專利名稱：基底圖案化的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及發(fā)光設(shè)備。更具體地，本發(fā)明涉及能夠適應(yīng)和/或依從(conforming)患者身體上的非平坦表面的發(fā)光設(shè)備。
背景技術(shù)：
常規(guī)光源通常是剛性結(jié)構(gòu)而非柔性的。而且，這種類型的常規(guī)光源含有進(jìn)一步增加其剛度的電子器件。已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，發(fā)生彎曲的常規(guī)光源易于在彎折超過一定角度時(shí)發(fā)生斷裂(或與電子器件斷開)。因此，在需要平面光源來依從相鄰表面的應(yīng)用中，這種彎曲的缺乏限制了依從性程度。此外，盡管存在某些現(xiàn)有技術(shù)的光源，但是這種類型的光源僅允許在一個(gè)方向上而非兩個(gè)方向上的一定量的柔性。這對(duì)于小表面的照明是足夠的，但是對(duì)于可能在不同點(diǎn)處具有多個(gè)方向上的輪廓的大表面的照明是不足的。因此，需要高度柔性并且可在該表面上不同點(diǎn)處沿多個(gè)方向彎曲的發(fā)光表面。光可用于處理多種疾病。當(dāng)只使用光來處理疾病時(shí)，這種處理稱為光療法。光可與藥物聯(lián)合使用，這種情況下的處理稱為光動(dòng)力療法。光療法和光動(dòng)力療法可用于處理多種皮膚病和內(nèi)科病。在光動(dòng)力療法中，將稱為光藥物的光敏治療劑以外用或內(nèi)服的方式供應(yīng)至待處理的身體區(qū)域。隨后，將該區(qū)域暴露于適當(dāng)頻率和強(qiáng)度的光下以激活光藥物。目前可得到各種光藥物劑。例如，存在外用劑，例如5-氨基乙酰丙酸鹽酸鹽(Crawford Pharmaceuticals)和甲氨基乙酰丙酸(Metfix(商標(biāo))，Photocure)。通常，藥物以非活性形式施用，其通過代謝成為光敏的光藥物。在光動(dòng)力療法中，為光藥物提供光的主要技術(shù)是投射來自獨(dú)立光源例如激光或?yàn)V光弧光燈的適當(dāng)波長(zhǎng)的光。這些光源既笨重又昂貴，因此只適合在醫(yī)院使用。這造成患者不便和處理成本高。需要高光照度以每天處理可接受數(shù)量的患者(以使處理具有成本效益)和避免對(duì)患者造成過度不便。為了實(shí)現(xiàn)有效的光動(dòng)力或光療法處理，重要的是待處理區(qū)域必須被均勻照明。這確保在處理區(qū)域上施用一致劑量的光。其他現(xiàn)有技術(shù)的柔性光源由作為點(diǎn)光源的單獨(dú)照明器構(gòu)成。這些點(diǎn)光源可以是嵌入在表現(xiàn)出一定程度柔性的基底中的發(fā)光二極管。這些光源的點(diǎn)式照明特性使它們本質(zhì)上不適合對(duì)處理表面進(jìn)行均勻照明。這些光源的嵌入特性也意味著當(dāng)這些光裝置被折疊或彎曲時(shí)，照明均勻性由于單個(gè)點(diǎn)光源的重定向和重排列而進(jìn)一步減少。
本發(fā)明的至少一個(gè)方面的一個(gè)目的在于消除或減輕至少一個(gè)以上的前述問題。本發(fā)明的至少一個(gè)方面的另一個(gè)目的在于提供包括光源的發(fā)光設(shè)備，其中所述醫(yī)療設(shè)備能夠在多個(gè)不同的方向上適應(yīng)和/或依從。

發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)本發(fā)明的第一個(gè)方面，提供一種用于治療性處理和/或美容處理的發(fā)光設(shè)備，該設(shè)備包括至少一個(gè)基底；設(shè)置在所述基底上的至少一個(gè)光源；在所述至少一個(gè)基底上·的至少第一和第二弱化區(qū)；和其中所述第一和第二弱化區(qū)具有基本不同的方向并且所述發(fā)光設(shè)備能夠適應(yīng)和/或依從非平坦表面。該設(shè)備因此可以是可用于多種治療性處理和/或美容處理的醫(yī)療發(fā)光設(shè)備。特別地，所述發(fā)光設(shè)備可以因此可適應(yīng)和/或可依從于和/或圍繞非平坦表面。所述發(fā)光設(shè)備可圍繞非平坦的、基本非平坦的和/或彎曲的表面彎折、彎曲和/或依從?？梢源嬖趦蓚€(gè)以上或多個(gè)弱化區(qū)。通常，第一和第二弱化區(qū)可相對(duì)于彼此岔開，例如，它們之間的夾角為約10 170度、約20 160度、約30 150度、約40 140度、約50 130度、約60 120度、約70 110度、約80 100度或約90度。在優(yōu)選的實(shí)施方案中，第一和第二弱化區(qū)可在其間具有約90度，并且可因此彼此基本正交。在特定實(shí)施方案中，可在單一基底中存在一系列弱化區(qū)。所述一系列弱化區(qū)可包括一系列基本垂直和基本水平的弱化區(qū)(即基本垂直的弱化區(qū)可從基底向上或向下延伸，并且基本水平的弱化區(qū)可橫跨基底左右延伸)?；敬怪钡娜趸瘏^(qū)可以是在X軸上間隔開的一系列連續(xù)弱化區(qū)，并且基本水平的弱化區(qū)可以是在y軸上間隔開的一系列不連續(xù)弱化區(qū)。通常，可以存在多個(gè)基本垂直的弱化區(qū)，其可延伸基本整個(gè)基底長(zhǎng)度但可具有未弱化的保留部分?；敬怪钡娜趸瘏^(qū)可以是連續(xù)的。通過使一小部分的基底長(zhǎng)度保持未弱化，為基底提供足夠的結(jié)構(gòu)強(qiáng)度以保持為一片，即單片。