0微米。本領(lǐng)域技術(shù)人員將認(rèn)識(shí)到，本發(fā)明可以被配置為在激光光束21輪廓中提供等 同或大致等同于TEM-22的區(qū)域，例如HG-22和LG-22。當(dāng)光學(xué)系統(tǒng)12被配置并布置成提供 50微米的焦點(diǎn)，則當(dāng)在焦點(diǎn)22處的橫向橫截面中測(cè)量時(shí)，子光點(diǎn)的寬度將在10和20微米 之間。處理位置處的損傷將因此具有對(duì)應(yīng)的尺寸。
[0096] 為了實(shí)現(xiàn)使用最高階時(shí)子光點(diǎn)尺寸的相同大小，或在其中激光光束21具有過小 的直徑的配置中，可能有利的是光學(xué)系統(tǒng)12和/或激光源20、120進(jìn)一步包括附加的光學(xué) 部件，以增加光束的橫向橫截面直徑?？梢允褂帽绢I(lǐng)域技術(shù)人員已知的用于擴(kuò)束的任何合 適的技術(shù)。
[0097] 本發(fā)明提供了在皮膚內(nèi)部產(chǎn)生深損傷的一種手段。這樣的設(shè)備和方法可以用于任 何合適的皮膚處理，特別是皮膚中的非侵入性皺紋減少，光化性角化病減少，疤痕組織或痤 瘡和色素斑減少。該設(shè)備和方法可以用于選擇性光熱解，特別是用于燒蝕和非燒蝕技術(shù)。
[0098] 激光源20可設(shè)置在設(shè)備10的外面，并通過光纖連接到該設(shè)備。以這種方式，在分 離和固定的單元中為龐大和笨重的激光源等提供了小而輕的施加器單元。
[0099] 應(yīng)當(dāng)指出的是，上述實(shí)施方案是說明性的而非限制本發(fā)明，并且本領(lǐng)域的技術(shù)人 員將能夠設(shè)計(jì)許多替代實(shí)施方案。
[0100] 在權(quán)利要求中，置于括號(hào)之間的任何附圖標(biāo)記不應(yīng)被解釋為限制該權(quán)利要求。使 用動(dòng)詞"包括"及其變形不排除權(quán)利要求中所述的那些以外的元件或步驟的存在。元件前 面的冠詞"一"或"一個(gè)"不排除多個(gè)這種元件的存在。本發(fā)明可以通過包括若干不同元件 的硬件并且借助于適當(dāng)編程的計(jì)算機(jī)來實(shí)現(xiàn)。在設(shè)備權(quán)利要求中列舉了若干設(shè)備，這些設(shè) 備的幾個(gè)設(shè)備可以通過硬件的一個(gè)以及相同項(xiàng)來體現(xiàn)。相互不同的從屬權(quán)利要求中記載的 某些測(cè)量的純粹事實(shí)并不表示這些測(cè)量的組合不能被用于優(yōu)化。
[0101] 附圖標(biāo)記
[0102] 10 (皮膚）處理設(shè)備
[0103] 12光學(xué)系統(tǒng)
[0104] 15 皮膚
[0105] 16表皮的皮膚層
[0106] 17皮膚的真皮層
[0107] 20用于生成激光光束（21)的光源
[0108] 21激光光束
[0109] 22與皮膚組織的處理位置對(duì)應(yīng)的焦點(diǎn)
[0110] 23處理激光光束
[0111] 24用于基本模式的瑞利長(zhǎng)度
[0112] 25光點(diǎn)大小一FWHM-用于基本模式
[0113] 26用于LG01模式的瑞利長(zhǎng)度
[0114] 27光點(diǎn)大小一FWHM-用于非零強(qiáng)度的LG01區(qū)域
[0115] 28光點(diǎn)大小一FWHM-用于LG01
[0116] 31非零強(qiáng)度的第一區(qū)域
[0117] 32非零強(qiáng)度的第二區(qū)域
[0118] 33較低強(qiáng)度的第三區(qū)域
[0119] 120光源（20)的第二實(shí)施方案
[0120] 121激光腔
[0121] 122激光腔外的光學(xué)元件
