專利名稱:用于通過電子束處理容器的裝置的鐘形罩形保護(hù)系統(tǒng)的制作方法
用于通過電子束處理容器的裝置的鐘形罩形保護(hù)系統(tǒng)
本發(fā)明涉及一種處理裝置，用于通過電子束進(jìn)行容器的滅菌，所述裝置設(shè)有特殊的保護(hù)系統(tǒng)。
特別是通過美國(guó)專利2009/0045350已知用于處理的裝置，其包括具有旋轉(zhuǎn)支撐板的旋轉(zhuǎn)的圓盤傳送帶，其中的旋轉(zhuǎn)支撐板支撐以規(guī)則角度間隔布置的多個(gè)處理站，每個(gè)處理站包括具有電子束發(fā)射器的滅菌設(shè)備，以及用于將容器支撐在所述發(fā)射器下方的支撐設(shè)備，所述發(fā)射器能夠發(fā)射經(jīng)過由所述支撐設(shè)備支撐的容器的上部開口的電子束，以對(duì)容器特別是所述容器的內(nèi)壁進(jìn)行滅菌。
與常規(guī)的化學(xué)滅菌相比，通過電子束滅菌關(guān)于滅菌方面更加有效、迅速并且在處理后不留下任何殘留痕跡。
然而，電子束發(fā)射器產(chǎn)生不想要的輻射，特別是X射線，并且因而需要提供保護(hù)系
統(tǒng)或防護(hù)物以防止放射物朝外部傳播的任何風(fēng)險(xiǎn)，并由此保護(hù)操作員。保護(hù)系統(tǒng)通過由鉛基材料制成的保護(hù)外殼形成，其中放置用于滅菌的旋轉(zhuǎn)的圓盤傳送帶，以及容器的進(jìn)給和輸送星輪。這些保護(hù)系統(tǒng)復(fù)雜、笨重而且非常昂貴。
本發(fā)明的目的是建議一種在填充前對(duì)容器滅菌的處理裝置，意在克服前述缺點(diǎn)，其是高性能且迅速的，同時(shí)在設(shè)計(jì)和實(shí)施上仍然保持簡(jiǎn)單。
為此效果，本發(fā)明建議一種處理裝置，包括
-一個(gè)或多個(gè)處理站，用于通過電子束對(duì)容器進(jìn)行滅菌，每個(gè)處理站包括
-滅菌設(shè)備，其包括電子束發(fā)射器，和
-支撐設(shè)備，其將容器支撐在所述發(fā)射器下方，所述發(fā)射器能夠發(fā)射經(jīng)過由所述支撐設(shè)備支撐的容器的上部開口的電子束，以對(duì)容器特別是容器的內(nèi)壁進(jìn)行滅菌，以及
-保護(hù)系統(tǒng)，其用于阻擋由一個(gè)或多個(gè)發(fā)射器發(fā)射的放射物，
其特征在于，對(duì)于每個(gè)處理站，所述保護(hù)系統(tǒng)包括
-上部部分，其組裝到發(fā)射器，
-下部部分，其組裝到支撐設(shè)備，和
-移動(dòng)設(shè)備，其能夠進(jìn)行上部部分相對(duì)于下部部分在縮進(jìn)位置和至少一個(gè)作用位置之間的相對(duì)移動(dòng)，在所述縮進(jìn)位置中，上部部分與下部部分分離，以允許由支撐設(shè)備支撐的容器在發(fā)射器下方的定位，在所述作用位置中，上部部分和下部部分形成保護(hù)外殼，發(fā)射器和由支撐設(shè)備支撐的容器定位在該保護(hù)外殼中，以進(jìn)行滅菌操作。
根據(jù)本發(fā)明，滅菌通過電子束進(jìn)行，并且對(duì)于每個(gè)發(fā)射器保護(hù)系統(tǒng)包括下部部分和上部部分，下部部分和上部部分能夠朝彼此移動(dòng)以形成保護(hù)外殼，其中相同的上部部分和/或相同的下部部分能夠?yàn)槎鄠€(gè)發(fā)射器或者該裝置的所有發(fā)射器所共有。關(guān)于包含整個(gè)裝置的外殼，根據(jù)本發(fā)明的保護(hù)外殼在設(shè)計(jì)和生產(chǎn)上簡(jiǎn)單、更便宜且更簡(jiǎn)潔。
根據(jù)實(shí)施方式，所述上部部分包括第一小板或第一板，稱為上板，其上安裝發(fā)射器，所述發(fā)射器向下延伸，所述下部部分包括第二小板或第二板，稱為下板，構(gòu)成所述支撐設(shè)備，其中至少上部部分或下部部分包括裙緣或管狀壁形式，與其板一起形成鐘形罩。
