本發(fā)明涉及一種足底保健裝置。

背景技術(shù)：

在現(xiàn)有的技術(shù)中的足底保健裝置依靠足部的重力來決定按摩的強度，因此其按摩強度較低，按摩效果不佳。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明要解決的問題是提供一種足底保健裝置，克服了現(xiàn)有技術(shù)中的不足。

為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用的技術(shù)方案是：足底保健裝置，包括底板、相對設(shè)置的兩個內(nèi)側(cè)架板、相對設(shè)置的兩個外側(cè)架板、按摩皮帶、電機、前足架和后足架，所述內(nèi)側(cè)架板固定于所述底板上，所述按摩皮帶內(nèi)間隔設(shè)置多個支撐輥，所述支撐輥的兩端可轉(zhuǎn)動的連接于所述內(nèi)層架板上，所述電機與其中一個所述支撐輥連接，所述按摩皮帶表面間隔設(shè)置多個按摩凸楞；

所述外側(cè)架板位于所述內(nèi)側(cè)架板的外部，所述外側(cè)架板的上表面具有滑槽，所述前足架的底部具有與所述滑槽適配的滑塊，所述后足架固定于所述外側(cè)架板上，當所述前足架沿所述滑槽方向滑動時，所述前足架靠近或背離所述后足架，所述前足架的內(nèi)側(cè)壁和所述后足架的內(nèi)側(cè)壁上均具有凹槽，兩個所述凹槽拼接后能容納使用者足部的邊緣，所述前足架和所述后足架圍成的區(qū)域位于所述按摩皮帶的正上方。

進一步，還包括多個導向柱和與所述導向柱對應(yīng)的多個彈簧，所述外側(cè)架板的底部具有與所述導向柱一一對應(yīng)的導向孔，所述導向柱的下端固定于所述底板上，上端伸入所述導向孔內(nèi)，所述彈簧套于所述導向柱上，所述彈簧的兩端分別固定于所述底板上和所述外側(cè)架板上。

本發(fā)明具有的優(yōu)點和積極效果是：由于采用上述技術(shù)方案，結(jié)構(gòu)設(shè)計合理，能對足底進行有效的位置固定，按摩效果好。

附圖說明

圖1是本發(fā)明的整體結(jié)構(gòu)示意圖；

圖中：1-底板；2-外側(cè)架板；3-導向柱；4-按摩皮帶；5-按摩凸楞；6-前足架；7-后足架；8-凹槽；9-滑槽。

具體實施方式

如圖1所示，本發(fā)明提供一種足底保健裝置，包括底板1、相對設(shè)置的兩個內(nèi)側(cè)架板(圖中未示)、相對設(shè)置的兩個外側(cè)架板2、按摩皮帶4、電機(圖中未示)、前足架6和后足架7，內(nèi)側(cè)架板固定于底板1上，按摩皮帶4內(nèi)間隔設(shè)置多個支撐輥(圖中未示)，支撐輥的兩端可轉(zhuǎn)動的連接于內(nèi)層架板上，電機與其中一個支撐輥連接，按摩皮帶4表面間隔設(shè)置多個按摩凸楞5；

外側(cè)架板2位于內(nèi)側(cè)架板的外部，外側(cè)架板2的上表面具有滑槽9，前足架6的底部具有與滑槽9適配的滑塊(圖中未示)，后足架7固定于外側(cè)架板2上，當前足架6沿滑槽9方向滑動時，前足架6靠近或背離后足架7，前足架6的內(nèi)側(cè)壁和后足架7的內(nèi)側(cè)壁上均具有凹槽8，兩個凹槽8拼接后能容納使用者足部的邊緣，前足架6和后足架7圍成的區(qū)域位于按摩皮帶4的正上方。

使用時，將足部放入前足架6和后足架7之間，使前足架6朝向靠近后足架7的位置移動，將足部固定，啟動電機，使按摩皮帶4轉(zhuǎn)動，此時按摩凸楞在足底滾動，達到按摩的目的，由于足部被固定，因此按摩凸楞5不能將足部頂起，以此加強了按摩凸楞5對足部向上的壓力，以達到增加按摩強度的目的。

還包括多個導向柱3和與導向柱3對應(yīng)的多個彈簧，外側(cè)架板2的底部具有與導向柱3一一對應(yīng)的導向孔，導向柱3的下端固定于底板1上，上端伸入導向孔內(nèi)，彈簧套于導向柱3上，彈簧的兩端分別固定于底板1上和外側(cè)架板上。

導向柱3和彈簧的設(shè)置可使足部與按摩皮帶4之間的距離具有一定的自由度，避免足部與按摩皮帶4接觸過于緊密導致按摩皮帶4不能正常轉(zhuǎn)動，也避免足部與按摩皮帶4之間接觸不良導致的按摩效果不佳。

以上對本發(fā)明的實施例進行了詳細說明，但所述內(nèi)容僅為本發(fā)明的較佳實施例，不能被認為用于限定本發(fā)明的實施范圍。凡依本發(fā)明申請范圍所作的均等變化與改進等，均應(yīng)仍歸屬于本發(fā)明的專利涵蓋范圍之內(nèi)。