也可以存在一系列或多個(gè)不連續(xù)的基本水平的弱化區(qū)，其可例如與基本垂直的弱化區(qū)相交并延伸穿過該基本垂直的弱化區(qū)?；舅降娜趸瘏^(qū)可短于基本垂直的弱化區(qū)?？梢源嬖谝幌盗谢蚨鄠€(gè)基本水平的弱化區(qū)，其沿基本垂直的弱化區(qū)的至少部分或基本整個(gè)長(zhǎng)度與該基本垂直的弱化區(qū)相交并延伸穿過該基本垂直的弱化區(qū)。通常，可以存在從基底的一側(cè)向相反側(cè)延伸的多個(gè)基本垂直的弱化區(qū)。該多個(gè)基本垂直的弱化區(qū)可以是彼此基本平行的。因此，多個(gè)基底不需要相連。通常，可以存在從基底的一側(cè)向相反側(cè)延伸的多個(gè)基本水平的弱化區(qū)。可以存在至少一個(gè)以上或多個(gè)沿單一線的相互分散的基本水平的弱化區(qū)。所述沿單一線的多個(gè)基本水平的弱化區(qū)可因此形成不連續(xù)的“短線”狀圖案，其中所述多個(gè)基本水平的弱化區(qū)與基本垂直的弱化區(qū)相交并延伸經(jīng)過該基本垂直的弱化區(qū)?？梢源嬖谝幌盗谢舅降娜趸瘏^(qū)的行，其中每一行都具有“短線”狀圖案。所述基本水平的弱化區(qū)的行可與相鄰的基本水平的弱化區(qū)的行交替；即如果一行是弱化區(qū)，則相鄰行為非弱化區(qū)。弱化區(qū)可以是在基底上的較薄區(qū)、穿孔區(qū)、部分折疊區(qū)或切口區(qū)。切口可從基底的一側(cè)延伸至另一側(cè)，并可因此在基底中形成多個(gè)狹縫。弱化區(qū)可以以促進(jìn)和允許彎曲的方式排列。形成基底的材料可以是易彎的并且可自身彎折、彎曲和/或依從。例如，可以使用柔性材料(例如柔性聚合物材料)如熱塑性彈性體聚合物。因此，基底可在多個(gè)方向上同時(shí)折疊?；椎暮穸瓤勺阋蕴峁?duì)至少一個(gè)光源的支持，并且也可足夠厚以引入可為分開且平行的散射構(gòu)件。通常，基底的厚度可為約0. 01 15mm、約0. 01 5mm、約0. 01 2mm或約0. I Imnin基底可包括位于弱化區(qū)所限定區(qū)域內(nèi)的一個(gè)、至少一個(gè)以上、或多個(gè)光源。弱化區(qū)所限定區(qū)域可以是基本長(zhǎng)方形或正方形的。弱化區(qū)所限定區(qū)域的面積可為約0. I 4cm2或約0. 5 1cm2?；滓部梢园ㄉ⑸錁?gòu)件，其可反映出包括弱化區(qū)形狀的原基底形狀。

來自光源的光可以很容易地以基本均勻的方式分布在基底上；這可以通過散射結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)。光源可以具有任何合適的形狀并且可為例如基本圓形、三角形、正方形、長(zhǎng)方形、五邊形、六邊形或其任意組合。優(yōu)選地，光源和散射器可位于基底上，使得在柔性設(shè)備彎折、彎曲和/或依從偏離平面位置時(shí)，光源和散射器彼此不接觸。因此，在柔性設(shè)備為基本平面的(即，平坦的)或彎折、彎曲和/或依從時(shí)，光源的至少部分或優(yōu)選全部側(cè)邊不接觸。因此，本發(fā)明的發(fā)光設(shè)備可以提供一種發(fā)光設(shè)備，其能夠適應(yīng)和/或依從例如在人體或哺乳動(dòng)物體的任何部分上如患者的腳、腿、軀干、肩膀、手臂、手、手指、頭部或面部區(qū)域上的非平坦、基本非平坦或彎曲的表面。由于發(fā)光設(shè)備可以在多個(gè)方向上為柔性，這允許患者相對(duì)大的面積被覆蓋和處理，盡管基底材料可以是至少半剛性的，但是發(fā)光設(shè)備作為一個(gè)整體可以是柔性的。通過使發(fā)光設(shè)備適應(yīng)和/或依從非平坦或彎曲的表面，使得發(fā)光設(shè)備能夠?qū)颊咂つw提供均勻或基本均勻的照明，這對(duì)于有效治療是重要的。因此，本發(fā)明可允許位于柔性基底上的至少一個(gè)、兩個(gè)以上或多個(gè)剛性或半剛性光源適應(yīng)和/或依從患者上的非平坦和/或彎曲的表面。柔性設(shè)備可包括意圖接觸患者的表面(即，接觸表面)。這種接觸表面可以能夠彎折、彎曲和/或依從例如患者的非平坦、基本非平坦或彎曲的表面。優(yōu)選地，所有或基本所有的柔性設(shè)備能夠在使用期間接觸患者。具有包括光源、散射器和發(fā)光表面的基底的柔性設(shè)備可以能夠彎折、彎曲和/或依從成與平面位置的偏離在任何方向上小于約5度、小于約10度、小于約15度、小于約20度、小于約25度、小于約30度、小于約35度、小于約40度、小于約45度、小于約50度、小于約55度、小于約60度、小于約65度、小于約70度、小于約75度、小于約85度或小于約90度。作為替代方案，具有光源的基底可以能夠彎折、彎曲和/或依從成與平面位置的偏離在任何方向上為約0 5度、約0 10度、約0 15度、約0 20度、約0 25度、約0 30度、約0 35度、約0 40度、約0 45度、約0 50度、約0 55度、約0 65度、約0 70度、約0 75度、約0 80度、約0 85度或約0 90度。所述彎折、彎曲和/或依從可在基底上的多個(gè)點(diǎn)上和在不同方向上發(fā)生。該發(fā)光設(shè)備可包括用于操作該設(shè)備的電子裝置和至少一個(gè)光源。電子裝置也可以是柔性的并且能夠彎折、彎曲和/或依從偏離平面位置?；卓梢允侨嵝訮CB?；滓部梢栽O(shè)計(jì)為允許來自至少一個(gè)光源的光離開發(fā)光設(shè)備并用于醫(yī)療應(yīng)用，如治療性處理和/或美容處理。發(fā)光設(shè)備可因此能夠使光分布在待處理患者區(qū)域上并且優(yōu)選基本均勻地分布在待處理患者區(qū)域上。光源可位于基底上并且光可以通過散射構(gòu)件分布在剛性基底的表面上。