根據(jù)實(shí)施方式，上部部分具有由上板和管狀壁形成的鐘形罩形式，當(dāng)上部部分處于作用位置時(shí)，下部部分的下板布置在鐘形罩中。有利地，下板具有向下延伸的管狀壁，并且該管狀壁能夠在上部部分的管狀壁中滑動(dòng)，這些管狀壁的重疊保證了由一個(gè)或多個(gè)發(fā)射器發(fā)射的放射物的阻擋。
根據(jù)實(shí)施方式，所述發(fā)射器設(shè)有管狀噴嘴，該管狀噴嘴基本豎直地在上板下方延伸并能夠借助其遠(yuǎn)端輸送由發(fā)射器產(chǎn)生的電子束，在上部部分朝著作用位置移動(dòng)期間，所述噴嘴能夠通過經(jīng)過所述容器的上部開口而被引入所述容器中。根據(jù)實(shí)施方式，所述移動(dòng)設(shè)備能夠使上部部分在第一操作位置和末端操作位置之間移動(dòng)，在第一操作位置中，噴嘴的遠(yuǎn)端布置在容器的上部開口上方，在末端操作位置中，所述噴嘴延伸到容器中。
根據(jù)另一實(shí)施方式，保護(hù)系統(tǒng)的一個(gè)部分是鐘形罩的形式，所述鐘形罩基本上借助其自由邊緣壓緊另一部分的板。根據(jù)另一實(shí)施方式，上部部分和下部部分中的每一個(gè)由鐘形罩形成，兩個(gè)鐘形罩基本上在單獨(dú)的作用位置相互壓靠，或者更優(yōu)選地，在操作位置中相互部分地嵌入。
根據(jù)實(shí)施方式，所述裝置是逐步操作的線性類型的裝置，包括至少一個(gè)或多個(gè)通道或平行處理線，例如從I到12條處理線，更優(yōu)選地，從6到12條線，每條線設(shè)有至少一個(gè) 處理站。根據(jù)實(shí)施方式，處理裝置包括
-多條線，其相互平行，
-至少一排處理站，其包括用于每條處理線的處理站，
-保護(hù)系統(tǒng)的上部部分，其包括上板和管狀壁，所述上板支撐所述排處理站的所有發(fā)射器，所述管狀壁從所述上板向下延伸并包圍該排的所有所述發(fā)射器，
-保護(hù)系統(tǒng)的下部部分，其包括下板，該下板能夠支撐用于每條處理線的至少一個(gè)容器，構(gòu)成所述排的處理站的支撐設(shè)備，
-所述移動(dòng)設(shè)備能夠移動(dòng)所述上板和/或下板，更優(yōu)選地，能夠移動(dòng)所述上板。
保護(hù)系統(tǒng)包括關(guān)聯(lián)的相同鐘形罩和相同下板，用于處理站的排的所有處理站。
該裝置可包括至少兩個(gè)連續(xù)排的處理站，其相互平行。在此情形下，更優(yōu)選地，保護(hù)系統(tǒng)包括上部部分特別是鐘形罩和用于每排處理站的下部部分，以此方式用于形成用于每排處理站的保護(hù)外殼。
根據(jù)另一實(shí)施方式，該裝置是旋轉(zhuǎn)類型的裝置，并且包括圓盤傳送帶，該圓盤傳送帶包括上部旋轉(zhuǎn)板，支撐以規(guī)則角度間隔布置的多個(gè)處理站，保護(hù)系統(tǒng)包括用于每個(gè)處理站的上部部分和下部部分。
有利地，構(gòu)成保護(hù)系統(tǒng)的元件由鉛基材料制成。
借助電子束滅菌能夠在外殼中，特別是在置于外殼中的容器中產(chǎn)生小量臭氧。根據(jù)實(shí)施方式，所述保護(hù)系統(tǒng)包括注射設(shè)備，該注射設(shè)備能夠在借助電子束輻射期間和/或以后將產(chǎn)品注入外殼，并且特別是注入容器中以排出在輻射期間由電子束發(fā)射器產(chǎn)生的臭氧，并且由此借助于將在容器中調(diào)節(jié)的填充產(chǎn)品的臭氧來防止任何的變質(zhì)。注射產(chǎn)品是氣體產(chǎn)品或具有低沸點(diǎn)的液體產(chǎn)品，特別是例如氮?dú)獾闹行詺怏w或液氮。有利地，所述注射設(shè)備包括注射管，更優(yōu)選地沿著發(fā)射器的噴嘴延伸，所述管能夠通過在上部部分朝作用位置移動(dòng)期間經(jīng)過所述容器的上部開口而被引入所述容器中。
