專(zhuān)利名稱：基板的處理裝置及處理方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及通過(guò)以規(guī)定的溫度而被加熱的處理液來(lái)對(duì)基板的表面進(jìn)行處理的基板的處理裝置及處理方法。
背景技術(shù)：
在用于液晶顯示裝置中的玻璃制的基板上形成電路圖形。當(dāng)在基板上形成電路圖形時(shí)，采用平版印刷工藝。對(duì)于平版印刷工藝來(lái)說(shuō)，如眾所周知的那樣，將抗蝕劑涂敷在上述基板上，并經(jīng)由形成有電路圖形的掩模來(lái)對(duì)該抗蝕劑進(jìn)行光的照射。
接著，將抗蝕劑的未照射到光的部分或者將照射了光的部分除去，對(duì)基板的已除去抗蝕劑的部分進(jìn)行蝕刻，在蝕刻后多次反復(fù)進(jìn)行除去抗蝕劑等一系列工序，通過(guò)這樣，在上述基板上形成電路圖形。
在這樣的平版印刷工藝中，具有在上述基板上利用顯影液、蝕刻液或者用于在蝕刻后將抗蝕劑除去的剝離液等來(lái)對(duì)基板進(jìn)行處理的工序，以及用清洗液進(jìn)行清洗的工序，在清洗后將附著殘留在基板上的清洗液除去的工序成為必要。
以前，在對(duì)基板進(jìn)行上述一系列處理時(shí)，利用將軸線呈水平配置的輸送輥，將上述基板以水平狀態(tài)依次輸送到各個(gè)處理室內(nèi)，在各處理室內(nèi)進(jìn)行上述的各種處理。
可是，最近在液晶顯示裝置中使用的玻璃制成的基板存在大型化以及薄型化的傾向。因此，如果水平輸送基板，則輸送輥之間的基板撓曲將會(huì)增大，所以，會(huì)發(fā)生各處理室內(nèi)的處理不能沿著基板的整個(gè)板面均勻地進(jìn)行的情況。
而且，如果基板大型化，則輸送該基板用的設(shè)置有輸送輥的輸送軸的尺寸變長(zhǎng)，同時(shí)，向基板上供給的處理液增多，對(duì)應(yīng)于基板上的處理液的量，施加在上述輸送軸上的荷重增大，所以輸送軸的撓曲增大。因此，基板不僅因自重而撓曲，而且還與輸送軸一同撓曲，所以，也會(huì)因?yàn)樵撉闆r而往往不能進(jìn)行均勻的處理。
因此，最近為了減少基板的撓曲，正在進(jìn)行一種一邊使基板傾斜規(guī)定的角度來(lái)輸送，一邊進(jìn)行處理的方法。
可是，當(dāng)使用作為處理液的剝離液對(duì)基板進(jìn)行處理時(shí)，為了提高抗蝕劑的剝離效果，將剝離液加熱到70～80度后進(jìn)行供給。在水平輸送基板的情況下，因?yàn)楸还┙o到基板的形成電路圖形的表面(上表面)的剝離液滯留在該表面上，所以基板的溫度被維持在與剝離液的溫度大致相同的溫度。因此，能夠有效地進(jìn)行抗蝕劑的剝離。
可是，如上所述，在使基板傾斜規(guī)定的角度輸送的情況下，即使將加熱至規(guī)定溫度的剝離液供給到成為傾斜方向的上側(cè)的表面，該剝離液也會(huì)以很快的速度從基板表面的上端流到下端。而且，為了減少基板的塌陷，越增大傾斜角度，剝離液從基板表面流下來(lái)的時(shí)間就越短。
這樣，如果剝離液以很快的速度從基板表面流下，則基板難以利用剝離液來(lái)升高溫度。因此，發(fā)生不能可靠地進(jìn)行利用剝離液將抗蝕劑有效地除去的情況。
因此，考慮沿著基板表面的上下方向以規(guī)定的間隔配置多個(gè)噴嘴體，從各噴嘴體供給處理液，以便能夠沿著上下方向使基板溫度上升。
可是，如果從沿著基板表面的上下方向配置的多個(gè)噴嘴體供給處理液，則從多個(gè)噴嘴體供給的處理液隨著向基板表面的下部流動(dòng)，而使流量增多。因此，基板的下部溫度比上部高，上下方向不能以均勻的溫度進(jìn)行加熱，所以由于溫度差的原因，利用處理液進(jìn)行的處理也往往不均勻。
