上設(shè)有表面朝向外方(圖21的箭頭D1的方向)突出的第1突起部87和第2突起部88。第2突起部88位于比第1突起部87靠第2振動(dòng)方向(圖21的箭頭T2的方向)側(cè)的位置。利用第1突起部87形成有第1抵接面73，利用第2突起部88形成有第2抵接面75。被涂覆部47涂覆的被處理表面48在第1振動(dòng)方向(圖21的箭頭T1的方向)和第2振動(dòng)方向上在第1突起部87的第1抵接面73與第2突起部88的第2抵接面75之間延伸設(shè)置。
[0129]在本變形例中，也與第4實(shí)施方式相同地在頂端處理部42上設(shè)有第1抵接面73，第1涂層邊界面71未暴露于外部。另外，在頂端處理部42上設(shè)有第2抵接面75，第2涂層邊界面72未暴露于外部。因而，防止了由振動(dòng)帶來(lái)的外部載荷對(duì)第1涂層邊界P1和第2涂層邊界P2的集中作用。
[0130]另外，在第4實(shí)施方式以及第5變形例?第7變形例中，涂覆部47的第1涂層邊界P1和第2涂層邊界P2未暴露于外部，但是并不限于此。例如，在作為第4實(shí)施方式的變形例的第8變形例中，如圖22所示，也可以是，第1涂層邊界P1和第2涂層邊界P2暴露于外部。在本變形例中，在頂端處理部42上未設(shè)有第1抵接面73和第2抵接面75。
[0131]如圖22所示，本變形例的涂覆部47包括隨著朝向第1振動(dòng)方向(圖22的箭頭T1的方向)去而使涂覆厚度變薄的第1涂覆厚度變化部91和隨著朝向第2振動(dòng)方向(圖22的箭頭T2的方向)去而使涂覆厚度變薄的第2涂覆厚度變化部92。第1涂覆厚度變化部91朝向第1振動(dòng)方向延伸設(shè)置至第1涂層邊界P1。在第1涂層邊界P1處，第1涂覆厚度變化部91的涂覆外表面相對(duì)于第2振動(dòng)方向形成為銳角α?。優(yōu)選的是，銳角α?為45°以下的角度。通過(guò)設(shè)置如上所述的第1涂覆厚度變化部91，從而第1涂層邊界Ρ1形成為與朝向第1振動(dòng)方向的面狀不同的形狀。第2涂覆厚度變化部92朝向第2振動(dòng)方向延伸設(shè)置至第2涂層邊界Ρ2。在第2涂層邊界Ρ2處，第2涂覆厚度變化部92的涂覆外表面相對(duì)于第1振動(dòng)方向形成為銳角α2。優(yōu)選的是，銳角α2為45°以下的角度。通過(guò)設(shè)置如上所述的第2涂覆厚度變化部92，從而第2涂層邊界Ρ2形成為與朝向第2振動(dòng)方向的面狀不同的形狀。
[0132]由于第1涂層邊界Ρ1不是朝向第1振動(dòng)方向的面狀，因此在頂端處理部42向第1振動(dòng)方向和第2振動(dòng)方向進(jìn)行振動(dòng)的情況下，防止外部載荷對(duì)第1涂層邊界Ρ1的集中作用。即，第1涂覆厚度變化部91成為防止由振動(dòng)帶來(lái)的外部載荷對(duì)第1涂層邊界Ρ1的集中作用的第1防止載荷集中部。由于第2涂層邊界Ρ2不是朝向第2振動(dòng)方向的面狀，因此在頂端處理部42向第1振動(dòng)方向和第2振動(dòng)方向進(jìn)行振動(dòng)的情況下，防止了外部載荷對(duì)第2涂層邊界Ρ2的集中作用。即，第2涂覆厚度變化部92成為防止由振動(dòng)帶來(lái)的外部載荷對(duì)第2涂層邊界Ρ2的集中作用的第2防止載荷集中部。
[0133]在上述第4實(shí)施方式以及第5變形例?第8變形例中，利用第1防止載荷集中部(71、73;91)防止了由振動(dòng)帶來(lái)的外部載荷對(duì)作為涂覆部47的第1振動(dòng)方向側(cè)的邊界的第1涂層邊界Ρ1的集中作用。另外，利用第2防止載荷集中部(72、75;92)防止了由振動(dòng)帶來(lái)的外部載荷對(duì)作為涂覆部47的第2振動(dòng)方向側(cè)的邊界的第2涂層邊界P2的集中作用。