根據(jù)實(shí)施方式，所述保護(hù)系統(tǒng)，更優(yōu)選地保護(hù)系統(tǒng)的上部部分，并且特別是上板包括排空設(shè)備，用于朝外殼的外部排空包含在外殼中的氣體，以在上部部分相對(duì)于下部部分的相對(duì)移動(dòng)期間和/或在中性氣體注入外殼中的期間，防止外殼中的任何過壓。所述排空設(shè)備包括例如一個(gè)或多個(gè)通氣孔，更優(yōu)選地布置在保護(hù)系統(tǒng)的上部部分的壁中，并且更優(yōu)選地在保護(hù)系統(tǒng)的上部部分中，每個(gè)通氣孔更優(yōu)選地設(shè)有置于部分真空中的外管。
根據(jù)實(shí)施方式，所述保護(hù)系統(tǒng)還包括擋板系統(tǒng)，以用作在上部部分和下部部分之間的連接處的由一個(gè)或多個(gè)發(fā)射器發(fā)射的放射物的屏蔽，所述擋板系統(tǒng)包括例如下部管狀壁的環(huán)狀邊緣，其由環(huán)狀壁延伸，當(dāng)鐘形罩處于作用位置時(shí)，上部管狀壁插入形成在環(huán)狀壁和下部管狀壁之間的凹槽中。
在本發(fā)明當(dāng)前優(yōu)選具體實(shí)施方式
的以下詳細(xì)的解釋性描述期間，并參照所附的概略圖，本發(fā)明將被更好地理解并且其他的目的、細(xì)節(jié)、特征和優(yōu)勢(shì)將顯得更加清晰，
附圖中
圖I是根據(jù)本發(fā)明的處理裝置的概略側(cè)視圖，包括用于容器滅菌的處理站；、
圖2A至2C是處理站的側(cè)視圖，顯示容器滅菌期間保護(hù)系統(tǒng)的各種位置；
圖3是根據(jù)可選擇實(shí)施方式的處理裝置的概略頂視圖，包括平行的多個(gè)滅菌站；
圖4是根據(jù)圖3中截平面IV-IV的概略視圖；
圖5是根據(jù)圖3中截平面V-V的概略視圖；并且
圖6是根據(jù)可選擇實(shí)施方式的處理站的概略側(cè)視圖。
圖I顯示一種處理裝置，用于容器R的滅菌、由填充產(chǎn)品處理的容器的填充以及容器的封閉。
處理裝置包括處理線1，處理線I包括通過逐步操作的輸送系統(tǒng)10，沿著處理線I從上游到下游關(guān)于向前的方向Fl布置了用于帶來容器的站81、用于容器滅菌的處理站2、填充站82、封閉站83和用于容器的搬空站84。為了保證容器的無菌填充，整個(gè)處理線放置在無菌空氣的層流下方，例如如由箭頭F4概略顯示的下降層流。
根據(jù)本發(fā)明的裝置允許包括上部主開口的任何類型的容器R的滅菌、填充和堵塞。處理站2通過經(jīng)過容器的上部開口而允許容器內(nèi)壁的滅菌。實(shí)質(zhì)上已知的填充站82，例如基于重量的類型，允許由確定量的填充產(chǎn)品填充滅菌的容器，其中填充產(chǎn)品為液體或粘性物，例如像水、奶或果汁的液體產(chǎn)品。封閉站83或堵塞站此處使得在填充容器的上部開口上安裝蓋子成為可能。
處理站2包括由電子束發(fā)射器31形成的滅菌設(shè)備3，實(shí)質(zhì)上已知地，該滅菌設(shè)備3設(shè)有延伸形式的管狀噴嘴或管狀天線(antenne)32，發(fā)射器能夠借助于其噴嘴的遠(yuǎn)端32a輸送電子束。噴嘴的遠(yuǎn)端設(shè)有鈦片材。滅菌設(shè)備例如通過如美國(guó)專利文獻(xiàn)2008/0073549中所述的發(fā)射器形成。發(fā)射器固定安裝在稱為上板的小板或板4的下表面上，具有縱向豎直軸線A(圖2A)的其噴嘴豎直向下延伸。噴嘴被以此方式限定使得其能夠通過容器的上部開口插進(jìn)，以照射容器的內(nèi)部。參照?qǐng)D2A，板支撐件通過移動(dòng)設(shè)備9的中間物移動(dòng)地安裝在裝置的底盤C上，移動(dòng)設(shè)備9也稱為升高/降低設(shè)備，實(shí)質(zhì)上已知地，使得能夠以如箭頭F2所示的豎直平移的方式在下文描述的高縮進(jìn)位置和低操作位置之間移動(dòng)上板。
