專利名稱：粉末霧化器的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種把定量容積的粉末從漏斗輸送至氣流的裝置，尤其涉及一種與進給裝置的霧化電極相結合的粉末霧化器，以移動的顆粒霧的形式把定量的霧化粉末輸送至氣流。
此前已有一些方式對粉末進行霧化。漏斗用來把粉末進給至流動的氣流。由于粉末的架橋或粉末的顆粒之間存在靜電力，漏斗在進給粉末時存在著不足。流速也受多種因素影響，如濕度、顆粒尺寸、顆粒形狀、密度、材料的粘聚性、化學成份、漏斗形狀和粉末和顆粒之間靜電力。當精確定量的粉末需要分送時又遇到另一個問題，即保證瞬時均勻的流速而被分送的粉末有結團的趨勢。
因此最好提供一種改進的粉末霧化器，一種改進的粉末進給裝置和霧化器的組合，一種改進的粉末進給裝置、霧化器和霧化電極的組合。而且最好還提供一種能把精確確定量的粉末輸送至可控地均勻流動的氣流中的上述裝置。
即使增設了振動器，在涂鍍過程中，漏斗明顯不能均勻定量地精確測量粉末。在涂鍍寬的基片，試圖使被漏斗進給的粉末霧化進入流動的氣流中時，產生了另外的問題，由于通常霧化粉末的空氣或多或少是兩個尺寸，即，縱向和一側向尺寸。對于寬壁的場合，該空氣流一般成平面并具有相當低的速度。因為其沒有提供霧化從進給裝置出來的粉末所需的局部高速剪切力，所以霧狀體包括超尺寸的結團顆粒以及集聚形成的非均一的較重顆粒流，這種現(xiàn)象在很多場合是不理想的。因此最好提供一種用于寬壁涂鍍加工的改進的粉末霧化器、改進的粉末霧化器和進給裝置的組合以及改進的粉末霧化器，進給裝置和霧化電機的組合，這些裝置可以產生尺寸相當均勻的霧化顆粒材料形成的霧狀體，其在壁的橫向和縱向都相當均勻。
近來，經精確定量的粉末材料可以被測量進入氣流，然后利用材料進給裝置進行霧化，這些公開于專利US5,314,090，霧狀體內的顆粒尺寸可以通過霧化電板變得更均勻，這些公開于專利US5,035,364。這種材料進給裝置和霧化電極相結合可以產生均勻的顆粒霧，無論是顆粒尺寸與分布；還是霧狀體的橫向和縱向都是均勻的，但這種結合不能在寬壁場合產生均勻的顆粒霧，例如在螺旋金屬板的粉末涂鍍以及帶有緊密組合元件的輸送機的涂鍍場合。由多組材料進給裝置和霧化電極肩并肩地結合而產生的霧狀體在霧流的縱向上顆粒尺寸是均勻的。但在其橫向上還存在著不均勻，這是由于重疊并形成條紋的緣故。因此最好提供一種改進的粉末霧化器，和粉末霧化器進給裝置的組合，以及一種改進的粉末進給裝置，霧化電極和霧化器的組合，該裝置可產生顆粒材料霧，該霧狀體在其橫向和縱向都相當均勻，并且在寬壁涂鍍場合中的大片區(qū)域內，顆粒尺寸及其分布都是十分均勻的。
近來，對準確定量的粉末精確測量可以采用公開于專利US5,314,090中的材料進給裝置進行，其中采用了軸向長度大于被涂鍍壁的寬度的細長刷。采用這種裝置，可以進給準確定量的粉末，但不能被霧化或完全霧化。壁可以水平設置，其頂部或底部或兩部分都需要被涂鍍，壁也可豎直設置，其一側或兩側需要被涂鍍，因此最好提供一種在水平和豎直粉末涂鍍場合都可使用的改進的粉末霧化器、改進的粉末進給裝置，霧化器和霧化電極的組合以及改進的粉末霧化器和進給裝置的組合，該裝置可產生顆粒霧，該霧狀體無論是橫向和縱向，還是顆粒尺寸和顆粒尺寸分布都是高度均勻的。最好還提供一種對顆粒霧進行導向的上述裝置，無論是水平設置于霧化器下方的壁的上側，還是水平設置于霧化器上方的壁的下側，或是豎直設置壁的兩側，該霧狀體的橫向和縱向，顆粒尺寸和顆粒尺寸分布都是均勻的。
基于均勻度和通用性起見，最好提供一種以合理的成本用于多種場合的改進的粉末霧化器，改進的粉末霧化器和進給裝置的細合以及改進的霧化器，進給裝置和霧化電機的組合。