[0134](其他變形例)
[0135]根據(jù)上述實(shí)施方式和變形例，只要在探頭主體41上設(shè)有頂端處理部42即可，該頂端處理部42位于比在縱向振動(dòng)的波節(jié)位置中位于最頂端方向側(cè)的最頂端波節(jié)位置N1靠頂端方向側(cè)的位置且至少使用超聲波振動(dòng)對(duì)處理對(duì)象進(jìn)行處理。而且，只要頂端處理部42具有在處理中與處理對(duì)象相接觸的接觸表面(43;65;69)即可。而且，在頂端處理部42中，只要在除接觸表面(43;65;69)以外的表面的至少一部分上涂覆有由熱阻比探頭主體41的熱阻高的材料形成的涂覆部47即可。而且，只要被樹脂性的涂覆部47涂覆的被處理表面48被進(jìn)行表面處理而成為以1.33 X 107N/m2以上的密合強(qiáng)度覆蓋有涂覆部47的狀態(tài)即可。
[0136]以上，說(shuō)明了本發(fā)明的實(shí)施方式等，但是本發(fā)明并不限定于上述實(shí)施方式等，在不脫離本發(fā)明的主旨的范圍內(nèi)，當(dāng)然能夠進(jìn)行各種變形。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種超聲波探頭，其中，該超聲波探頭包括: 探頭主體，其沿著長(zhǎng)度軸線延伸設(shè)置，通過(guò)從基端方向向頂端方向傳遞超聲波振動(dòng)，從而該探頭主體進(jìn)行包括振動(dòng)方向與所述長(zhǎng)度軸線平行的縱向振動(dòng)在內(nèi)的振動(dòng)； 頂端處理部，其在所述探頭主體上位于比在所述縱向振動(dòng)的波節(jié)位置中位于最所述頂端方向側(cè)的最頂端波節(jié)位置靠所述頂端方向側(cè)的位置，并且至少使用所述超聲波振動(dòng)對(duì)處理對(duì)象進(jìn)行處理，該頂端處理部具有在處理中與所述處理對(duì)象相接觸的接觸表面；以及 涂覆部，其涂覆于所述頂端處理部的表面中除所述接觸表面以外的至少一部分，并由熱阻比所述探頭主體的熱阻高的材料形成。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超聲波探頭，其中， 所述涂覆部由樹脂形成， 所述探頭主體的所述頂端處理部具有被處理表面，該被處理表面設(shè)于所述表面的除所述接觸表面以外的部分，且被進(jìn)行表面處理而成為以1.33X107N/m2以上的密合強(qiáng)度覆蓋有所述涂覆部的狀態(tài)。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超聲波探頭，其中， 所述頂端處理部具有氣穴產(chǎn)生表面，該氣穴產(chǎn)生表面不與所述振動(dòng)的振動(dòng)方向平行，通過(guò)以基準(zhǔn)振幅以上的振幅進(jìn)行振動(dòng)，從而在加壓減壓作用下使液體中產(chǎn)生氣泡， 所述涂覆部涂覆于所述頂端處理部的所述表面中除所述接觸表面和所述氣穴產(chǎn)生表面以外的至少一部分。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的超聲波探頭，其中， 所述氣穴產(chǎn)生表面具有探頭頂端面，該探頭頂端面形成所述探頭主體的頂端，且不與所述長(zhǎng)度軸線平行，該探頭頂端面在由所述縱向振動(dòng)引起的所述加壓減壓作用下產(chǎn)生所述氣泡。