每個(gè)處理站還包括容器R的支撐設(shè)備，用于將容器保持在發(fā)射器下方，根據(jù)噴嘴的軸線A大體上居中。支撐設(shè)備包括稱為下板的固定用具或板5，其固定安裝在裝置的底盤C上，能夠支撐容器?？蛇x擇地，移動(dòng)設(shè)備作用在支撐設(shè)備上，其中上部鐘形罩固定安裝在底盤上。[0045]根據(jù)本發(fā)明的裝置包括保護(hù)系統(tǒng)或防護(hù)物，以阻擋由發(fā)射器發(fā)射的放射物，特別是X射線類型的干涉放射物。此防護(hù)系統(tǒng)包括上部部分6A和下部部分6B。上部部分具有由上板4和上部管狀壁61形成的鐘形罩6A的形狀，其中的上部管狀壁61也稱為上部裙緣，從所述上板向下延伸。上板構(gòu)成鐘形罩的底壁，上部裙緣61包圍發(fā)射器31及其天線32并延伸超過天線的遠(yuǎn)端32a。下部部分6B由所述下板5并由下部管狀壁62形成，下部管狀壁62也稱為下部裙緣，從所述下板5向下延伸。該裝置包括例如單個(gè)的處理線1，具有用于滅菌的單個(gè)處理站2。保護(hù)鐘形罩6A具有大體圓柱形形狀，其中其上板4具有圓盤的形狀，并且其上部裙緣61具有圓形橫向截面。下板5也具有圓盤的形狀，并且其下部裙緣62具有圓形截面，其外直徑基本上對(duì)應(yīng)于上部裙緣61的內(nèi)直徑。
參照?qǐng)D2a，在上板的高縮進(jìn)位置中，鐘形罩6A的環(huán)狀自由邊緣61a布置在下板5的上方，以此方式使得容器R能夠在所述下板上放在發(fā)射器下方并在鐘形罩下方。
為了容器的滅菌操作，如圖2B中所示，上板4借助于移動(dòng)設(shè)備9以豎直平移的方式向下朝第一操作位置移動(dòng)。在此移動(dòng)期間，鐘形罩6A覆蓋容器R，下部部分的下部裙緣62在鐘形罩的上部裙緣61中滑動(dòng)。發(fā)射器31及其天線32布置在容器的開口上方。上板 4和形成鐘形罩6A的上部裙緣61，以及設(shè)有其下部裙緣62的下板5由鉛基材料制成，并在該第一操作位置一起形成保護(hù)外殼El。在此第一操作位置，發(fā)射器31可被驅(qū)動(dòng)以輻射容器的外壁。上部裙緣61和下部裙緣62重疊足以防止任何放射物離開外殼E的高度。
上板4然后借助于移動(dòng)設(shè)備9進(jìn)一步向下移動(dòng)，到達(dá)如圖2C中所示的末端操作位置，以輻射容器的整個(gè)內(nèi)壁。在此移動(dòng)期間，下部部分的下部裙緣62在鐘形罩的上部裙緣61中滑動(dòng)。噴嘴32的長(zhǎng)度和上部裙緣61的高度被調(diào)整，以此方式使得噴嘴的遠(yuǎn)端32a在末端操作位置中布置在容器R的底部附近。
上板4然后逐步地朝著圖2B中所示的其第一低操作位置恢復(fù)。輻射然后停止，并且上板4恢復(fù)圖2A中所示的其縮進(jìn)位置。輸送機(jī)10然后被驅(qū)動(dòng)以搬空處理的容器并將其朝著填充站82轉(zhuǎn)移，并將待處理的另一容器放到發(fā)射器下方。
根據(jù)本發(fā)明的裝置能夠在Log3大小的滅菌水平下被用于不同容器的滅菌填充。
容器可以是例如附圖中概略顯示的瓶子類型，由玻璃或例如PET、PEHD或PP的塑料材料制成。填充借助于填充噴口在填充站82處進(jìn)行，并且瓶子被再次封閉，更優(yōu)選地在氮飽和環(huán)境下，在包括帽的螺旋設(shè)備的堵塞站83處再次封閉。根據(jù)實(shí)施方式，瓶子借助于被插入瓶子中并用于輸送不同產(chǎn)品的兩個(gè)平行管填充。第一管被用于輸送例如液體，比如果汁，而另一管被用于輸送例如漿狀物和/或維他命。