最后，最好提供一種具有所有上述所需特性的改進的粉末霧化器，改進的粉末霧化器和進給裝置的組合以及改進的粉末進給裝置，霧化器和霧化電極的組合。
因此，本發(fā)明的目的是提供一種改進的粉末霧化器，改進的粉末進給裝置和霧化器的組合以及改進的粉末進給裝置、霧化器和霧化電極的組合。
本發(fā)明的另一目的是提供一種能把精確定量的粉末輸送至均勻的、可控的流動氣流中的上述改進裝置。
本發(fā)明的另一目的是提供一種用于寬壁涂鍍加工中的上述改進裝置，其可產生在橫截面上相當均勻的顆粒霧，其在壁的橫向和縱向都是相當均勻的。
本發(fā)明的另一個目的是提供一種能產生顆粒霧的上述改進裝置，該霧狀體在橫向和縱向，以及顆粒尺寸和顆粒尺寸的分布都是高度均勻的。
本發(fā)明的另一目的是提供一中用于橫向和豎向粉末涂鍍場合的改進的上述裝置，該裝置可產生顆粒霧，該霧狀體在橫向和縱向以及其顆粒尺寸和顆粒尺寸分布都是高度均勻的。
本發(fā)明的另一目的是提供一種可用于對顆粒需導向的上述改進裝置，無論是水平設置于霧化器下方的壁上側，還是水平設置于霧化器上方的壁下側，或兩種情況2的結合，或是豎直設置壁的相對側，或豎直設置的一部分，該霧狀體的械向和縱向以及其顆粒尺寸和顆粒尺寸分布都是均勻的。
本發(fā)明的另一目的是提供一種以合理的成本用于多種場合的上述改進裝置。
本發(fā)明的最后目的是提供一種具有所有上述所需特征的改進的上述裝置。
本發(fā)明的主要方面是提供一種改進的粉末霧化器，其包括筒狀底殼、圓柱形彈性可變形元件，該元件可繞位于底殼內的軸線旋轉。底殼與該元件同軸設置。該元件和底殼之間限定了柱形文氏管，粉末可供入其內。文氏管具有徑向分開的入口和出口。所提供的裝置在底殼內以大于所需要的速度旋轉該元件，用于靠離心力把粉末從該元件甩出。該元件通過文氏管抽吸周圍的空氣并霧化和流體化被供入文氏管入口的粉末，從而形成均勻流動的顆粒霧，該霧狀體在所述軸線的縱向和側向都是均勻的。本發(fā)明還提供了帶有專利US5,314,090所公開的進給裝置的一種霧化器，進給裝置以及霧化器、進給裝置和霧化電機的組合，該裝置尤其用于寬壁涂鍍加工，其產生顆粒霧，該霧狀體在壁的側向和縱向都是均勻的，并且在整個均勻流動的霧內、顆粒分布和顆粒尺寸都是均勻的。
參照下述對本發(fā)明實施例的說明并結合附圖，上述的和其它的特征和本發(fā)明的目的，以及達到這些目的方式將變得更清楚，也可更好地理解發(fā)明本身，其中附圖包括

圖1是本發(fā)明改進的霧化器的局部立體圖，該霧化器安裝于傳統(tǒng)的漏斗之下，用于對寬壁頂面進行涂鍍加工，為了便于觀察，拆去了霧化器一端；圖2是沿圖1中2-2的截面線所視的圖1所示裝置的橫截面圖；圖3是類似圖1的本發(fā)明的改進霧化器的局部立體圖，該霧化器安裝于傳統(tǒng)的漏斗進給裝置之下，是用于對寬壁底面進行涂鍍加工的裝置；圖4是沿圖3中的4-4截面線得到的如圖3所示裝置的橫截面圖5是類似于圖1和3圖的本發(fā)明改進的霧化器的局部立體圖，該霧化器位于如專利US5,314,090所公開的粉末進給裝置之下，用于當壁或基片被豎直傳送時，對寬壁的左側進行粉末涂鍍加工；圖6與圖1、3和5類似，類似于圖5所示的裝置的局部立體圖，用于對相同壁的右側進行涂鍍；圖7是類似于圖5所示裝置的本發(fā)明的粉末進給裝置和霧化器的側視平面圖，該裝置用于對一般豎直設置而水平傳送的基片進行涂鍍，其中粉末霧化器與基片成角度設置，粉末滑槽被分，段翼板一般是筒狀的；圖8是類似于圖7的裝置的視圖，示出了圖5至7所示本發(fā)明的粉末進給裝置和霧化器的另一種形式，其中粉末霧化器水平設置，其中豎直設置而水平傳送，但翼板從霧化器向前螺旋延伸；圖9是圖8所示裝置的局部立體圖，示出了霧化器刷和翼板裝配在一起的狀態(tài)；和圖10是類似于圖2的局部橫截面圖，示出了本發(fā)明改進的霧化器的另一種形式，用于對頂面進行粉末涂鍍加工，為了便于觀察，拆去了霧化器一端。
