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一種包含反向凹槽的穿刺器密封膜以及穿刺器密封組件的制作方法

文檔序號:11337253閱讀:來源:國知局

技術特征:

1.一種包含反向凹槽的穿刺器密封膜,所述密封膜包括近端開口和遠端孔以及從遠端孔延伸至近端開口的密封壁,所述密封壁包括近端面和遠端面;所述遠端孔由密封唇形成,用于容納插入的器械并形成密封,所述密封唇包含中心軸線和大致與所述軸線垂直的橫平面;其特征在于:

a)所述密封壁包含主體回轉壁和多個反向凹槽,所述反向凹槽從所述主體回轉壁的遠端面向近端面凹陷且所述反向凹槽的開口朝向遠端面,而從近端面的視角所述反向凹槽的外形表現(xiàn)為從近端面上隆起的筋;

b)在密封唇臨近區(qū)域內,每一個所述反向凹槽包含兩個側壁,且所述側壁是兩邊限定的從密封唇開始橫向向外延伸的且寬度逐漸增大的面域。

2.如權利要求1所述的密封膜,其特征在于,所述主體回轉壁為截圓錐形。

3.如權利要求1所述的密封膜,其特征在于,所述反向凹槽的截面形狀是U型或者V型或者其中一部分是U型而另一部分是V型。

4.如權利要求1所述的密封膜,其特征在于,所述側壁的兩邊之間夾角的幾何關系符合下述公式:

且α+θ≤90°;

其中:

θ=在密封唇臨近區(qū)域的反向凹槽的側壁的兩條邊之間的夾角;

α=密封唇臨近區(qū)域的截圓錐形主體回轉壁的母線與橫平面的夾角即導向角;

arctan=反正切函數(shù);

cos=余弦函數(shù);

π=圓周率;

R=半徑;

Ri=設計通過密封膜的手術器械的最大半徑;

R0=密封唇的半徑;

P=反向凹槽的數(shù)目。

5.如權利要求3所述的密封膜,其特征在于,所述反向凹槽的壁厚小于所述主體回轉壁的壁厚。

6.如權利要求1所述的密封膜,其特征在于,還包括與所述主體回轉壁延伸相交或同時與主體回轉壁和所述反向凹槽延伸相交的凸緣,以及從凸緣延伸至近端開口的包括至少一個橫向褶皺的外部浮動部分。

7.一種穿刺器密封組件,其特征在于,包括如權利要求1-5中任一項所述的密封膜,所述密封組件還包含下固定環(huán),上固定環(huán),保護裝置,上殼體和上蓋;所述密封膜還包括與所述主體回轉壁延伸相交的或同時與所述主體回轉壁和所述反向凹槽延伸相交的凸緣,以及從凸緣延伸至近端開口的包括多個橫向褶皺的外部浮動部分;所述密封膜和保護裝置被夾在上固定環(huán)和下固定環(huán)之間,所述密封膜的近端開口被夾在上殼體和上蓋之間。

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