容器可以是《磚》形的紙盒，通常由合成的紙盒/LDPE/鋁材料形成。紙盒預(yù)先預(yù)成型并在裝置中開口地輸送。紙盒在其下側(cè)上開口，或者在可能設(shè)有盒蓋基體的其上側(cè)上，其熱密封至合成材料并且盒蓋旋擰在其上。在通過天線經(jīng)由其開口側(cè)插入容器中滅菌以后，紙盒通過使用填充噴口或一個(gè)或兩個(gè)管在填充站被填充，然后在封閉站被密封，更優(yōu)選地處于氮飽和環(huán)境下，其中的螺旋設(shè)備由加熱鐵塊取代。
容器可以是《磚》形的紙盒，預(yù)先預(yù)成型并已經(jīng)借助于在上部部分處熱密封而用盒蓋基體封閉，例如為32或36mm，已經(jīng)熱密封至合成材料。紙盒通過基體開口輸送到裝置中，沒有盒蓋。在通過天線經(jīng)由其開口基體插入容器中滅菌以后，填充通過管進(jìn)行，之后封閉通過將盒蓋旋擰在基體上而進(jìn)行。[0054]容器可以是由鋼或鋁制成的罐，其在填充以后卷曲，其中封閉站因而包括卷曲單
J Li o
圖3至5顯示了可選擇的實(shí)施方式，其中該裝置包括6條平行的處理線Ia-If，每條處理線包括用于容器滅菌的處理站102，其中的站根據(jù)垂直于處理線的排布置。
發(fā)射器131安裝在例如由矩形形成的相同上板104的下表面上。上板以在裝置的底盤C,上平移的方式移動(dòng)地安裝。由矩 形板形成的共同下板105構(gòu)成用于全部處理站的排的處理站2的支撐設(shè)備。
保護(hù)系統(tǒng)的上部部分由鐘形罩106A形成，鐘形罩106A由所述共同上板104和矩形截面的管狀壁或上部裙緣161構(gòu)成。保護(hù)系統(tǒng)的下部部分106B由所述共同下板05和向下延伸的管狀壁或下部裙緣162形成。
為各種處理站所共有的移動(dòng)設(shè)備109 (圖3)使得能夠在圖4中所示縮進(jìn)位置和例如如上所述的操作位置，且尤其是圖5所示的末端操作位置之間移動(dòng)上板104，以形成保護(hù)外殼E2并允許六個(gè)容器被同時(shí)滅菌。
容器R沿著6條處理線的驅(qū)動(dòng)通過具有楔形物的輸送帶110提供，其包括布置在運(yùn)送滑動(dòng)床112的任一側(cè)上的兩條環(huán)狀帶111，其中之間安裝楔狀物113。滑動(dòng)床112具有用于鐘形罩的管狀壁162的通道和下板的定位的開口 112a。
縱向引導(dǎo)唇狀物114(圖5)有利地設(shè)置在滑動(dòng)床和下板上，以沿著處理線Ia-If橫向地引導(dǎo)容器?？蛇x擇地，容器的橫向引導(dǎo)通過楔形物提供，楔形物包括例如印痕，其形狀對(duì)應(yīng)于待輸送容器的形狀。
為了將一排容器置于下板105上，上板被置于高縮進(jìn)位置，并且輸送機(jī)被致動(dòng)以在方向F3上移動(dòng)楔形物并由此在發(fā)射器下方推動(dòng)一排容器，例如圖4中所示。輸送機(jī)然后在反向方向上被驅(qū)動(dòng)以朝著后部移動(dòng)楔形物，并且特別地將開口 112a與在發(fā)射器下方推動(dòng)容器的楔形物分離，從而允許鐘形罩106A朝其操作位置移動(dòng)。
該裝置的每條線還可包括如上所述的在處理站102的下游的填充站和堵塞站。
可選擇地，每條處理線Ia-If 包括按照垂直于處理線的多排布置的多個(gè)處理站。對(duì)于處理站的每一排來說，保護(hù)系統(tǒng)包括鐘形罩和下部部分，鐘形罩的共同上板支撐該排的站的發(fā)射器，下部部分的下板構(gòu)成該排的站的支撐設(shè)備。更優(yōu)選地，鐘形罩通過共同的移動(dòng)設(shè)備109在其縮進(jìn)位置及其作用位置之間移動(dòng)。處理站的排彼此移位，以當(dāng)鐘形罩處于作用位置時(shí)，允許楔形物定位在兩個(gè)連續(xù)的鐘形罩之間。