參見圖1和2，示出了本發(fā)明改進的霧化器10，其作為寬壁粉末涂鍍裝置1 2的組件，安裝于寬壁基片14上方，用于涂鍍基片14的頂側16。裝置12包括粉末進給裝置18和霧化器10。所示的粉末進給裝置18是傳統(tǒng)的粉末漏斗20，若需要，其可配有振動器22。漏斗20具有底部開口24，粉末通過該開口落入其下的霧化器10中。在另外特定的實施例中，粉末進給裝置18可以是如圖5和6所示的專利US5,314,090所公開的細長的進給裝置，下面將詳細描述。專利US5,314,090的整個公開說明書可以逐字逐句地轉寫于此處，與本說明書相結合。
所示的粉末霧化器10包括底殼26，翼板50和基本上是圓柱形的霧化元件28，其可繞水平軸線30，沿箭頭31的方向旋轉。底殼26部分環(huán)繞元件28。元件28和底殼26間隔設置，其間限定了柱形的文氏管32，粉末可以從進給裝置18供入其中。文氏管的入口34直接位于進給裝置18出口24之下。文氏管32還具有與霧化器的入口34徑向間隔的出口38。
翼板50靠近刷28安裝，并從文氏管出口38延伸至對顆粒霧進行導向的區(qū)域。
漏斗50靠近刷28安裝，并從文氏管出口38延伸至對顆粒霧進行導向的區(qū)域。
漏斗20，底殼26，霧化元件28，文氏管32入口34、出口38和翼板50可以都是細長，延伸至基片14的整個寬度或橫向尺寸，無論橫向尺寸有多大。在特定的實施例中，該橫向尺寸超過6英尺。在特定的實施例中，該橫向尺寸可以是幾十英尺或和要被延伸的極大的基片的橫向尺寸相匹配。
霧化元件28通過聯(lián)動件42安裝轉子軸40上又與轉子44相聯(lián)。轉子44和聯(lián)動件42以超過所需的速度沿箭頭31的方向旋轉軸40和元件28，從向靠離心力把粉末的元件甩出。元件28以極其快的速度通過文氏管32抽吸空氣而把粉末分送至空氣，把空氣和粉末混和成均勻的混和物，通過顆粒與硬刺碰撞、顆粒與壁板碰撞來霧化顆粒，從而產生相當均勻尺寸的顆粒。
元件28的速度可以使產生的均勻霧狀體內的顆粒帶電，都帶有相同極性的電荷。通過選擇元件28的硬刺材料的非導電體、顆粒材料也為非導電體，就可使顆粒霧中的每個顆粒帶有相同極性電荷，因為它們是以公知的摩擦起電效應的方式離開本發(fā)明的霧化器的。這種顆粒帶電很有用，因為其有助于霧狀體的均勻分配，使其在離開霧化器時在縱向和側向都均勻分開。該帶電還延展目標區(qū)域，在該區(qū)域霧狀體的顆粒尺寸分布、顆粒尺寸和顆粒密度是完全均勻的。
當底殼26和翼板50由導電材料制成，摩擦起電效應會產生不良效果，使顆粒上的電荷傳導入底殼26和翼板50，使顆粒被吸引至底殼26和翼板50，在其上產生結團現(xiàn)象。由于顆粒材料的導電性，顆粒會在底殼26的端部91或翼板50上積聚和結團，達到一定程度，結團的顆粒會從端部91掉下進入其下正被涂鍍的基片上。一般地，在涂鍍壁的頂面時，不允許這種結團現(xiàn)象，因為那些顆粒遲早會結團掉在被涂鍍的表面上，導致涂鍍表面的缺陷。
底殼26和翼板50由非導電材料制造，可降低端91上的結團。但在下面還要提到需要底殼26和翼板50由導電材料制成的場合。
在圖1和2所述的特定實施例中，底殼26和翼板50由非導電材料制成。在特定的實施例中，該導電材料可以是聚碳酸脂、聚丙烯和乙縮醛材料。在特定的實施例中，當底殼26和翼板50不帶電，粉末不能在其上結團。實驗提出任何導電率在大約1010至1016的范圍內的材料在本發(fā)明的范圍內被認為是非導電材料。