本發(fā)明的目的在于提供一種基板的處理裝置及處理方法，能夠在使基板傾斜輸送的情況下，利用處理液并沿著上下方向以不產(chǎn)生溫度差的方式均勻地對(duì)該基板進(jìn)行加熱并處理。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是一種利用加熱至規(guī)定溫度的處理液來(lái)對(duì)被輸送基板的表面進(jìn)行處理的基板的處理裝置，其特征在于，包括輸送單元，以規(guī)定的角度使上述表面呈傾斜方向上側(cè)來(lái)傾斜地輸送上述基板；第一供給單元，向由該輸送單元輸送的基板的、成為傾斜方向上側(cè)的上述表面供給上述處理液；和第二供給單元，向由該輸送單元輸送的基板的、成為傾斜方向下側(cè)的背面的上部供給上述處理液。
本發(fā)明是一種利用加熱到了規(guī)定溫度的處理液對(duì)被輸送的基板的表面進(jìn)行處理的基板的處理方法，其特征在于，包括以規(guī)定的角度使上述表面呈傾斜方向上側(cè)來(lái)傾斜地輸送上述基板的工序；向被輸送基板的成為傾斜方向上側(cè)的上述表面供給被加熱至規(guī)定溫度的處理液的工序；和向被輸送基板的成為傾斜方向下側(cè)的背面的上部供給被加熱至規(guī)定溫度的處理液的工序。
如果采用本發(fā)明，則不僅基板的表面，而且背面的上部也能夠被供給有處理液，所以，就流過(guò)基板表面的處理液的流量而言，即使下部比上部多，但是通過(guò)供給至背面上部的處理液，而能夠?qū)⒒寮訜岬缴舷路较虼笾戮鶆虻臏囟取?br>

圖1表示的是本發(fā)明的第一實(shí)施方式，是利用輸送單元輸送導(dǎo)向部件的前面?zhèn)鹊幕宓恼晥D。
圖2表示的是由輸送單元輸送的基板以及設(shè)置在基板的背面?zhèn)鹊膶?dǎo)向部件的縱截面圖。
圖3是導(dǎo)向部件的立體圖。
圖4是表示本發(fā)明的第二實(shí)施方式的導(dǎo)向部件的立體圖。
圖5是表示本發(fā)明的第三實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)圖。
標(biāo)號(hào)說(shuō)明1輸送單元，2驅(qū)動(dòng)輥，3驅(qū)動(dòng)源，7支持輥，11，導(dǎo)向部件，13阻擋部件，14噴嘴體(第一供液?jiǎn)卧?，15供液管，16分支管(第二供液?jiǎn)卧?，17間隙。
具體實(shí)施例方式
以下，參照

本發(fā)明的實(shí)施方式。
圖1至圖3表示的是本發(fā)明的第一實(shí)施方式，圖1是表示通過(guò)輸送單元1以規(guī)定的角度、例如以75度的角度傾斜地輸送基板W的立體圖。上述輸送單元1包括軸線相對(duì)于水平面以傾斜15度的角度而配置的多個(gè)驅(qū)動(dòng)輥2。如圖2所示，驅(qū)動(dòng)輥2被安裝在通過(guò)驅(qū)動(dòng)源3而旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)的第一安裝軸4上。
在作為上述基板W的傾斜方向下側(cè)的背面?zhèn)?，與被輸送的基板W平行、即以75度的角度傾斜配置的多個(gè)第二安裝軸5，沿著基板W的輸送方向以規(guī)定的間隔、且通過(guò)各個(gè)軸承6可旋轉(zhuǎn)地支撐其上下端部而被設(shè)置。在各第二安裝軸5上，沿著各軸方向以規(guī)定的間隔且相對(duì)上述第二安裝軸5可旋轉(zhuǎn)地設(shè)置多個(gè)、在本實(shí)施方式中為三個(gè)支撐輥7。
