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含微米級鑭系金屬氧化物的口腔組合物的制作方法

文檔序號:1484232閱讀:291來源:國知局
專利名稱:含微米級鑭系金屬氧化物的口腔組合物的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種含改良的研磨系統(tǒng)的口腔護理組合物。
US 5 718 885(Gingold)公開了選自含元素周期表中包括鑭系元素在內(nèi)的IB,IIA,IIB,IIIA,IIIB,IVB,VA,VIA,VIB,VIIB和VIIIB族金屬的化合物的微粒在治療牙質(zhì)過敏的口腔護理組合物中的應(yīng)用。更優(yōu)選地,所述金屬選自Y,Ce,Al和Zr,最優(yōu)選該金屬為Al或Zr。
該化合物以水性膠體的形式存在而且在水環(huán)境中必須能帶有陽離子電荷。它們適宜作為鹵化物、硅酸鹽、醋酸鹽、氧化物和氫氧化物存在。最優(yōu)選地,它們?yōu)檠趸铩T摶衔锞哂衼單⒚琢6取?br> US 3 573 886(Goetzinger)公開了用于拋光的含稀土氧化物和硅灰石的組合物。所公開的稀土金屬氧化物以它們自然存在的狀態(tài)使用,即含有金屬的混合物。該組合物被用于研磨玻璃。
DE 28 02 489(Bayer)公開了用于牙膏的鈰鹽溶液。氯化鈰是優(yōu)選的鹽,同時還舉出氧化鈰作為例子。但沒有公開重均粒度0.5到50μm的鑭系金屬氧化物。
US 4 165 366(Mellberg)公開了一種含研磨劑占組合物重量40到60%的預(yù)防性糊劑。盡管可以使用例如硅酸鋯、氧化鋁、氧化鈰、碳化硅等等另外的研磨劑,但優(yōu)選的研磨劑為中等尺寸的浮石粉。
GB 2 001 849(ICI)公開了用于清潔牙齒的組合物。具體地說,它公開了鑭和鑭系元素的水溶性鹽。沒有公開它們的氧化物。
盡管所有這些都可在現(xiàn)有技術(shù)中獲知,但對適合用在日用牙膏中的改良研磨劑仍有需求。因此,本發(fā)明提供了一種如權(quán)利要求1所述的口腔組合物。
本發(fā)明包括任何一種鑭系金屬氧化物的用途,這些金屬包括La,Ce,Pr,Nd,Pm,Sm,Eu,Gd,Tb,Dy,Ho,Er,Tm,Yb和Lu。然而,最優(yōu)選的為氧化鑭(La2O3)和氧化鈰(CeO2)。
優(yōu)選地,鑭系金屬氧化物具有0.5到50μm的重均粒度,優(yōu)選0.6到10μm。這樣的粒度可以按照標準程序用Malvern Mastersizer測定。
優(yōu)選地,存在于組合物的鑭系金屬氧化物占該組合物重量的0.01到5%。更優(yōu)選地占重量的0.2到3%,最優(yōu)選地占組合物重量的0.6到1.5%。
口腔組合物中的另外的研磨劑是口腔組合物領(lǐng)域中已知的任何研磨劑,包括碳酸鈣、二氧化硅、磷酸二鈣等。
當(dāng)其它的研磨劑為二氧化硅時,優(yōu)選占組合物重量的3到15%。
當(dāng)其它的研磨劑為碳酸鈣時,優(yōu)選占組合物重量的10到60%。
在本發(fā)明的第二個方面提供了占0.01到5%重量的鑭系金屬氧化物作為研磨劑在口腔組合中的應(yīng)用。
用于本發(fā)明第二方面的該組合物的優(yōu)選實施方案如對于本發(fā)明第一方面所述。
本發(fā)明的口腔組合物還包括本領(lǐng)域中常見的其它組分,例如抗微生物劑,例如三氯生、氯己定、血根堿提取物、甲硝唑、諸如氯化十六烷基吡啶的季銨化合物;雙胍類,例如二葡糖酸氯已定、海克替啶、奧替尼啶、阿來西定;和鹵代雙酚化合物,例如2,2’亞甲基二-(4-氯-6-溴苯酚);抗感染劑例如布洛芬、氟比洛爾、阿斯匹林、吲哚美辛等抗齲齒劑例如氟化鈉和氟化亞錫、氟化銨、一氟磷酸鈉、三偏磷酸鈉和酪蛋白;噬斑緩沖劑例如脲、乳酸鈣、甘油磷酸鈣和聚丙烯酸鍶;維生素如維生素A,C和E;植物提取物;脫敏劑如檸檬酸鉀、氯化鉀、酒石酸鉀、碳酸