光源可以是內(nèi)部區(qū)域發(fā)光器，例如有機(jī)發(fā)光二極管。在這種情況下，每個(gè)剛性基底為經(jīng)由柔性鉸鏈連接的單個(gè)有機(jī)發(fā)光二極管。作為替代方案，整個(gè)裝置可以是具有弱化特征的單個(gè)基底。用于接觸患者的柔性發(fā)光設(shè)備的表面積可為約0. I 10000cm2、約0. I 250cm2、約0. I IOOcm2、約I IOOcm2或約5 250cm2。作為替代方案，意圖接觸患者的柔性發(fā)光設(shè)備的表面積可大于約0. 01cm2、大于約0. 1cm2、大于約1cm2、大于約5cm2、大于約10cm2、大于約50cm2或大于約1000cm2。 該設(shè)備還可包括包圍柔性基底的至少一部分或整個(gè)外周的粘合片。該粘合片可以提供將發(fā)光設(shè)備附著至患者的粘合表面。
柔性設(shè)備也可包括設(shè)置在柔性設(shè)備和皮膚之間的透明粘合片。所述粘合片可以提供將發(fā)光設(shè)備附著至患者的粘合表面。該設(shè)備還可包括能夠遞送藥物和/或化學(xué)品至待處理患者區(qū)域的藥物和/或化學(xué)品源。因此本發(fā)明的設(shè)備能夠?qū)嵤┲委熜蕴幚砗?或美容處理。因此，本發(fā)明可涉及能夠利用光動(dòng)力療法或光療法對(duì)人或哺乳動(dòng)物患者進(jìn)行治療性處理和/或美容處理的發(fā)光設(shè)備。在某些情況下，處理可以認(rèn)為是具有治療特性(例如，皮膚癌、嚴(yán)重痤瘡)，而在另一些情況下，處理可以認(rèn)為是具有美容特性(例如，少量痤瘡、抗衰老處理如皺紋處理)。光源可以是可發(fā)射所需波長(zhǎng)的光的任意合適的光源。光源可提供為發(fā)光層。通常,光源可在約300 3000nm、約300 1500nm或約300 800nm范圍內(nèi)工作。在特定實(shí)施方案中，光源可以在電磁頻譜的可見光區(qū)域內(nèi)工作。作為替代方案，該光源可以在電磁頻譜的紫外或紅外波長(zhǎng)區(qū)域內(nèi)工作。光源可以在預(yù)設(shè)的時(shí)間段內(nèi)基本連續(xù)地發(fā)光或可不連續(xù)地發(fā)光，例如以脈沖方式發(fā)光。在特定實(shí)施方案中，來自光源的光可以以至少約10毫秒、至少約100毫秒、至少約I秒、至少約10秒、至少約10毫秒、至少約100秒、至少約1000秒或至少約10000秒的周期脈沖發(fā)射。在特定實(shí)施方案中，光源可例如是任意合適形式的二極管例如引入例如散射器內(nèi)的無機(jī)發(fā)光二極管或有機(jī)發(fā)光二極管。作為替代方案，光源可以是突光光源，如突光燈。突光光源可以是緊湊形狀的。例如，這包括從背光顯示技術(shù)、LED和波導(dǎo)以及散射器發(fā)展的技術(shù)。發(fā)光設(shè)備作為一個(gè)整體可具有約0. I 500mW/cm2、約I 200mW/cm2或5 50mW/cm2的光功率密度。工作期間至少一個(gè)光源可以基本恒定功率工作或作為替代方案可在一定范圍的功率內(nèi)變化。該設(shè)備可包括例如層形式的在藥物和/或化學(xué)品源中的光化學(xué)和/或光藥物制劑。光化學(xué)和/或光藥物制劑可在合適的預(yù)設(shè)時(shí)間遞送到待處理的患者區(qū)域和/或可由控制單元控制。光化學(xué)和/或光藥物制劑可以例如凝膠、藥膏、乳劑或在光動(dòng)力治療溶液中浸泡的紗布形式存在。作為替代方案或除此之外，發(fā)光設(shè)備可設(shè)置有浸潰有光化學(xué)和/或光藥物制劑的薄膜。光化學(xué)和/或光藥物制劑可以包括可施用于有需要者的能夠處理患者的藥物和/或殺菌劑。通常，光化學(xué)和/或光藥物制劑可以是透明的或基本透明的或可在使用和發(fā)光期間變得透明或基本透明。在光化學(xué)和/或光藥物制劑可對(duì)照射光的波長(zhǎng)透明或半透明的實(shí)施方案中，所得設(shè)備可以容易地應(yīng)用，而不需要將光化學(xué)和/或光藥物制劑施用于患者的單獨(dú)步驟。在特定實(shí)施方案中，光化學(xué)和/或光藥物制劑可覆蓋有可剝離的離型介質(zhì)。光化學(xué)和/或光藥物制劑可包含非活性化合物，其可在體內(nèi)代謝成活性化合物。在使用期間，可將適量的光化學(xué)和/或光藥物制劑施用于待處理的患者區(qū)域。
用于本發(fā)明的典型的藥物和/或化學(xué)品包括但不限于前體藥物如ALA或Metfix(商標(biāo))或其他光動(dòng)力治療劑。在使用時(shí)，藥物和/或化學(xué)品層可放置在待處理的患者區(qū)域的頂部上。為了便于處理，可將電解質(zhì)溶液如氯化鈉溶液放置在皮膚上以改善電接觸。電源可向柔性基底上的光源和/或電子裝置供電。電源可以是小型和緊湊型的，并且可集成為整體式設(shè)備，由此使該設(shè)備適合門診處理。因此，本發(fā)明的設(shè)備可以是耐磨的，并且可附著至患者的腳、腿、軀干、肩膀、手臂、手、頭部或面部區(qū)域。發(fā)光設(shè)備可包括用于將裝置附著至人或動(dòng)物的身體部分的附著裝置。例如，所述設(shè)備可以包括用于將裝置附著至人或動(dòng)物的身體部分的機(jī)械和/或粘合裝置。在特定實(shí)施方案中，發(fā)光設(shè)備可因此包括帶裝置，其可以任選地包括用于將所述設(shè)備附著至患者的緊固裝置和/或Velcro (商標(biāo))和/或粘合表面。發(fā)光設(shè)備可以是輕重量且便攜式的。在特定實(shí)施方案中，所述設(shè)備可以是完全獨(dú)立的便攜式裝置，并且可以包括獨(dú)立的電源。