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種用于使用激光處理皮膚（15)的非侵入性設(shè)備（10)，所述設(shè)備（10)包括： -光源（20)，用于生成激光光束（21); -光學(xué)系統(tǒng)（12)，其被配置并布置成從所述光源（20)接收所述激光光束（21)，并且被 進(jìn)一步配置為： -在使用中引導(dǎo)所述激光光束（21)，以便作為撞擊在要處理的所述皮膚（15)的外表面 上的處理激光光束（23)離開所述設(shè)備（10)，以及 -在使用中將所述處理激光光束（23)聚焦到與皮膚組織中的處理位置對(duì)應(yīng)的單個(gè)焦 點(diǎn)（22); 其中所述光源（20)被進(jìn)一步配置和布置為提供單一高階激光光束模式，由此所述激 光光束（21)的橫向橫截面具有： -非零光強(qiáng)度的至少第一區(qū)域（31)和第二區(qū)域（32)，以及 -第三區(qū)域（33)，布置在所述第一區(qū)域（31)和所述第二區(qū)域（32)之間，其光強(qiáng)度比所 述非零光強(qiáng)度更低； 其中所述第一區(qū)域（31)和所述第二區(qū)域（32)各自被配置為在使用過程中在所述焦點(diǎn) 中的皮膚組織中產(chǎn)生損傷，并且其中所述第三區(qū)域（33)被配置為在使用過程中避免在所 述焦點(diǎn)中產(chǎn)生在由所述第一區(qū)域和所述第二區(qū)域產(chǎn)生的損傷之間的皮膚組織中的損傷。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中所述光源（20)包括被配置和布置為以橫向模式振 蕩的激光源，所述橫向模式具有比所述激光源的基本模式更高的階數(shù)，其中所述第一區(qū)域 (31)、所述第二區(qū)域（32)和所述第三區(qū)域（33)在所述激光光束（21)的所述橫向橫截面內(nèi) 形成所述橫向模式的強(qiáng)度圖案的一部分。3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的設(shè)備，其中所述單一高階激光光束模式是厄米-高斯模式、拉 蓋爾-高斯模式或因斯-高斯模式，并且其中所述橫向模式是矩形的、圓柱形的、或橢圓形 的橫向模式。4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中所述光源（20,120)進(jìn)一步包括至少一個(gè)相位調(diào)制 光學(xué)元件（122)，其被配置并布置成提供所述單一高階激光光束模式的等同模式。5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的設(shè)備，其中所述至少一個(gè)相位調(diào)制光學(xué)元件（122)選自由以 下項(xiàng)組成的列表：空間光調(diào)制器（SLM)、衍射光學(xué)元件（DOE)、相位掩模、螺旋波片、渦旋波 片、草叉全息、Q-板、圓柱模式轉(zhuǎn)換器。6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的設(shè)備，其中所述光源（120)包括被配置為以高斯基本模式運(yùn) 行的激光腔（121)，并且所述至少一個(gè)相位調(diào)制光學(xué)元件（122)被設(shè)置在所述激光腔的外 部。7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中所述第一區(qū)域（310)、所述第二區(qū)域（32)和所述 第三區(qū)域（33)被配置為在由至少一層皮膚細(xì)胞分離的皮膚組織中產(chǎn)生損傷。8. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中所述焦點(diǎn)（22)的尺寸小于200微米，優(yōu)選小于50 微米。9. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中所述第一區(qū)域（31)和所述第二區(qū)域（32)是不連 續(xù)的，并且所述第三區(qū)域（33)被配置為貫穿所述激光光束（21)的所述橫向橫截面內(nèi)的所 述第一區(qū)域（31)和所述第二區(qū)域（32)的邊界的長(zhǎng)度來分離所述第一區(qū)域（31)和所述第 二區(qū)域（32)。10. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中所述光源（20)被配置和布置為提供某個(gè)數(shù)目的 非零光強(qiáng)度的區(qū)域（31，32)，所述數(shù)目為2到24并且包括24的范圍中的整數(shù)。