氫鉀、草酸鉀、硝酸鉀和鍶鹽;抗牙垢劑,如堿金屬焦磷酸鹽含次磷酸鹽聚合物,有機膦酸鹽和磷酸檸檬酸鹽;生物分子如細菌素、抗體、酶等;香味劑如薄荷和薄荷油;蛋白質(zhì)材料如膠原蛋白;防腐劑;遮光劑;染色劑;pH調(diào)節(jié)劑;甜味劑;藥學(xué)上可接受的載體例如淀粉、蔗糖、水或水/乙醇系統(tǒng)等;表面活性劑如陰離子、非離子、陽離子和兩性離子或兩性表面活性劑;微粒研磨劑材料例如二氧化硅、氧化鋁、碳酸鈣、磷酸二鈣、焦磷酸鈣、羥基磷灰石、三偏磷酸鹽、不溶解的六偏磷酸鹽等,包括團聚的微粒研磨劑材料,通常用量占口腔護理組合物重量的3和60%之間;保濕劑如甘油、山梨糖醇、丙二醇、木糖醇、乳糖醇等;粘合劑和增稠劑如羧甲基纖維素鈉、黃原膠、阿拉伯膠等,以及合成聚合物如聚丙烯酸酯和羧基乙烯基聚合物如Carbopol;也可包括可以增強活性成分如抗微生物劑的輸送的聚合物;用于緩沖口腔護理組合物的pH和離子強度的緩沖劑和鹽;以及其它可以包括的任選存在的成分,例如,諸如過氧化合物等漂白劑,如過氧二磷酸鉀,泡騰系統(tǒng)例如碳酸氫鈉/檸檬酸系統(tǒng),色變系統(tǒng),等等。
脂質(zhì)體也可以用于提高活性成分的輸送或穩(wěn)定性。
口腔組合物可以采用本領(lǐng)域的任何常規(guī)劑型,例如牙膏、凝膠、摩絲、氣霧劑、口香糖、糖錠、散劑、乳膏等,并且也可以被制成用于雙室型分配器的系統(tǒng)。
本發(fā)明的口腔組合物采用本領(lǐng)域技術(shù)人員公知的標準方案制成。
實施例以下實驗舉例說明氧化鈰和氧化鑭與研磨劑二氧化硅合用的令人驚訝的效果。
根據(jù)A Laboratory Method for Assessment of Dentifrice Abrasivity,JJHefferren,Journal Dent Res Vol 55 No 4 563-573(1976)中所述方案測定RDA。
根據(jù)In vitro removal of stain with dentifrices GK Stookey,TA Burkhard andBR Schemehorn Journal Dent Res Vol 61 No 11 1236-1239(1982)中所述方案測定PCR。
氧化鈰和氧化鑭均可購自Aldrich。
氧化鈰(IV)粉末,cat no21,157-5。
氧化鑭,cat no19,992-3。
因此,顯然將氧化鈰或氧化鑭加入到含研磨劑二氧化硅的標準牙膏導(dǎo)致PCR改善而未使得RDA有預(yù)期的增加。
權(quán)利要求
1.以含鑭系金屬氧化物和另一種研磨劑的混合物作為研磨劑的口腔組合物,其特征在于鑭系金屬氧化物具有0.5到50μm的重均粒度。
2.如權(quán)利要求1所述的口腔組合物,其中另外的研磨劑選自二氧化硅、碳酸鈣及其混合物。
3.前面任一權(quán)利要求所述的口腔組合物,其中鑭系金屬氧化物是氧化鑭或氧化鈰。
4.前面任一權(quán)利要求所述的口腔組合物,其中鑭系金屬氧化物具有0.6到10μm的重均粒度。
5.前面任一權(quán)利要求所述的口腔組合物,其中另外的研磨劑是碳酸鈣并占組合物重量的10到60%。
6.權(quán)利要求1-4任一所述的口腔組合物,其中另外的研磨劑是二氧化硅并占3到15%重量。
7.占0.01到5%重量的鑭系金屬氧化物在口腔組合物中作為研磨劑的應(yīng)用。
全文摘要
以含鑭系金屬氧化物和另一種研磨劑的混合物作為研磨劑的口腔組合物,其特征在于鑭系金屬氧化物具有0.5到50μm的重均粒度。
文檔編號A61Q11/00GK1767801SQ200480008963
公開日2006年5月3日 申請日期2004年3月24日 優(yōu)先權(quán)日2003年4月2日
發(fā)明者M·J·皮克勒斯 申請人:荷蘭聯(lián)合利華有限公司
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