該電源可操作裝置和光源中的電子裝置。所述發(fā)光設(shè)備可充分便攜從而使得門診處理允許在處理期間患者可來回移動(dòng)。因此，處理可在家中或在工作時(shí)進(jìn)行，并且可由患者在必要時(shí)移除。這提供了較低的處理費(fèi)用，因?yàn)楸苊饬嗽卺t(yī)院的門診或住院的停留時(shí)間。這提供了可使用較低的光水平的顯著優(yōu)點(diǎn)，因?yàn)槠毓饪梢赃M(jìn)行較長(zhǎng)的時(shí)間。這克服了在一些患者中由于醫(yī)院所用的常規(guī)光源的高輻照度引起的疼痛。此外，較長(zhǎng)時(shí)間段內(nèi)的較低照射在光誘導(dǎo)的治療中更有效，因?yàn)槠錇檠鯏U(kuò)散至待處理區(qū)域提供了更多的時(shí)間，并減少了光藥物的光漂白。所述至少一個(gè)光源也可以包括基底層，例如透明或至少基本透明的基底層。作為替代方案，所述至少一個(gè)光源可包括半透明或至少基本半透明的基底層?；讓涌梢杂米鞴庠吹闹螌硬⑶铱稍试S光從中穿過?；讓右部梢杂米髯钃鯇硬⑶铱蛇x擇用以防止氧和/或水分滲透光源?；讓涌捎珊线m的材料例如硅氧烷、塑料或聚合物中的任意一種或其組合制成，或者可以包括合適的材料例如硅氧烷、塑料或聚合物中的任意一種或其組合。也可以存在附加層，包括散射層。根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備可用于各種光療法和光動(dòng)力療法。例如，根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備可用于處理癌癥(如皮膚癌)、痤瘡、皺紋、傷口愈合、抗衰老和皮膚后激光處理(post-skinlaser treatments),如在美容應(yīng)用中所發(fā)現(xiàn)的。傷口是指任何形式的開放或閉合的創(chuàng)口。開放性傷口包括但不限于切口或切開傷口 ；割口 ；擦傷；穿刺傷；穿透?jìng)?；火器傷；和潰?包括糖尿病源性潰瘍)。閉合傷口包括但不限于挫傷；血腫；和擠壓傷、真菌感染、骨和腱的處理。根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供一種用于治療性處理和/或美容處理的發(fā)光設(shè)備，該設(shè)備包括至少一個(gè)基底，其中所述至少一個(gè)基底是能夠用作光源的透明電極；在所述至少一個(gè)基底上的至少第一和第二弱化區(qū)；和其中所述第一和第二弱化區(qū)具有基本不同的方向并且所述發(fā)光設(shè)備能夠適應(yīng)和/或依從非平坦表面。第二方面類似于第一方面，并且所有相關(guān)部分從第一方面引入。因此，弱化和使用可以如在第一方面中所限定的。不同的是，在該實(shí)施方案中，基底本身是透明(或至少基本透明)電極并且所述弱 化區(qū)可以形成在基底中和任選的陽極中。陽極和基底可因此以類似于第一方面所描述的圖案化方式被圖案化?；着c陽極可以是平面形式的并且可以夾在一起。在特定實(shí)施方案中，弱化區(qū)可形成可為柔性的至少一個(gè)以上或多個(gè)切除構(gòu)件(cut-away members)。在切除構(gòu)件上可存在導(dǎo)電線路或多個(gè)導(dǎo)電線路，其可具有延伸穿過切除構(gòu)件的整個(gè)或基本整個(gè)表面區(qū)域的網(wǎng)絡(luò)或網(wǎng)狀物。導(dǎo)電線路的位置可朝向和/或靠近切除構(gòu)件的側(cè)邊，這意味著從側(cè)邊發(fā)出的光多于從切除構(gòu)件的中間發(fā)出的光。導(dǎo)電線路可以是薄的，其厚度為約0. I ii m 5mm。導(dǎo)電線路使電流分布在發(fā)光設(shè)備(例如，0LED)的陽極表面上從而克服其固有的高薄層電阻和不能使電流沿其表面分布的問題。這導(dǎo)致更均勻的來自發(fā)光設(shè)備的聚合物的光輸出。本發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，在切口 /圖案化的基底中，電極線路(trace)的幾何形狀優(yōu)選配置為配合切除構(gòu)件例如“腿”的形狀。在特定實(shí)施方案中，導(dǎo)電線路可沿切除構(gòu)件的長(zhǎng)度或基本上大部分長(zhǎng)度以及沿切除構(gòu)件的中間或基本上的中間截面延伸。導(dǎo)電線路可沿直線或其他圖案(例如彎曲的或成網(wǎng)的)延伸是可能的。作為替代方案，導(dǎo)電線路圖案可為蜂窩圖案。然而，也可以使用形成在切除構(gòu)件上方延伸的網(wǎng)絡(luò)或網(wǎng)狀物的其他導(dǎo)電線路圖案。優(yōu)選的是具有延伸穿過切除構(gòu)件的整個(gè)表面區(qū)域的網(wǎng)絡(luò)或網(wǎng)狀物形式的導(dǎo)電線路圖案。在替代實(shí)施方案中，導(dǎo)電線路靠近切除構(gòu)件的兩側(cè)邊向下延伸并且可隨后與切除構(gòu)件的末端相鄰。導(dǎo)電線路圖案可因此被視為形成基本“U”形設(shè)計(jì)。導(dǎo)電線路圖案可距離切除構(gòu)件的邊緣約0. 5 2mm。將導(dǎo)電線路定位為朝向和/或靠近切除構(gòu)件的側(cè)邊是指從切除構(gòu)件的側(cè)邊發(fā)出的光多于從切除構(gòu)件的中間發(fā)出的光。這意味著在兩個(gè)切除構(gòu)件彼此分開彎折時(shí)，相鄰的表面仍被均勻照明。根據(jù)本發(fā)明的第三方面，提供一種進(jìn)行治療性處理和/或美容處理的方法，該方法包括提供至少一個(gè)基底；提供設(shè)置在所述至少一個(gè)基底上的至少一個(gè)光源；在所述至少一個(gè)基底上提供至少第一和第二弱化區(qū)；和其中所述第一和第二弱化區(qū)具有基本不同的方向并且所述發(fā)光設(shè)備能夠適應(yīng)和/或依從非平坦表面。