在上述驅(qū)動(dòng)輥2的外周面支撐著上述基板W的下端，通過(guò)上述支撐輥4而支撐著背面。即，使形成有電路圖形的基板W的表面成為傾斜方向的上側(cè)，以規(guī)定的傾斜角度傾斜地支撐著基板W。而且，如果通過(guò)驅(qū)動(dòng)源3旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)上述驅(qū)動(dòng)輥2，則上述基板W一邊被支撐在支撐輥7上，一邊沿著圖1中的箭頭所示的驅(qū)動(dòng)輥2的旋轉(zhuǎn)方向而被驅(qū)動(dòng)輸送。
在由上述輸送單元1輸送的基板W的輸送線路中，在該基板W的傾斜方向下側(cè)的背面?zhèn)?，設(shè)置有板狀的導(dǎo)向部件11，其一個(gè)側(cè)面以數(shù)mm、例如5mm的間隔與基板W的背面平行相對(duì)。
上述導(dǎo)向部件11是這樣形成由具有耐藥性、且導(dǎo)熱系數(shù)低(保溫性高)的材料、例如合成樹(shù)脂等，而形成為比上述基板W大的矩形板。
如圖2和圖3所示，在上述導(dǎo)向部件11上，在與上述支撐輥7相對(duì)應(yīng)的地方，形成有使支撐輥7沿著徑向的一部分從導(dǎo)向部件11的背面向基板W一側(cè)突出的開(kāi)口部12。因此，基板W通過(guò)從導(dǎo)向部件11的開(kāi)口部12突出一部分的支撐輥7，而可移動(dòng)地被支撐著背面。
在上述導(dǎo)向部件11與上述基板W的背面相對(duì)的一個(gè)側(cè)面上，沿著導(dǎo)向部件11的上下方向離開(kāi)規(guī)定的間隔且平行地設(shè)置有截面形狀呈梯形的多個(gè)阻擋部件13，且大致沿著橫向全長(zhǎng)而設(shè)置。在該實(shí)施方式中，在沿著導(dǎo)向部件11的橫向以同一高度形成的開(kāi)口部12的下側(cè)，分別設(shè)置有上述阻擋部件13。
如圖2所示，作為處理液的剝離液，從沿著上下方向以規(guī)定的間隔而配置的作為第一供液?jiǎn)卧亩鄠€(gè)表面用噴嘴體14，而被供給到作為以75度傾斜輸送的基板W的傾斜方向的上側(cè)的表面。在處理液是剝離液的情況下，該剝離液被加熱到作為規(guī)定溫度的70～80度。如圖1中的虛線所示，對(duì)于表面用噴嘴體14來(lái)說(shuō)，在成為基板W的輸送方向的下游側(cè)的與上述導(dǎo)向部件11的橫向的一端部相對(duì)的位置，沿著上下方向以規(guī)定間隔配置而被配置，即被配置在上段、中段以及下段三個(gè)地方。
剝離液的供液管15連接在各表面用噴嘴體14上。供液管15通過(guò)第一流量控制閥21而連接在剝離液的供液源19上，從該供液管15分支出構(gòu)成第二供液?jiǎn)卧亩鄠€(gè)分支管16(圖中只示出一個(gè))。另外，供液源19有圖中未示出的加熱器，能將收容在內(nèi)部的處理液加熱到規(guī)定溫度。
各分支管16通過(guò)第二流量控制閥22，而連接于在上述導(dǎo)向部件6的上端部沿著寬度方向并以規(guī)定的間隔形成的開(kāi)口部18上。第一流量控制閥21和第二流量控制閥22能夠通過(guò)控制裝置23來(lái)設(shè)定開(kāi)度。
因此，被加熱至規(guī)定溫度的剝離液，在被供給至基板W的表面的同時(shí)，從上述開(kāi)口部18還被供給至基板W的背面和導(dǎo)向部件11之間的間隙17，即被供給至基板W的背面上部。也就是說(shuō)，種類(lèi)以及溫度相同的處理液分別按照由第一流量控制閥21和第二流量控制閥22所設(shè)定的流量，而被供給至基板W的表面和背面。
其中，在本實(shí)施方式中，從供液管15分支出三條分支管16，這些分支管16被連接在與上述表面用噴嘴14相比位于基板W的輸送方向上游側(cè)的上述導(dǎo)向部件11的上部。