根據(jù)本發(fā)明的保護(hù)系統(tǒng)還可以與用于旋轉(zhuǎn)類型的處理的裝置一起使用，其中用于旋轉(zhuǎn)類型的處理的裝置包括具有環(huán)狀或圓形板形式的支撐板或上板的圓盤傳送帶，其中的圓盤傳送帶意在被安裝成圍繞豎直旋轉(zhuǎn)軸線關(guān)于固定框架旋轉(zhuǎn)。支撐板支撐以規(guī)則角度間隔圍繞旋轉(zhuǎn)軸線布置的多個(gè)處理站。每個(gè)站包括安裝在板的下表面上的發(fā)射器。保護(hù)系統(tǒng)的上部部分由支撐板和包圍發(fā)射器并從板的下表面延伸的多個(gè)上部裙緣構(gòu)成。每個(gè)上部裙緣與上板一起形成與處理站關(guān)聯(lián)的鐘形罩。每個(gè)處理站的支撐設(shè)備包括設(shè)有下部裙緣的固定用具或下板。每個(gè)處理站包括移動(dòng)設(shè)備，移動(dòng)設(shè)備在此作用在下板上，以將其在分離位置和操作位置之間從上板移動(dòng)，用于例如借助于進(jìn)給星輪和輸送星輪，允許容器定位在下板上并將容器從下板中去除，其中具有其上部裙緣的下板與上部鐘形罩一起形成保護(hù)外殼。
圖6顯示處理站的可選擇實(shí)施方式，其不同于圖2A至2C中所示的處理站在于其包括用于將產(chǎn)品注入外殼中以排除在借助于電子束的滅菌期間產(chǎn)生的臭氧的注射設(shè)備以及用于將氣體排出外殼外部的排空設(shè)備的事實(shí)。處理站202包括如之前的滅菌設(shè)備203，滅菌設(shè)備203包括電子束發(fā)射器231，電子束發(fā)射器231設(shè)有管狀天線232并安裝在上板204上。保護(hù)系統(tǒng)包括由上板204和上部管狀壁261形成的上部鐘形罩206A，以及由下板205形成且設(shè)有下部管狀壁262的下部部分206B。上板能夠通過移動(dòng)設(shè)備209以豎直平移的方式移動(dòng)，并且用作用于容器R的支撐的下板固定安裝在底盤C"上。
處理站包括固定安裝在鐘形罩中的管道或注射管7。此管平行于發(fā)射器的天線延伸，其中管的遠(yuǎn)端70a基本布置在與天線遠(yuǎn)側(cè)的遠(yuǎn)端232a相同水平的位置。此管以基本密封的方式通過鐘形罩的上板204。管被用于緊接輻射以后，例如當(dāng)上板4處于其第一操作位置時(shí)將中性氣體，例如氮?dú)庾⑷肴萜鱎中，以在容器R中產(chǎn)生過壓并由此將由輻射產(chǎn)生的臭氧排出容器的外部?？蛇x擇地，中性氣體的注入還在輻射期間進(jìn)行，例如當(dāng)上板從其末端操作位置朝其第一操作位置移動(dòng)時(shí)。可選擇地，管被用于在輻射期間和/或緊接輻射以后將液氮例如液氮的液滴輸送到容器R中，其中液氮轉(zhuǎn)化為氣態(tài)然后逐漸地填充容器并逐漸地將臭氧沖出容器的外部。
上板104設(shè)有沒入外殼E3中的通氣孔341，以防止外殼內(nèi)部的過壓。這些通氣孔用于排空包含在外殼中并在上板204下降直到其末端操作位置期間被壓縮的氣體。另外，這些通氣孔被用于排空在容器中由輻射產(chǎn)生并借助于注射的氮推到容器R外部的臭氧。由鉛制成的擋板系統(tǒng)242設(shè)置在上板的下表面上，以用于在滅菌期間產(chǎn)生的X射線的屏蔽，并由此防止放射物借助于所述通氣孔傳播到外殼的外部。通氣孔連接到置于部分真空中的柔性管243，以吸入由鐘形罩和下部部分的相對(duì)移動(dòng)而壓縮的氣體并且特別地吸入由輻射產(chǎn)生的臭氧。
有利地，也由鉛制成的擋板系統(tǒng)263被設(shè)置，以防止放射物在上部部分206A和下部部分206B之間的界面上的任何傳播，更精確地，在鐘形罩的上部管狀壁261和下部管狀壁262之間的界面處。擋板系統(tǒng)263包括從下部管狀壁262的自由邊緣朝外部延伸并借助于豎直環(huán)狀壁263b延伸的水平環(huán)狀邊緣263a，豎直環(huán)狀壁263b平行于下部管狀壁向上延伸并基本到達(dá)下板205。此環(huán)狀壁263b與下部管狀壁262 —起形成環(huán)狀凹槽264，其中在鐘形罩相對(duì)于下板205的相對(duì)移動(dòng)期間滑動(dòng)鐘形罩的上部管狀壁261。
