本發(fā)明涉及放射線成像裝置、放射線成像系統(tǒng)以及放射線成像裝置的制造方法。

背景技術：

1、日本專利公開no.2015-052535公開了一種放射線檢測裝置，該放射線檢測裝置包括提供有像素陣列和電連接部的傳感器面板，用于從像素陣列向外部讀出信號的布線構件連接到電連接部。根據日本專利公開no.2015-052535，當布線構件被壓接至電連接部時，通過用框狀的支撐構件支撐電連接部來抑制傳感器面板的破損和變形。

技術實現思路

1、在日本專利公開no.2015-052535所示的布置中，當環(huán)境溫度改變時，氣壓差可能出現在由框狀的支撐構件、傳感器面板和支撐基板圍繞的空間和外部空間之間。如果傳感器面板由于氣壓差而變形，則可能在由傳感器面板獲得的圖像中出現偽影。

2、本發(fā)明的一些實施例提供有利于抑制圖像質量的劣化的技術。

3、根據一些實施例，提供了一種放射線成像裝置，該放射線成像裝置包括：傳感器面板，所述傳感器面板包括提供有像素陣列和電連接部的第一表面以及位于與所述第一表面的相對側的第二表面；布線構件，所述布線構件連接到所述電連接部；以及支撐基座，所述支撐基座被配置為通過第一支撐構件和第二支撐構件支撐所述第二表面，其中在對所述第一表面的正交投影中，所述電連接部被提供在提供有所述第一支撐構件的區(qū)域與所述傳感器面板的外邊緣之間，所述第一支撐構件被提供以便與所述像素陣列重疊，并且所述第二支撐構件被提供以便與所述電連接部重疊，所述第二支撐構件被固定至所述第二表面、所述支撐基座以及所述第一支撐構件中的至少一個，以及從所述第一支撐構件延伸到所述外邊緣的通路被提供在所述第二表面和所述支撐基座之間以便在對所述第一表面的正交投影中不與所述第二支撐構件重疊。

4、根據一些其它實施例，提供了一種用于放射線成像裝置的制造方法，所述方法包括：準備傳感器面板，所述傳感器面板包括提供有像素陣列和電連接部的第一表面以及位于與所述第一表面的相對側的第二表面；以及將所述傳感器面板固定至支撐基座，所述支撐基座通過第一支撐構件支撐所述第二表面，其中在對所述第一表面的正交投影中，所述電連接部被提供在提供有所述第一支撐構件的區(qū)域與所述傳感器面板的外邊緣之間，所述第一支撐構件被提供以便與所述像素陣列重疊，所述方法進一步包括在所述第二表面和所述支撐基座之間提供第二支撐構件以便與所述電連接部重疊以支撐所述電連接部，以及將布線構件連接到所述電連接部，所述第二支撐構件被固定至所述第二表面、所述支撐基座以及所述第一支撐構件中的至少一個，以及從所述第一支撐構件延伸到所述外邊緣的通路被提供在所述第二表面和所述支撐基座之間以便在對所述第一表面的正交投影中不與所述第二支撐構件重疊。

5、本發(fā)明的更多特征將從(參考附圖)對示例性實施例的以下描述中變得清楚。

技術特征：

1.一種放射線成像裝置，包括：

2.根據權利要求1所述的裝置，其中在0.5mpa的壓力在從所述第一表面到所述第二表面的方向上被施加到所述電連接部的情況下，所述外邊緣的位移量不大于所述傳感器面板的厚度。

3.根據權利要求1所述的裝置，其中在0.5mpa的壓力在從所述第一表面到所述第二表面的方向上被施加到所述電連接部的情況下，所述外邊緣的位移量不大于100μm。

4.根據權利要求1所述的裝置，其中所述第二支撐構件的彈性模量不小于所述第一支撐構件的彈性模量。

5.根據權利要求1所述的裝置，其中包括所述第二支撐構件的多個第二支撐構件被提供。

6.根據權利要求5所述的裝置，其中所述多個第二支撐構件中的至少兩個第二支撐構件沿著所述外邊緣中的一邊被間斷地提供。

7.根據權利要求5所述的裝置，其中在對所述第一表面的正交投影中，所述多個第二支撐構件被間斷地提供以便圍繞所述像素陣列。

8.根據權利要求5所述的裝置，其中所述第一表面被提供有包括所述電連接部的多個電連接部，以及

9.根據權利要求1所述的裝置，其中所述第一表面被提供有包括所述電連接部的多個電連接部，以及

10.根據權利要求8所述的裝置，其中在對所述第一表面的正交投影中，所述多個電連接部包括被提供在電連接部不與所述第二支撐構件重疊的位置處的電連接部。

11.根據權利要求1所述的裝置，其中所述布線構件被提供有被配置為操作所述像素陣列的電路。

12.根據權利要求1所述的裝置，其中閃爍體被提供以便覆蓋所述第一表面。

13.一種放射線成像系統(tǒng)，包括：

14.一種用于放射線成像裝置的制造方法，所述方法包括：

15.根據權利要求14所述的方法，其中所述連接是在所述提供之后執(zhí)行的，

16.根據權利要求15所述的方法，進一步包括在所述固定與所述拆卸之間檢查所述放射線成像裝置，

技術總結
本發(fā)明公開了放射線成像裝置、放射線成像系統(tǒng)以及放射線成像裝置的制造方法。提供了一種放射線成像裝置，包括：傳感器面板，包括提供有像素陣列和電連接部的第一表面以及第二表面；以及基座，被配置為通過第一構件和第二構件支撐第二表面。在對第一表面的正交投影中，電連接部被提供在提供有第一構件的區(qū)域和面板的外邊緣之間，該第一構件被提供以與像素陣列重疊，并且第二構件被提供以與電連接部重疊。第二構件被固定至第二表面、基座和第一構件中的至少一個，并且從第一構件延伸到外邊緣的通路被提供在第二表面和基座之間，以在對第一表面的正交投影中不與第二構件重疊。

技術研發(fā)人員：宮下魁人,權田貴昭,保科智啟,木田曉
受保護的技術使用者：佳能株式會社
技術研發(fā)日：
技術公布日：2024/12/17