11. 一種使用生成激光的設(shè)備（20)來處理皮膚（15)的非侵入性方法，所述設(shè)備（10) 包括用于生成激光光束（21)的光源（20)、以及被配置并布置為接收來自所述光源（20)的 所述激光光束（21)的光學(xué)系統(tǒng)（12); 所述方法包括： -使用所述光源（20)生成所述激光光束（21); -引導(dǎo)所述激光光束（21)通過所述光學(xué)系統(tǒng)（12)，以便作為撞擊在要處理的所述皮膚 (15)的外表面上的處理激光光束（23)離開所述設(shè)備（10)，以及 -使用所述光學(xué)系統(tǒng)（12)將所述處理激光光束（23)聚焦到與皮膚組織中的處理位置 對(duì)應(yīng)的單個(gè)焦點(diǎn)（22); 其中所述方法還包括配置和布置所述光源（20)以提供單一高階激光光束模式，由此 所述激光光束（21)的橫向橫截面具有： -非零光強(qiáng)度的至少第一區(qū)域（31)和第二區(qū)域（32)，以及 -第三區(qū)域（33)，布置在所述第一區(qū)域（31)和所述第二區(qū)域（32)之間，其光強(qiáng)度比所 述非零光強(qiáng)度更低； 其中所述第一區(qū)域（31)和所述第二區(qū)域（32)各自被配置為在所述焦點(diǎn)中的皮膚組織 中產(chǎn)生損傷，并且其中所述第三區(qū)域（33)被配置為避免在所述焦點(diǎn)中產(chǎn)生在由所述第一 區(qū)域和所述第二區(qū)域產(chǎn)生的所述損傷之間的皮膚組織中的損傷。12. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的設(shè)備，其中所述光源（20)包括被配置和布置為以橫向模式 振蕩的激光源，所述橫向模式具有比所述激光源的基本模式更高的階數(shù)，其中所述第一區(qū) 域（31)、所述第二區(qū)域（32)和所述第三區(qū)域（33)在所述激光光束（21)的所述橫向橫截面 內(nèi)形成所述橫向模式的強(qiáng)度圖案的一部分。13. -種根據(jù)權(quán)利要求1-10中任一項(xiàng)所述的設(shè)備在處理皮膚中的用途，特別是所述皮 膚中的非侵入性皺紋減少，光化性角化病、疤痕組織或痤瘡的減少，以及色素斑的減少。
【專利摘要】越來越多的非侵入性的皮膚處理設(shè)備被提供用于消費(fèi)者而不是醫(yī)療專業(yè)人員使用。這樣的家庭使用提出了新的問題，諸如安全性和處理功效。本發(fā)明改進(jìn)了現(xiàn)有的設(shè)備和處理方法。本發(fā)明提供了一種設(shè)備和方法，其中光源被配置和布置為在具有單一高階激光光束模式的激光光束(21)的橫向橫截面內(nèi)提供非零強(qiáng)度的第一區(qū)域(31)和第二區(qū)域(32)，并且第三區(qū)域(33)布置在第一區(qū)域(31)和第二區(qū)域(32)之間，其光強(qiáng)度比非零光強(qiáng)度更低。第一區(qū)域(31)和第二區(qū)域(32)被配置為在使用過程中在激光光束的焦點(diǎn)中產(chǎn)生皮膚組織中的損傷，并且第三區(qū)域(33)被配置為在使用過程中避免在焦點(diǎn)中產(chǎn)生由第一區(qū)域和第二區(qū)域產(chǎn)生的損傷之間的皮膚組織中的損傷。例如，光源可以被配置和布置為產(chǎn)生高階模式的激光，其階數(shù)高于基本模式的階數(shù)。具有基本上不同強(qiáng)度的區(qū)域的光束輪廓的強(qiáng)度圖案沿傳播軸基本上不變。這在設(shè)置在損傷區(qū)域之間的基本上無損傷的處理位置處提供了在焦點(diǎn)的皮膚組織中的區(qū)域。
【IPC分類】A61B18/20
【公開號(hào)】CN105377172
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201480039362
【發(fā)明人】M·朱納, J·A·帕勒洛, B·瓦爾格斯, M·R·霍頓
【申請(qǐng)人】皇家飛利浦有限公司
【公開日】2016年3月2日
【申請(qǐng)日】2014年7月4日
【公告號(hào)】EP3019108A1, US20160157935, WO2015004014A1