被供給至上述間隙17的剝離液充滿該間隙17，如圖2中的箭頭所示，從基板W的背面上部流到下部。在上述導(dǎo)向部件11的與基板W的背面相對(duì)的一個(gè)側(cè)面上，在上下方向以規(guī)定的間隔形成沿著橫向的多個(gè)阻擋部件13。因此，沿著基板W的背面流動(dòng)的剝離液，由于位于上述間隙17上的上述阻擋部件13的阻擋，而使落下速度降低。
即，從開(kāi)口部18被供給至由基板W和導(dǎo)向部件6構(gòu)成的間隙17的上部的剝離液，由于該間隙17小而產(chǎn)生的表面張力、以及阻擋部件13的阻擋作用，而在上述間隙17中一邊滯留較長(zhǎng)的時(shí)間，一邊從間隙17的下端部流出。
在利用這樣構(gòu)成的處理裝置來(lái)剝離處理附著在基板W的表面上的抗蝕劑的情況下，如果利用輸送單元1將基板W輸送至與導(dǎo)向部件6相對(duì)的位置，則打開(kāi)第一、第二流量控制閥21、22，被加熱到供液源19的規(guī)定溫度的處理液通過(guò)供液管15，而被供給至連接有多個(gè)表面用噴嘴14以及分支管16的開(kāi)口部18。
對(duì)于被供給至開(kāi)口部18的處理液來(lái)說(shuō)，輸送基板W且其背面與導(dǎo)向部件11相對(duì)，如果在它們之間形成間隙17，則沿著該間隙17流動(dòng)。也就是說(shuō)，由于設(shè)有導(dǎo)向部件11，所以剝離液從形成上述間隙17的基板W的背面上部沿著下部流動(dòng)。
如果輸送基板W且其輸送方向的前端部與表面用噴嘴14相對(duì)，則從表面用噴嘴14流出的剝離液在基板W的背面從上方向下方流動(dòng)。當(dāng)在基板W的前端部被輸送到與表面用噴嘴14相對(duì)的位置的時(shí)，由于被供給至上述間隙17的剝離液的作用，使基板W的輸送方向的前端部的溫度上升。
因此，從表面用噴嘴14供給至基板W表面的剝離液，被供給至通過(guò)供給至導(dǎo)向部件11和基板W的間隙17的剝離液而加熱了的基板W的表面，所以該剝離液有效地作用于溫度上升了的基板W。就是說(shuō)，被供給至基板W的表面的剝離液，即使以較快的速度流過(guò)該基板W的表面，也能夠?qū)囟壬仙说幕錡呈現(xiàn)出可靠的剝離作用。
被供給到上述間隙17的剝離液，由于該間隙17小而產(chǎn)生的剝離液的表面張力、以及在1導(dǎo)向部件11上設(shè)置的阻擋部件13的阻擋作用，而在上述間隙17中滯留較長(zhǎng)時(shí)間。即，剝離液從間隙17流出的時(shí)間變長(zhǎng)。
如果剝離液在間隙17中滯留的時(shí)間變長(zhǎng)，則被供給至間隙17的剝離液能夠可靠地使基板W的溫度上升。因此，被供給至基板W的表面的剝離液即使快速地流過(guò)其表面，也能夠利用供給至其表面的剝離液，而可靠地對(duì)基板W的表面進(jìn)行剝離處理。
剝離液從沿著上下方向以規(guī)定間隔配置的三個(gè)表面用噴嘴14而被供給到基板W的表面。因此，在基板W的表面上，有可能存在處理液的流量下部比上部多的情況，所以下部比上部的溫度高。
然而，被加熱至與從連接在開(kāi)口部18上的分支管16供給到表面的剝離液相同溫度的剝離液，被供給到基板W的背面的上部。而且，被供給背面上部的剝離液以緩慢的速度流過(guò)間隙17。
因此，基板W的上部，通過(guò)被供給至背面的剝離液和被供給至表面的剝離液進(jìn)行加熱，所以，即使流到下部的剝離液的量多，也會(huì)被加熱到與上部大致相同的溫度。因此，基板W表面的上部和下部不容易產(chǎn)生溫差，所以能夠利用剝離液沿著上下方向進(jìn)行大致均勻的處理。