根據(jù)本發(fā)明的第四方面，提供一種用于治療性處理和/或美容處理的發(fā)光設(shè)備，所述設(shè)備包括提供至少一個(gè)基底，其中所述至少一個(gè)基底是可用作光源的透明電極；在所述至少一個(gè)基底上提供至少第一和第二弱化區(qū)；和其中所述第一和第二弱化區(qū)具有基本不同的方向并且所述發(fā)光設(shè)備能夠適應(yīng)和/或依從非平坦表面。該方法可以通過如第一和第二方面中限定的設(shè)備實(shí)施。根據(jù)本發(fā)明的第五方面，提供根據(jù)第一和第二方面的設(shè)備用于醫(yī)療的用途。通常，藥物治療可以是光動(dòng)力療法或光療法。 本發(fā)明因此可涉及處理癌癥(如皮膚癌)、痤瘡、皺紋、傷口愈合、抗衰老和皮膚后激光處理(如化妝品應(yīng)用)。根據(jù)本發(fā)明的第六方面，提供一種使用根據(jù)第一和第二方面的設(shè)備進(jìn)行醫(yī)療的方法。所述醫(yī)療可以是光動(dòng)力療法或光療法。此外，所述處理可以是處理癌癥(如皮膚癌)、痤瘡、皺紋、傷口愈合、抗衰老和皮膚后激光處理(如化妝品應(yīng)用)。


現(xiàn)在將僅通過舉例方式參照附圖進(jìn)行描述本發(fā)明的實(shí)施方案，附圖中圖I是根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方案的發(fā)光設(shè)備的圖；圖2是圖I所示的發(fā)光設(shè)備彎曲的圖；圖3是根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施方案的發(fā)光設(shè)備的圖，所述發(fā)光設(shè)備還包括其上可設(shè)置導(dǎo)電線路的柔性基底；圖4是根據(jù)本發(fā)明另一個(gè)實(shí)施方案排列的有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)的頂視圖；圖5是圖4所示的有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)排列的側(cè)視圖；圖6是來自圖4和圖5所示的有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)的光的非線性發(fā)射的圖；圖7是根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施方案的發(fā)光設(shè)備的圖；圖8是顯示出電極幾何形狀的圖案的圖7所示的發(fā)光設(shè)備的圖；圖9是在根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施方案的發(fā)光設(shè)備上的導(dǎo)電線路的基底圖案化的圖；和圖10是在根據(jù)本發(fā)明的又一個(gè)實(shí)施方案的發(fā)光設(shè)備上的導(dǎo)電線路的基底圖案化的圖。
具體實(shí)施例方式因此，本發(fā)明涉及能夠?qū)θ嘶騽?dòng)物患者進(jìn)行治療性處理和/或美容處理的設(shè)備。該設(shè)備可用于任何類型的醫(yī)學(xué)處理，例如，可用于光療法或光動(dòng)力療法。圖I是根據(jù)本發(fā)明的發(fā)光設(shè)備，通常標(biāo)記為100。發(fā)光設(shè)備100包括由其上可設(shè)置導(dǎo)電線路的柔性PCB或柔性電介質(zhì)制成的柔性基底110。柔性基底110具有約30厘米X30厘米的尺寸和約I毫米的厚度。如圖I所示，在柔性基底110上嵌入/沉積有多個(gè)光源112。光源112通過焊接連接。圖I還示出存在從一側(cè)延伸至另一側(cè)的幾乎末端的一系列延伸的基本平行的切口 114。與所述延伸的基本平行的切口 114相交的一系列短切口 116。短切口 116與相鄰的延伸的基本平行的切口 114基本交替排列。因此，切口 114、116在柔性基底110上形成網(wǎng)格狀圖案，但仍保持柔性基底110為單片材料。圖2是彎曲的發(fā)光設(shè)備100的圖，示出切口 114、116之間材料可很容易地彎曲和移動(dòng)，由此適應(yīng)和/或依從非平坦表面，例如患者身體上的表面。在圖2中，柔性基底110的切除構(gòu)件120顯示為彎折超出水平面。圖3是另一發(fā)光設(shè)備200的圖，其也包括由其上可設(shè)置導(dǎo)電線路的柔性PCB或柔性電介質(zhì)制成的柔性基底110，以及一系列延伸基本平行切口 214和一系列短切口 216，二者一起在柔性基底210中形成基本“L”形的切口。為了簡(jiǎn)化，在圖中省略了光源。再次，柔性基底210中的切除構(gòu)件220顯示為彎折超出水平面。 圖4和圖5是通常標(biāo)記為300的有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)的圖。0LED300是準(zhǔn)二維結(jié)構(gòu)，包括堆疊的層和基底316。在其最簡(jiǎn)單的形式中，OLED 300包括夾在兩個(gè)電極之間的發(fā)光聚合物310的薄層；陽極和陰極312、314。當(dāng)跨所述堆施加電壓時(shí)，從聚合物中發(fā)出光318。0LED300中的陰極314可由低電阻率的鋁制成。另一方面，陽極312由具有高薄層電阻的材料制成。