本發(fā)明涉及射頻治療技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種可調(diào)節(jié)治療深度的雙極射頻治療裝置。

背景技術(shù)：

皮膚皺紋等皮膚衰老癥狀，主要源于真皮膠原流失，目前通過對真皮膠原進(jìn)行熱刺激，促進(jìn)膠原蛋白變性新生來進(jìn)行相關(guān)適應(yīng)癥的治療。具體的有采用激光，射頻等物理技術(shù)領(lǐng)域的治療設(shè)備。由于射頻具有非侵入性，廣受廣大客戶的喜愛。目前非侵入式射頻治療，其加熱層次較淺，不能很好的解決真皮深層的皮膚狀況問題，通常治療后效果維持時間較短。一些方法采用將表皮進(jìn)行制冷，進(jìn)行大劑量的射頻治療方案，也有一些方案，采用侵入式治療，如將射頻電極制作成微針，侵入皮下進(jìn)行發(fā)射射頻能量的方式進(jìn)行治療。這些方法不僅嚴(yán)重增加了設(shè)備成本，同時對皮膚的損傷嚴(yán)重，存在治療不舒適的情況。

在低頻射頻治療領(lǐng)域中，尤其是其輸出頻率主要在20MHz以下的頻率，其加熱方式主要為阻抗加熱。加熱組織間的能量Q＝I²*R*t(其中I為電流密度，R為人體組織的阻抗,t為電流流經(jīng)的時間)。由于射頻電流沿著阻抗最小的方向流動，其電流主要聚集在表皮真皮交界處，此區(qū)域的阻抗與真皮層相當(dāng)，但遠(yuǎn)低于表皮層的阻抗。

因此，如何改善低頻射頻治療下的治療深度，來提高治療精度和治療效率是本領(lǐng)域技術(shù)人員需要解決的問題。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

鑒于以上所述現(xiàn)有技術(shù)的缺點，本發(fā)明的目的在于提供一種可調(diào)節(jié)治療深度的雙極射頻治療裝置，用于解決現(xiàn)有低頻射頻治療中治療深度不理想以及治療精準(zhǔn)度不高的問題。

為實現(xiàn)上述目的及其他相關(guān)目的，本發(fā)明提供以下技術(shù)方案：

一種可調(diào)節(jié)治療深度的雙極射頻治療裝置，包括：至少一個或多個射頻發(fā)生器，每個射頻發(fā)生器上通過唯一連接第一射頻電極和第二射頻電極來形成一組雙極性射頻治療單元，各所述第一射頻電極和各所述第二射頻電極分別按順序和逆序排列來同向布設(shè)形成一治療面，且在相同或/和不同射頻發(fā)生器所在的第一射頻電極或/和第二射頻電極之間至少設(shè)置有一個磁場發(fā)生機構(gòu)。

優(yōu)選地，具有一個所述射頻發(fā)生器，在所述射頻發(fā)生器上的第一射頻電極和第二射頻電極之間所在治療面上設(shè)置有至少一個所述磁場發(fā)生機構(gòu)。

優(yōu)選地，具有多個所述射頻發(fā)生器，在各所述第一射頻電極和各第二射頻電極之間所在治療面上或/和在所述第一射頻電極和第二射頻電極之間所在治療面上設(shè)置有至少一個所述磁場發(fā)生機構(gòu)。

優(yōu)選地，各所述磁場發(fā)生機構(gòu)在所述治療面上呈間隔設(shè)置。

優(yōu)選地，所述磁場發(fā)生機構(gòu)包括一電磁線圈和用于根據(jù)設(shè)定要求對所述電磁線圈施加不同電流方向或/和不同電流大小的電源控制模塊。