而且，向基板W的表面供給剝離液的上下三個(gè)表面用噴嘴14可以由第一流量控制閥21來(lái)分別控制供給量。因此，如果使從下部的表面用噴嘴14供給的剝離液的供給量比從位于上部的表面用噴嘴14供給的量少，則能夠進(jìn)一步減少基板W的上下方向的溫差。
將同一處理液、即剝離液供給至基板W的表面以及背面。因此，能夠?qū)⒐┙o至基板W的表面以及背面的剝離液統(tǒng)一回收起來(lái)循環(huán)使用，所以很方便。
圖4是表示本發(fā)明的設(shè)置在導(dǎo)向部件11上的阻擋部件的變形例的第二實(shí)施方式。該實(shí)施方式所示的阻擋部件13A相對(duì)于導(dǎo)向部件11的橫向而被分割成多個(gè)。如果使用這樣的阻擋部件13A，則如第一實(shí)施方式所示，與阻擋部件13沿著橫向全長(zhǎng)而形成的情況相比，剝離液落下時(shí)受到的的阻力小。
即，能夠利用設(shè)置在導(dǎo)向部件11上的阻擋部件的形狀或者間隙中部的大小等，來(lái)調(diào)整流過(guò)基板W和導(dǎo)向部件11之間的間隙17的剝離液受到的阻力。
另外，雖然將阻擋部件設(shè)置在導(dǎo)向部件11上，使流過(guò)間隙的剝離液受到阻力，但是通過(guò)使間隙足夠小，即使不設(shè)置阻擋部件，也能利用流過(guò)間隙的剝離液而將基板加熱到規(guī)定的溫度。
另外，作為處理液雖然舉出了剝離液為例，但如果有必要用加熱基板的剝離液以外的處理液進(jìn)行處理，則即使在剝離液以外的處理液的情況下，也能夠應(yīng)用本發(fā)明。
另外，作為處理來(lái)說(shuō)，液除了剝離液以外，有時(shí)例如使用顯影液或者蝕刻液，在顯影液的情況下，加熱到23～25度來(lái)使用，在蝕刻液的情況下，加熱到30～60度使用，能夠提高處理效果。
作為處理液來(lái)說(shuō)，雖然將與供給至表面的剝離液相同的剝離液供給至基板的背面?zhèn)鹊拈g隙中，但是也可以供給與供給至表面的處理液不同種類(lèi)的處理液、例如比剝離液便宜的處理液，只要是能夠從背面?zhèn)燃訜峄宓奶幚硪杭纯伞?br> 圖5表示本發(fā)明的第三實(shí)施方式。該實(shí)施方式不使用第一實(shí)施方式所示的導(dǎo)向部件11，將作為第二供液?jiǎn)卧谋趁嬗脟娮祗w25通過(guò)第二流量控制閥最底部連接在分支管16上。而且，將由該背面用噴嘴體25輸送的被加熱到規(guī)定的溫度的作為處理液的剝離液直接供給基板W的背面上部。
在圖5中雖然只示出了一個(gè)背面用噴嘴體25，但是背面用噴嘴體25不只一個(gè)，而是沿著基板W的輸送方向以規(guī)定的間隔配置多個(gè)。
如果采用這樣的結(jié)構(gòu)，則由背面用噴嘴體25加熱到規(guī)定溫度的剝離液被供給至輸送的基板W的背面上部，利用該剝離液加熱基板W的背面上部。被供給至基板W的背面上部的剝離液的一部分從背面的上部向下部流動(dòng)，而剩余的剝離液從基板W的背面上部落下來(lái)。
另一方面，剝離液從沿著上下方向以規(guī)定的間隔配置的多個(gè)表面用噴嘴14而被供給至基板W的表面。被供給至基板W的表面的剝離液從其表面的上部而流到下部，下部的流量比上部多。因此，基板W的表面下部的溫度比上部高。
然而，規(guī)定溫度的剝離液從背面用噴嘴體25被供給至基板W的背面上部。即，基板W的背面的上部被加熱到比下部高的溫度，基板W的背面的加熱狀態(tài)被反映在表面上。其結(jié)果，基板W的表面沿著上下方向被加熱到大致相同的溫度，所以能利用供給至其表面的剝離液進(jìn)行均勻的處理。
權(quán)利要求