這意味著當(dāng)跨點(diǎn)A和B施加電壓時(shí)，電流以非線性方式從A流至B，導(dǎo)致來自聚合物310的非均勻光輸出。這種非線性發(fā)射光示于圖6中，圖6為假彩色圖像，其中紅色/白色區(qū)域示出更大強(qiáng)度的發(fā)射光。陽極312和基底316可以采用如圖I 3中所示的圖案化來進(jìn)行圖案化。圖6所示的非線性發(fā)射光在文獻(xiàn)中是公知的，并且已經(jīng)提出各種方法來克服這一問題。本發(fā)明提供一種將薄導(dǎo)電線路引入陽極312表面上的方法，該方法將電流分布在陽極312的整個(gè)表面上，由此克服其內(nèi)在的高薄層電阻和不能將電流分布在其整個(gè)表面上的問題。這樣得到來自聚合物310的更均勻的光輸出。本發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，在切口 /圖案化的基底中，電極圖形的幾何形狀必須配置為適應(yīng)“腿”的形狀。圖7是由切口 /圖案化的柔性基底410形成的本發(fā)明的發(fā)光設(shè)備400。柔性基底410由其上可設(shè)置導(dǎo)電線路的柔性PCB或柔性電介質(zhì)制成。示出一系列延伸基本平行切口414，其形成能夠彎折和/或彎曲超出水平平面的切除構(gòu)件420。圖8是發(fā)光設(shè)備400的圖，示出沿切除構(gòu)件420延伸的導(dǎo)電線路430。導(dǎo)電線路430基本沿切除構(gòu)件420的中間部分延伸。雖然導(dǎo)電線路顯示為直線延伸，但是其他圖案是可能的。圖9是在另一發(fā)光設(shè)備的切除構(gòu)件530上的另一導(dǎo)電線路圖案530的圖。導(dǎo)電線路圖案530是蜂窩圖案形式。然而，可以使用在切除構(gòu)件530上延伸形成網(wǎng)絡(luò)或網(wǎng)狀物的其他導(dǎo)電線路圖案。優(yōu)選的是，網(wǎng)絡(luò)或網(wǎng)狀物形式的導(dǎo)電線路圖案延伸穿過切除構(gòu)件的整個(gè)表面區(qū)域上。圖10是在另一發(fā)光設(shè)備的切除構(gòu)件630上的另一導(dǎo)電線路圖案630的圖。導(dǎo)電線路圖案630靠近切除構(gòu)件630兩側(cè)向下延伸，并隨后靠近切除構(gòu)件630的末端延伸。導(dǎo)電線路圖案630可因此被視為形成基本上“U”形的設(shè)計(jì)。導(dǎo)電線路圖案630可與切除構(gòu)件630的邊緣相距約0. 5 2毫米。將導(dǎo)電線路定位為朝向和/或靠近切除構(gòu)件的兩側(cè)意味著從切除構(gòu)件的側(cè)邊發(fā)出的光比從切除構(gòu)件中間發(fā)出的光更多。這意味著，當(dāng)兩個(gè)切除構(gòu)件彎折為彼此分開時(shí)，相鄰表面仍然被均勻照明。雖然該方法引入了一些內(nèi)部腿的變化，但它仍然盡量減少了穿過 作為整體的表面的光的變化。雖然本發(fā)明的具體實(shí)施方案已經(jīng)在上文中進(jìn)行描述，但是應(yīng)該理解的是對(duì)所描述的實(shí)施方案的偏離可仍然落在本發(fā)明的范圍內(nèi)。例如，可以使用任何適當(dāng)類型的柔性基底。此外，可以使用任何適當(dāng)類型的光源。此外，在基底或圓形切口中的用于特定應(yīng)用例如螺旋切口的日化區(qū)的旋轉(zhuǎn)可存在變化。此外，導(dǎo)電線路可具有延伸穿過切除構(gòu)件的整個(gè)表面區(qū)域的網(wǎng)絡(luò)或網(wǎng)狀物的形式。作為替代方案，導(dǎo)電線路可定位為朝向和/或相鄰于切除構(gòu)件的側(cè)邊，這意味著從切除構(gòu)件的側(cè)邊發(fā)出的光比從切除構(gòu)件中間發(fā)出的光更多。
權(quán)利要求
1.一種用于治療性處理和/或美容處理的發(fā)光設(shè)備，所述設(shè)備包括 至少一個(gè)基底； 設(shè)置在所述基底上的至少一個(gè)光源； 在所述至少一個(gè)基底上的至少第一和第二弱化區(qū)；和 其中所述第一和第二弱化區(qū)具有基本不同的方向，并且所述發(fā)光設(shè)備能夠適應(yīng)和/或依從非平坦表面。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的用于治療性處理和/或美容處理的發(fā)光設(shè)備，其中存在兩個(gè)以上或多個(gè)弱化區(qū)。
3.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的用于治療性處理和/或美容處理的發(fā)光設(shè)備，其中所述弱化區(qū)為任意合適的形狀。
4.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的用于治療性處理和/或美容處理的發(fā)光設(shè)備，其中所述弱化區(qū)是在所述基底上的較薄區(qū)域、穿孔區(qū)域、部分折疊區(qū)域或切口區(qū)域。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的用于治療性處理和/或美容處理的發(fā)光設(shè)備，其中所述切口從所述基底的一側(cè)延伸至另一側(cè)并因此在所述基底中形成多個(gè)狹縫。
6.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的用于治療性處理和/或美容處理的發(fā)光設(shè)備，其中所述第一和第二弱化區(qū)相對(duì)于彼此盆開，例如它們之間具有約10 170度、約20 160度、約30 150度、約40 140度、約50 130度、約60 120度、約70 110度、約80 100度或約90度的角，并且它們是任意合適的形式例如圓形和/或螺旋形切口。