優(yōu)選地，所述磁場發(fā)生機構(gòu)為磁鐵。

優(yōu)選地，所述射頻發(fā)生器為低頻射頻發(fā)生器。

優(yōu)選地，各所述第一射頻電極在所述治療面上具有第一相等間隔，各所述第二射頻電極在所述治療面上具有第二相等間隔。

優(yōu)選地，所述第一射頻電極和第二射頻電極的形狀分別為矩形狀射頻電極。

優(yōu)選地，所述第一射頻電極和第二射頻電極的形狀分別為環(huán)狀射頻電極。

如上所述，本發(fā)明具有以下有益效果：本發(fā)明在治療面上設(shè)置磁場發(fā)生機構(gòu)來產(chǎn)生磁場，利用磁場相互吸引和相互排斥的效應(yīng)來改善皮下射頻電流的疏密度和聚集度，從而來控制皮下射頻能量的穿透度和聚集度，從而實現(xiàn)對治療區(qū)域的精準(zhǔn)治療，進(jìn)而縮短治療時間，提升治療效率。

附圖說明

圖1為本發(fā)明可調(diào)節(jié)治療深度的雙極射頻治療裝置在具有一個磁場的射頻電流示意圖。

圖2為本發(fā)明可調(diào)節(jié)治療深度的雙極射頻治療裝置在具有兩個單獨磁場的射頻電流示意圖。

圖3為本發(fā)明可調(diào)節(jié)治療深度的雙極射頻治療裝置在具有一組磁場的多對獨立射頻電源的射頻電流示意圖。

圖4為本發(fā)明可調(diào)節(jié)治療深度的雙極射頻治療裝置在具有多組磁場的多對獨立射頻電源的射頻電流示意圖。

圖5為本發(fā)明中磁場生成機構(gòu)的一實施原理圖。

元件標(biāo)號說明

10 射頻發(fā)生器

101 第一射頻電極

102 第二射頻電極

20 磁場發(fā)生機構(gòu)

201 電磁線圈

202 電源控制模塊

具體實施方式

以下由特定的具體實施例說明本發(fā)明的實施方式，熟悉此技術(shù)的人士可由本說明書所揭露的內(nèi)容輕易地了解本發(fā)明的其他優(yōu)點及功效。

須知，本說明書所附圖式所繪示的結(jié)構(gòu)、比例、大小等，均僅用以配合說明書所揭示的內(nèi)容，以供熟悉此技術(shù)的人士了解與閱讀，并非用以限定本發(fā)明可實施的限定條件，故不具技術(shù)上的實質(zhì)意義，任何結(jié)構(gòu)的修飾、比例關(guān)系的改變或大小的調(diào)整，在不影響本發(fā)明所能產(chǎn)生的功效及所能達(dá)成的目的下，均應(yīng)仍落在本發(fā)明所揭示的技術(shù)內(nèi)容得能涵蓋的范圍內(nèi)。同時，本說明書中所引用的如“上”、“下”、“左”、“右”、“中間”及“一”等的用語，亦僅為便于敘述的明了，而非用以限定本發(fā)明可實施的范圍，其相對關(guān)系的改變或調(diào)整，在無實質(zhì)變更技術(shù)內(nèi)容下，當(dāng)亦視為本發(fā)明可實施的范疇。

請參閱圖1，本發(fā)明提供一種可調(diào)節(jié)治療深度的雙極射頻治療裝置，包括：至少一個或多個射頻發(fā)生器，每個射頻發(fā)生器上通過唯一連接第一射頻電極和第二射頻電極來形成一組雙極性射頻治療單元，各所述第一射頻電極和各所述第二射頻電極分別按順序和逆序排列來同向布設(shè)形成一治療面，且在相同或/和不同射頻發(fā)生器所在的第一射頻電極或/和第二射頻電極之間至少設(shè)置有一個磁場發(fā)生機構(gòu)。

上述雙極射頻治療裝置通過在射頻電極的電流走向之間設(shè)置磁場發(fā)生機構(gòu)來產(chǎn)生磁場，并配合射頻電極在治療面上的布設(shè)方式，通過該磁場與皮下電流自身所產(chǎn)生的磁場進(jìn)行相互影響，利用磁場相互吸引和相互排斥的效應(yīng)來改善皮下射頻電流的疏密度和聚集度，從而來控制皮下射頻能量的穿透度和聚集度，從而實現(xiàn)對治療區(qū)域的精準(zhǔn)治療，進(jìn)而縮短治療時間，提升治療效率。