雖然本發(fā)明已經(jīng)結(jié)合具體實(shí)施方式
進(jìn)行了描述，但是當(dāng)然明顯的是本發(fā)明決不限制于此并且本發(fā)明包括所述設(shè)備的所有技術(shù)等效形式及其組合，如果后者落入本發(fā)明范圍內(nèi)的話。
權(quán)利要求
1.一種處理裝置，包括 -一個(gè)或多個(gè)處理站(2、102、202)，其用于通過電子束對(duì)容器(R)進(jìn)行滅菌，每個(gè)處理站包括滅菌設(shè)備(3、103、203)和支撐設(shè)備(4、104、204)，所述滅菌設(shè)備(3、103、203)包括設(shè)有管狀噴嘴(32、132、232)的電子束發(fā)射器(31、131、231)，所述支撐設(shè)備(4、104、204)用于將容器支撐在所述發(fā)射器下方，所述發(fā)射器能夠發(fā)射經(jīng)過由所述支撐設(shè)備支撐的容器的上部開口的電子束，以對(duì)所述容器進(jìn)行滅菌，以及 -保護(hù)系統(tǒng)，其用于阻擋由所述發(fā)射器或多個(gè)發(fā)射器發(fā)射的放射物， 其特征在于，對(duì)于每個(gè)處理站，所述保護(hù)系統(tǒng)包括 -上部部分(M、106A、206A)，所述上部部分組裝到所述發(fā)射器，所述上部部分具有由稱為上板的第一板(4、104、204)并由管狀壁(61、161、261)形成的鐘形罩的形狀，所述發(fā)射器安裝在所述第一板上并且所述發(fā)射器的噴嘴基本上在所述上板下方豎直地延伸， -下部部分(6B、106B、206B)，所述下部部分包括第二板(5、105、205)，所述第二板稱為下板，構(gòu)成所述支撐設(shè)備，和 -移動(dòng)設(shè)備(9、109、209)，所述移動(dòng)設(shè)備能夠進(jìn)行所述上部部分相對(duì)于所述下部部分在縮進(jìn)位置和操作位置之間的相對(duì)移動(dòng)，在所述縮進(jìn)位置中，所述上部部分與所述下部部分分離，以允許由所述支撐設(shè)備支撐的容器在所述發(fā)射器下方的定位，在所述操作位置中，所述上部部分和所述下部部分形成保護(hù)外殼(E1、E2、E3)，所述發(fā)射器和由所述支撐設(shè)備支撐的所述容器定位在所述保護(hù)外殼(E1、E2、E3)中，當(dāng)所述上部部分處于作用位置時(shí)，所述下板布置在所述鐘形罩中，所述移動(dòng)設(shè)備能夠使所述上部部分在第一操作位置和末端操作位置之間移動(dòng)，在所述第一操作位置中，所述噴嘴(32、132、232)的遠(yuǎn)端(32a、232a)布置在所述容器的所述上部開口上方，在所述末端操作位置中，所述噴嘴在所述容器中延伸。
2.根據(jù)權(quán)利要求
I所述的裝置，其特征在于，所述下板(5、105、205)具有向下延伸的管狀壁(62、162、262)，所述管狀壁(62、162、262)能夠在所述上部部分(6A、106A、206A)的所述管狀壁(61、161、162)中滑動(dòng)。
3.根據(jù)權(quán)利要求
I或2所述的處理裝置，其特征在于，所述裝置是逐步操作的線性類型的裝置，包括至少一條或多條平行的處理線(Ia-If)，每條線設(shè)有至少一個(gè)處理站(2、102、202)。
4.根據(jù)權(quán)利要求
3所述的處理裝置，其特征在于，所述處理裝置包括 -多條線(Ia-If)，其相互平行， -至少一排處理站，其包括用于每條處理線的處理站， -所述鐘形罩的所述上板(4、104、204)，其支撐所述排處理站的所有發(fā)射器(31、131、231)并且所述鐘形罩的所述管狀壁(61、161、261)從所述上板向下延伸并包圍所述排的所有所述發(fā)射器， -所述下板(5、105、205)，其構(gòu)成所述排的所述處理站的所述支撐設(shè)備， < -所述移動(dòng)設(shè)備，其能夠移動(dòng)所述上板和/或所述下板。