5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的超聲波探頭，其中， 在將與所述長(zhǎng)度軸線垂直的某一個(gè)方向設(shè)為第1垂直方向并且將與所述第1垂直方向相反的方向設(shè)為第2垂直方向的情況下，通過(guò)傳遞所述超聲波振動(dòng)，從而所述探頭主體除了進(jìn)行所述縱向振動(dòng)以外還進(jìn)行振動(dòng)方向與所述第1垂直方向和所述第2垂直方向平行的橫向振動(dòng)， 所述氣穴產(chǎn)生表面具有外周產(chǎn)生表面，該外周產(chǎn)生表面朝向所述第1垂直方向或所述第2垂直方向，在由所述橫向振動(dòng)引起的所述加壓減壓作用下產(chǎn)生所述氣泡。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的超聲波探頭，其中， 所述外周產(chǎn)生表面在與所述長(zhǎng)度軸線平行的長(zhǎng)度軸線方向上位于與所述橫向振動(dòng)的波節(jié)位置不同的位置。7.一種超聲波處理裝置，其中，該超聲波處理裝置包括: 權(quán)利要求1的超聲波探頭；以及 鉗構(gòu)件，其相對(duì)于所述頂端處理部進(jìn)行打開動(dòng)作或閉合動(dòng)作，在相對(duì)于所述頂端處理部閉合的狀態(tài)下能夠在該鉗構(gòu)件與所述頂端處理部之間把持所述處理對(duì)象， 所述頂端處理部的所述接觸表面具有探頭側(cè)相對(duì)表面，該探頭側(cè)相對(duì)表面朝向所述鉗構(gòu)件的打開方向，并與所述鉗構(gòu)件相對(duì)。8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超聲波探頭，其中， 所述探頭主體從所述基端方向向所述頂端方向傳遞高頻電力， 所述頂端處理部除了使用所述超聲波振動(dòng)以外還使用高頻電流對(duì)所述處理對(duì)象進(jìn)行處理， 所述涂覆部由絕緣材料形成。9.一種超聲波處理裝置，其中，該超聲波處理裝置包括: 權(quán)利要求1的超聲波探頭；以及 筒狀的護(hù)套，所述縱向振動(dòng)的所述最頂端波節(jié)位置位于該筒狀的護(hù)套的內(nèi)部，并且所述超聲波探頭以所述頂端處理部朝向所述頂端方向突出的狀態(tài)貫穿于該筒狀的護(hù)套。10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超聲波探頭，其中， 該超聲波探頭還包括: 第1防止載荷集中部，在將所述振動(dòng)的所述振動(dòng)方向的一方設(shè)為第1振動(dòng)方向、將與所述第1振動(dòng)方向相反的方向設(shè)為第2振動(dòng)方向的情況下，該第1防止載荷集中部防止由所述振動(dòng)引起的外部載荷集中作用于所述涂覆部的所述第1振動(dòng)方向側(cè)的邊界即第1涂層邊界；以及 第2防止載荷集中部，其防止由所述振動(dòng)引起的所述外部載荷集中作用于所述涂覆部的所述第2振動(dòng)方向側(cè)的邊界即第2涂層邊界。11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的超聲波探頭，其中， 所述第1防止載荷集中部包括: 第1邊界面，其形成所述第1涂層邊界，并朝向所述第1振動(dòng)方向；以及第1抵接面，其以朝向所述第2振動(dòng)方向的狀態(tài)設(shè)于所述頂端處理部，并供所述第1邊界面抵接，該第1抵接面形成為所述第1邊界面不相對(duì)于所述第1抵接面朝向外方突出的狀態(tài)，所述第2防止載荷集中部包括: 第2邊界面，其形成所述第2涂層邊界，并朝向所述第2振動(dòng)方向；以及第2抵接面，其以朝向所述第1振動(dòng)方向的狀態(tài)設(shè)于所述頂端處理部，并供所述第2邊界面抵接，該第2抵接面形成為所述第2邊界面不相對(duì)于所述第2抵接面朝向所述外方突出的狀態(tài)。