在具體實施中，上述方案可以有以下幾種實施方式。

實施例1

只包括一組雙極性射頻治療單元，即只有一個射頻發(fā)生器10，如圖1和圖2，這時在第一射頻電極101和第二射頻電極102之間可以設(shè)置一個或者多個磁場發(fā)生機構(gòu)，在為多個磁場發(fā)生機構(gòu)時，該多個磁場發(fā)生機構(gòu)在治療面上間隔布設(shè)，且與第一射頻電極和第二射頻電極所在直線方向一致。通過該一個或者多個磁場發(fā)生機構(gòu)來產(chǎn)生不同強度和不同方向的磁場，從而實現(xiàn)對該第一射頻電極和第二射頻電極之間的射頻電流的多樣控制。

實施2

包括多組雙極性射頻治療單元，即具有多個射頻發(fā)生器10。如圖3，這種方案是只在間隔最近的一對射頻電極之間設(shè)置一個或者可以是多個的磁場發(fā)生機構(gòu)，依次來改善皮下射頻電流的治療深度和疏密度，相對上述實施例1，這種方案可以對皮下對路射頻電流進(jìn)行聚集度提升。

此外，如圖4，還可以在全部或者也可以是部分射頻電極之間設(shè)置磁場發(fā)生機構(gòu)，即在所有第一射頻電極101和/或第二射頻電極102之間，當(dāng)然也可以是部分第一射頻電極101和/或第二射頻電極102之間各設(shè)置至少一個磁場發(fā)生機構(gòu)，圖中為在所以射頻電極之間都至少設(shè)置有一個磁場發(fā)生機構(gòu)，這樣可以根據(jù)實際要求來進(jìn)行自由的控制，效率極高。

需要理解的是，以上視圖僅給出了較為優(yōu)選的實施方式，其它可能存在的一些實施方式也是被包含在上述方案范圍內(nèi)的，只是沒有給出詳細(xì)的視圖。

進(jìn)一步地，在具體實施中，磁場發(fā)生機構(gòu)的實現(xiàn)方式可以有多種，例如，可以采用在治療面設(shè)置磁石的方式；也可以在采用電池線圈的方式來進(jìn)行實現(xiàn)。

具體地，這里以采用電磁線圈來實現(xiàn)為例進(jìn)行說明。見圖5，所述磁場發(fā)生機構(gòu)20可以包括一電磁線圈201和用于根據(jù)設(shè)定要求對所述電磁線圈施加不同電流方向或/和不同電流大小的電源控制模塊202。例如，可以通過電源控制模塊20調(diào)節(jié)電磁線圈中的電流方向，從而改變磁場方向，另外，還可以通過電源控制模塊20調(diào)節(jié)電磁線圈中的電流強度，依次兩改變磁場的強度。這種控制可以根據(jù)具體需求來進(jìn)行自行設(shè)定。

需要說明的是，上述方案對于低頻射頻發(fā)生器的想過較為明顯，此方案為優(yōu)選方案。

綜上所述，本發(fā)明在治療面上設(shè)置磁場發(fā)生機構(gòu)來產(chǎn)生磁場，利用磁場相互吸引和相互排斥的效應(yīng)來改善皮下射頻電流的疏密度和聚集度，從而來控制皮下射頻能量的穿透度和聚集度，從而實現(xiàn)對治療區(qū)域的精準(zhǔn)治療，進(jìn)而縮短治療時間，提升治療效率。所以，本發(fā)明有效克服了現(xiàn)有技術(shù)中的種種缺點而具高度產(chǎn)業(yè)利用價值。

上述實施例僅例示性說明本發(fā)明的原理及其功效，而非用于限制本發(fā)明。任何熟悉此技術(shù)的人士皆可在不違背本發(fā)明的精神及范疇下，對上述實施例進(jìn)行修飾或改變。因此，舉凡所屬技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識者在未脫離本發(fā)明所揭示的精神與技術(shù)思想下所完成的一切等效修飾或改變，仍應(yīng)由本發(fā)明的權(quán)利要求所涵蓋。