1.一種基板的處理裝置，是通過(guò)加熱至規(guī)定溫度的處理液來(lái)對(duì)被輸送基板的表面進(jìn)行處理的基板的處理裝置，其特征在于，包括輸送單元，以規(guī)定的角度使所述表面呈傾斜方向上側(cè)來(lái)傾斜地輸送所述基板；第一供給單元，向由該輸送單元輸送的基板的、成為傾斜方向上側(cè)的所述表面供給所述處理液；和第二供給單元，向由該輸送單元輸送的基板的、成為傾斜方向下側(cè)的背面的上部供給所述處理液。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板的處理裝置，其特征在于在由所述輸送單元輸送的基板的背面?zhèn)龋O(shè)置有導(dǎo)向部件，使通過(guò)所述第二供液?jiǎn)卧┙o至基板的背面上部的處理液沿著基板的背面流動(dòng)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板的處理裝置，其特征在于在所述導(dǎo)向部件上，設(shè)置有阻擋部件，用于向沿著所述基板的背面流動(dòng)的處理液賦予阻力。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板的處理裝置，其特征在于所述第一供液?jiǎn)卧茄刂龌宓纳舷路较蛞砸?guī)定間隔配置的多個(gè)噴嘴體，通過(guò)流量控制閥來(lái)控制從各噴嘴體供給至所述基板的表面的處理液的供給量。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板的處理裝置，其特征在于將相同的處理液被供給至所述第一供液?jiǎn)卧退龅诙┮簡(jiǎn)卧?br> 6.一種基板的處理方法，該方法是利用加熱至規(guī)定溫度的處理液對(duì)被輸送基板的表面進(jìn)行處理的基板的處理方法，其特征在于，包括以規(guī)定的角度使所述表面呈傾斜方向上側(cè)來(lái)傾斜地輸送所述基板的工序；向被輸送基板的成為傾斜方向上側(cè)的所述表面供給被加熱至規(guī)定溫度的處理液的工序；和向被輸送基板的成為傾斜方向下側(cè)的背面的上部供給被加熱至規(guī)定溫度的處理液的工序。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的基板的處理方法，其特征在于包括使被供給至所述基板背面的上部的處理液沿著該基板的背面流動(dòng)的導(dǎo)向工序。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的基板的處理方法，其特征在于包括通過(guò)阻擋部件來(lái)使沿著所述基板背面流動(dòng)的處理液降低流速來(lái)流動(dòng)的工序。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的基板的處理方法，其特征在于使相同的處理液在所述基板的表面和背面流動(dòng)。
全文摘要
本發(fā)明提供一種能用被加熱到規(guī)定的溫度的剝離液均勻地加熱被傾斜輸送的基板進(jìn)行處理的基板的處理裝置。這是一種利用加熱至規(guī)定溫度的處理液對(duì)被輸送基板的表面進(jìn)行處理的基板的處理裝置，包括以規(guī)定的角度使表面呈傾斜方向上側(cè)而傾斜地輸送基板的輸送單元(1)；將處理液供給至由輸送單元輸送的基板的成為傾斜方向上側(cè)表面的表面用噴嘴(14)；和將上述處理液供給至由輸送單元輸送的基板的成為傾斜方向下側(cè)的背面的分支管(16)。
文檔編號(hào)B08B3/10GK1748878SQ20051010288
公開(kāi)日2006年3月22日 申請(qǐng)日期2005年9月14日 優(yōu)先權(quán)日2004年9月14日
發(fā)明者植木慎介, 西部幸伸, 磯明典 申請(qǐng)人:芝浦機(jī)械電子株式會(huì)社