12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的超聲波探頭，其中， 所述頂端處理部包括: 第1凹表面，其從所述第1抵接面朝向所述第2振動(dòng)方向設(shè)于所述頂端處理部的所述表面，并形成為以所述第1抵接面為臺(tái)階進(jìn)行凹陷的狀態(tài)；以及 第2凹表面，其從所述第2抵接面朝向所述第1振動(dòng)方向設(shè)于所述頂端處理部的所述表面，并形成為以所述第2抵接面為臺(tái)階進(jìn)行凹陷的狀態(tài)， 所述涂覆部在覆蓋于所述第1凹表面和所述第2凹表面的所述外方側(cè)的狀態(tài)下，在所述第1抵接面與所述第2抵接面之間涂覆于所述頂端處理部的所述表面。13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的超聲波探頭，其中， 所述頂端處理部包括: 第1突起部，其所述表面朝向所述外方突出，該第1突起部形成所述第1抵接面；以及第2突起部，其設(shè)于比所述第1突起部靠所述第2振動(dòng)方向側(cè)的位置，且表面朝向所述外方突出，該第2突起部形成所述第2抵接面， 所述涂覆部在所述第1突起部的所述第1抵接面與所述第2突起部的所述第2抵接面之間涂覆于所述頂端處理部的所述表面。14.根據(jù)權(quán)利要求10所述的超聲波探頭，其中， 所述第1防止載荷集中部具有第1涂覆厚度變化部，該第1涂覆厚度變化部在所述涂覆部中朝向所述第1振動(dòng)方向延伸設(shè)置至所述第1涂層邊界，隨著朝向所述第1振動(dòng)方向去，所述涂覆部的涂覆厚度變薄，該第1涂覆厚度變化部延伸設(shè)置有涂覆外表面而成為在所述第1涂層邊界處所述涂覆部的所述涂覆外表面相對(duì)于所述第2振動(dòng)方向形成為銳角的狀態(tài)， 所述第2防止載荷集中部具有第2涂覆厚度變化部，該第2涂覆厚度變化部在所述涂覆部中朝向所述第2振動(dòng)方向延伸設(shè)置至所述第2涂層邊界，隨著朝向所述第2振動(dòng)方向去，所述涂覆部的涂覆厚度變薄，該第2涂覆厚度變化部延伸設(shè)置有所述涂覆外表面而成為在所述第2涂層邊界處所述涂覆外表面相對(duì)于所述第1振動(dòng)方向形成為銳角的狀態(tài)。15.根據(jù)權(quán)利要求10所述的超聲波探頭，其中， 所述第1振動(dòng)方向與所述縱向振動(dòng)的所述振動(dòng)方向的一方即所述頂端方向一致， 所述第2振動(dòng)方向與所述縱向振動(dòng)的所述振動(dòng)方向的另一方即所述基端方向一致。16.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超聲波探頭，其中， 所述涂覆部由聚醚醚酮、酰亞胺改性環(huán)氧樹脂或聚酰亞胺形成。
【專利摘要】超聲波探頭包括：探頭主體，其進(jìn)行包括振動(dòng)方向與所述長(zhǎng)度軸線平行的縱向振動(dòng)在內(nèi)的振動(dòng)；頂端處理部，其在所述探頭主體上位于比在所述縱向振動(dòng)的波節(jié)位置中位于最頂端方向側(cè)的所述波節(jié)位置靠所述頂端方向側(cè)的位置。所述頂端處理部具有接觸面，所述超聲波探頭具有涂覆部，該涂覆部在所述頂端處理部上涂覆于除接觸表面以外的表面的至少一部分，并由熱阻比所述探頭主體的熱阻高的材料形成。
【IPC分類】A61B18/00
【公開號(hào)】CN105451675
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201480044291
【發(fā)明人】銅庸高
【申請(qǐng)人】奧林巴斯株式會(huì)社
【公開日】2016年3月30日
【申請(qǐng)日】2014年8月7日
【公告號(hào)】EP3031417A1, US20160144204, WO2015020147A1