7.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的用于治療性處理和/或美容處理的發(fā)光設(shè)備，其中存在一系列弱化區(qū)，并且所述弱化區(qū)包括一系列基本垂直和基本水平的弱化區(qū)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的用于治療性處理和/或美容處理的發(fā)光設(shè)備，其中所述一系列弱化區(qū)包括在X軸上間隔開的弱化區(qū)和在y軸上間隔開的基本水平的弱化區(qū)。
9.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的用于治療性處理和/或美容處理的發(fā)光設(shè)備，其中存在一系列或多個(gè)基本垂直的弱化區(qū)，其基本延伸所述基底的整個(gè)長(zhǎng)度，但具有未被弱化的保留部分，其可為單一基底的形式。
10.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的用于治療性處理和/或美容處理的發(fā)光設(shè)備，其中存在一系列或多個(gè)不連續(xù)的基本水平的弱化區(qū)，其與基本垂直的弱化區(qū)相交并延伸穿過所述基本垂直的弱化區(qū)。
11.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的用于治療性處理和/或美容處理的發(fā)光設(shè)備，其中存在從所述基底一側(cè)延伸至相反側(cè)的多個(gè)基本垂直的弱化區(qū)，并且其中所述基本垂直的弱化區(qū)基本彼此平行。
12.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的用于治療性處理和/或美容處理的發(fā)光設(shè)備，其中存在從所述基底一側(cè)延伸至相反側(cè)的多個(gè)基本水平的弱化區(qū)。
13.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的用于治療性處理和/或美容處理的發(fā)光設(shè)備，其中存在形成不連續(xù)的“短線”狀圖案的多個(gè)基本水平的弱化區(qū)。
14.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的用于治療性處理和/或美容處理的發(fā)光設(shè)備，其中存在一系列基本水平的弱化區(qū)的行，所述弱化區(qū)的每一個(gè)均為“短線”狀圖案的。
15.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的用于治療性處理和/或美容處理的發(fā)光設(shè)備，其中形成所述基底的材料是易彎的并且能夠彎折、彎曲和/或依從，所述彎折、彎曲和/或依從可在所述基底上多個(gè)點(diǎn)處在多個(gè)方向上進(jìn)行。
16.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的用于治療性處理和/或美容處理的發(fā)光設(shè)備，其中形成所述基底的材料是柔性材料(如柔性聚合物材料)，例如熱塑性彈性體聚合物。
17.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的用于治療性處理和/或美容處理的發(fā)光設(shè)備，其中所述基底的厚度足以對(duì)所述至少一個(gè)光源提供支撐并且還足以引入散射構(gòu)件。
18.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的用于治療性處理和/或美容處理的發(fā)光設(shè)備，其中所述基底包括位于所述弱化區(qū)所限定的區(qū)域內(nèi)的一個(gè)、至少一個(gè)以上或多個(gè)的光源。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的用于治療性處理和/或美容處理的發(fā)光設(shè)備，其中由所述弱化區(qū)限定的區(qū)域基本上是長(zhǎng)方形或正方形形狀，面積為約0. I 4cm2或約0. 5 1cm2。
20.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的用于治療性處理和/或美容處理的發(fā)光設(shè)備，其中所述基底還包括散射構(gòu)件。
21.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的用于治療性處理和/或美容處理的發(fā)光設(shè)備，其中所述設(shè)備還包括能夠遞送藥物和/或化學(xué)品至待處理患者區(qū)域的藥物和/或化學(xué)品源。
22.一種用于治療性處理和/或美容處理的發(fā)光設(shè)備，所述設(shè)備包括 至少一個(gè)基底，其中所述至少一個(gè)基底是能夠用作光源的透明電極； 在所述至少一個(gè)基底上的至少第一和第二弱化區(qū)；和 其中所述第一和第二弱化區(qū)具有基本不同的方向并且所述發(fā)光設(shè)備能夠適應(yīng)和/或依從非平坦表面。
23.根據(jù)權(quán)利要求22所述的用于治療性處理和/或美容處理的發(fā)光設(shè)備，其中所述弱化區(qū)是在所述至少一個(gè)基底中的一系列切口。
24.根據(jù)權(quán)利要求22或23所述的用于治療性處理和/或美容處理的發(fā)光設(shè)備，其中存在附著至所述基底的平面形式的陽極，并且在所述基底和所述陽極中均形成切口形式的所述弱化區(qū)。