5.根據(jù)權(quán)利要求
I或2所述的裝置，其特征在于，所述裝置是旋轉(zhuǎn)類型的裝置，所述裝置包括圓盤傳送帶，所述圓盤傳送帶包括上部旋轉(zhuǎn)板，支撐以規(guī)則角度間隔布置的多個(gè)處理站，所述保護(hù)系統(tǒng)包括用于每個(gè)處理站的上部部分和下部部分。
6.根據(jù)權(quán)利要求
I至5中任一項(xiàng)所述的處理裝置，其特征在于，構(gòu)成所述保護(hù)系統(tǒng)的元件(4、61、5、62 ;104、105、161、162 ;204、261、205、262)由鉛基材料制成。
7.根據(jù)權(quán)利要求
I至6中任一項(xiàng)所述的處理裝置，其特征在于，所述保護(hù)系統(tǒng)包括能夠?qū)a(chǎn)品注入所述外殼(E3)中以排出在輻射期間由所述電子束發(fā)射器(231)產(chǎn)生的臭氧的注射設(shè)備⑵。
8.根據(jù)權(quán)利要求
7所述的處理裝置，其特征在于，所述注射設(shè)備包括注射管(7)，所述管能夠通過在所述上部部分(206A)朝所述作用位置移動(dòng)期間經(jīng)過所述容器的上部開口而被引入所述容器(R)中。
9.根據(jù)權(quán)利要求
I至8中任一項(xiàng)所述的處理裝置，其特征在于，所述保護(hù)系統(tǒng)包括排空設(shè)備(241、242)，用于朝所述外殼(E3)的外部排空包含在所述外殼中的氣體。
10.根據(jù)權(quán)利要求
I至9中任一項(xiàng)所述的處理裝置，其特征在于，所述保護(hù)系統(tǒng)包括擋板系統(tǒng)(263)，以用作在所述上部部分(206A)和所述下部部分(206B)之間的連接處的由所述發(fā)射器或多個(gè)發(fā)射器發(fā)射的放射物的屏蔽。
11.根據(jù)權(quán)利要求
10所述的處理裝置，其特征在于，所述擋板系統(tǒng)包括所述下部管狀壁(262)的環(huán)狀邊緣(263a)，所述環(huán)狀邊緣(263a)經(jīng)由環(huán)狀壁(263b)延伸，當(dāng)所述鐘形罩(206A)處于作用位置時(shí)，所述上部管狀壁(261)插入形成在所述環(huán)狀壁和所述下部管狀壁之間的凹槽(264)中。
專利摘要
本發(fā)明涉及一種處理裝置，包括保護(hù)系統(tǒng)和一個(gè)或多個(gè)處理站(2)，每個(gè)處理站(2)包括電子束發(fā)射器(31)和用于將容器支撐在所述發(fā)射器下方的支撐設(shè)備(5)，所述發(fā)射器能夠發(fā)射經(jīng)過由所述支撐設(shè)備支撐的容器的上部開口的電子束，以對(duì)所述容器進(jìn)行滅菌，所述保護(hù)系統(tǒng)用于阻擋由發(fā)射器發(fā)射的放射物。所述保護(hù)系統(tǒng)包括連接到發(fā)射器的上部部分(6A)、連接到支撐設(shè)備的下部部分(6B)和移動(dòng)設(shè)備(9)，移動(dòng)設(shè)備(9)能夠使上部部分在縮進(jìn)位置和至少一個(gè)操作位置之間相對(duì)于下部部分移動(dòng)，在操作位置中，所述部分形成保護(hù)外殼(E1)，發(fā)射器和容器定位在保護(hù)外殼(E1)中。
文檔編號(hào)G21K5/10GKCN102711847SQ201080059800
公開日2012年10月3日 申請(qǐng)日期2010年12月27日
發(fā)明者菲利普·勒瓊, 菲利普·馬奎特 申請(qǐng)人:Hema公司導(dǎo)出引文BiBTeX, EndNote, RefMan