)日2009年3月16日
發(fā)明者喬正山, 馬坤松 申請人:揚州宏遠電子有限公司