25.根據(jù)權(quán)利要求22 24中任一項(xiàng)所述的用于治療性處理和/或美容處理的發(fā)光設(shè)備，其中所述弱化區(qū)形成至少一個(gè)以上或多個(gè)柔性的切除構(gòu)件。
26.根據(jù)權(quán)利要求25所述的用于治療性處理和/或美容處理的發(fā)光設(shè)備，其中在所述切除構(gòu)件上具有導(dǎo)電線路或多個(gè)導(dǎo)電線路，所述導(dǎo)電線路具有延伸穿過所述切除構(gòu)件的整個(gè)或基本整個(gè)表面區(qū)域的網(wǎng)絡(luò)或網(wǎng)狀物的形式。
27.根據(jù)權(quán)利要求26所述的用于治療性處理和/或美容處理的發(fā)光設(shè)備，其中所述導(dǎo)電線路定位為朝向和/或靠近所述切除構(gòu)件的側(cè)邊，這意味著從所述切除構(gòu)件的側(cè)邊比所述切除構(gòu)件的中間發(fā)出更多的光。
28.根據(jù)權(quán)利要求26或27所述的用于治療性處理和/或美容處理的發(fā)光設(shè)備，其中所述導(dǎo)電線路薄，其厚度為約0. I ii m 5mm。
29.根據(jù)權(quán)利要求26 28中任一項(xiàng)所述的用于治療性處理和/或美容處理的發(fā)光設(shè)備，其中所述導(dǎo)電線路將電流分布在所述發(fā)光設(shè)備(例如OLED)的陽極表面上，由此克服其固有的高薄層電阻和不能使電流沿其表面分布的問題，由此，這導(dǎo)致更均勻的來自發(fā)光設(shè)備中的聚合物的光輸出。
30.根據(jù)權(quán)利要求26 29中任一項(xiàng)所述的用于治療性處理和/或美容處理的發(fā)光設(shè)備，其中所述導(dǎo)電線路的幾何形狀配置為配合所述切除構(gòu)件例如“腿”的形狀。
31.根據(jù)權(quán)利要求26 30中任一項(xiàng)所述的用于治療性處理和/或美容處理的發(fā)光設(shè)備，其中所述導(dǎo)電線路沿所述切除構(gòu)件的長(zhǎng)度或基本大部分長(zhǎng)度并且沿所述切除構(gòu)件的中間或基本中間部分延伸。
32.根據(jù)權(quán)利要求26 31中任一項(xiàng)所述的用于治療性處理和/或美容處理的發(fā)光設(shè)備，其中所述導(dǎo)電線路沿直線或基本直線延伸。
33.根據(jù)權(quán)利要求26 32中任一項(xiàng)所述的用于治療性處理和/或美容處理的發(fā)光設(shè)備，其中所述導(dǎo)電線路為蜂窩圖案形式。
34.根據(jù)權(quán)利要求26 32中任一項(xiàng)所述的用于治療性處理和/或美容處理的發(fā)光設(shè)備，其中所述導(dǎo)電線路為在所述切除構(gòu)件上方延伸的網(wǎng)絡(luò)或網(wǎng)狀物的形式。
35.根據(jù)權(quán)利要求26 32中任一項(xiàng)所述的用于治療性處理和/或美容處理的發(fā)光設(shè)備，其中所述導(dǎo)電線路靠近所述切除構(gòu)件的兩側(cè)向下延伸并且任選地延伸靠近所述切除構(gòu)件的端部。
36.根據(jù)權(quán)利要求26 32中任一項(xiàng)所述的用于治療性處理和/或美容處理的發(fā)光設(shè)備，其中所述導(dǎo)電線路為基本“U”形設(shè)計(jì)的形式。
37.根據(jù)權(quán)利要求26 32中任一項(xiàng)所述的用于治療性處理和/或美容處理的發(fā)光設(shè)備，其中所述導(dǎo)電線路圖案靠近所述切除構(gòu)件的邊緣并與所述切除構(gòu)件的邊緣相距約0.5 2mm,由此從所述切除構(gòu)件的側(cè)邊比所述切除構(gòu)件的中間發(fā)出更多的光,這意味著當(dāng)兩個(gè)切除構(gòu)件彎折為彼此分開時(shí)，相鄰表面仍然被均勻照明。
38.一種實(shí)施治療性處理和/或美容處理的方法，所述方法包括 提供至少一個(gè)基底； 提供設(shè)置在所述至少一個(gè)基底上的至少一個(gè)光源； 在所述至少一個(gè)基底上提供至少第一和第二弱化區(qū)；和 其中所述第一和第二弱化區(qū)具有基本不同的方向并且所述發(fā)光設(shè)備能夠適應(yīng)和/或依從非平坦表面。
39.一種用于治療性處理和/或美容處理的發(fā)光設(shè)備，所述設(shè)備包括 提供至少一個(gè)基底，其中所述至少一個(gè)基底是能夠用作光源的透明電極； 在所述至少一個(gè)基底上提供至少第一和第二弱化區(qū)；和 其中所述第一和第二弱化區(qū)具有基本不同的方向并且所述發(fā)光設(shè)備能夠適應(yīng)和/或依從非平坦表面。
40.根據(jù)權(quán)利要求I 37中任一項(xiàng)所述的設(shè)備在醫(yī)學(xué)處理中的用途。
41.根據(jù)權(quán)利要求41所述的設(shè)備的用途，其中所述醫(yī)學(xué)處理為光動(dòng)力療法或光療法。
42.如前文所述的和/或如圖I至10中所述的設(shè)備。
全文摘要
本文描述了一種發(fā)光設(shè)備。更特別地，本文描述了一種能夠適應(yīng)和/或依從患者身體上的非平坦表面的發(fā)光設(shè)備。
文檔編號(hào)A61N5/06GK102711912SQ201080060372
公開日2012年10月3日 申請(qǐng)日期2010年12月2日 優(yōu)先權(quán)日2009年12月1日
發(fā)明者安德魯·麥克尼爾 申請(qǐng)人:安倍開健康有限公司