如圖1和2所述的另一個特定實施例中，底殼26和翼板50由導電材料制成，如金屬，因為這是底殼26和表面93、94的結構強度所需的。在特定的實施例中，為了避免表面93的不相容性，將其拋光達到均方根誤差為125的表面精度。同樣的，翼板表面94也被拋光達到均方根誤差為125的表面精度。
在圖10所示的特定實施例中，底殼26的大部分由導電金屬制成，如不銹鋼，這是考慮到強度和耐用度，而端部91由非導電材料制成，如聚碳酸脂、聚丙炳、乙縮醛或聚乙烯，而金屬部分95提供了結構強度。因而，底殼26具有導電部分95和非導電部分96。如圖示，非導電部分96從端部91延伸到至少為底殼26的最低點98。部分95、96以現(xiàn)有技術中任何公知的方式連接在一起。圖10示出了底殼的兩部分95和96是通過榫舌和凹槽99相連，使得部分96可以插入部分94的端部并定位。以這種方式，底殼26的表面92可以制成志愿。在特定的實施例中，表面92被拋光達到均方根誤差為125的表面精度。
翼板50具有從元件76向外延伸的氣動表面94，端表面102遠離元件28，近端表面104與元件28和背側表面106距離很近。如圖1和10所示，氣動表面94可以是曲面的或平面的。表面94位置靠近元件28并從元件28向外延伸，用于對從文氏管出口38排出的霧狀體向外導向。如圖1和10所示，端面104可以是平面或曲面。在圖10中，端表面104是柱形曲面，其具有比元件28略大的曲率半徑。背側面106和相對的端面102按照需要可以是平面或曲面。在圖10所示的特定實施例中，這些表面的每一個都是平面并具有設計的休止角，用于防止粉末附著其上并回收載導向從要涂鍍表面下來而積聚其上的粉末。通過減少導電以及移動通過表面94的空氣速度，防止粉末積聚于表面94上。因而，在大多數實施例中，表面102與水平成角度約從80°至100°。在大部分場合，粉末休止角是80°。背側表面106類似于表面102，幾乎沒有氣流漢過。若休止角不增大的話，背側面106上將聚集粉末。但是，假如背側面與水平所成角度大于粉末休止角，則積聚于背側面106上的粉末會被回收落入表面104而進入旋轉元件28。在特定的實施例中，表面106與水平成角度大約從45°至70°參照圖1和2，所示表面94是曲面。表面102基本上從曲面垂直延伸。背側表面106從漏斗18向翼板50傾斜延伸，上面開有回收口110。圖3、4、5和6具有類似的表面94、背側表面106和基本上垂直表面78?；厥湛?10位于表面78上。
元件28既作為鼓風轉子，與底面26配合導向空氣，通過文氏管32吸入粉末，又如專利US5,314,090所公開的作為粉末載體。
元件28的旋轉速度以及元件28和底殼26之間的距離存在的相互關系，即能把所需空氣充分快地移動通過文氏管而對供入文氏管入口34的粉末進行霧化，又能把粉末從文氏管均勻分送成霧狀體。在特定的實施例中，霧化器元件28是刷子，如專利US65,314,090所公開。
刷28可以是任意圓柱形元件，具有輪轂和徑向延伸的任意形式的硬刺。硬刺可以緊密堆積或間隔設置，以一種模式布置或機設置，長的或短的，細的或粗的，十分硬或十分軟的，制作材料可以是金屬、塑料或自然纖維。輪轂的直徑尺寸和硬刺的長度也可有所不同。硬刺的選擇取決于刷子的作用和被霧化的粉開形式。
如果霧化器用來把大量的粉末分送入小量的空氣，在霧化之前，刷子的硬刺之間必須攜帶一些粉末。這種情況下，硬刺的長度要比通常的長，從而增加刷子硬刺之間對粉末的攜帶能力。
當粉末總是趨向結團或在霧化器中不易流動，最好采用柔軟的硬刺，因為硬刺的柔韌性有助于增加粉末的運動和霧化粉末。
如果需要減小顆粒尺寸，就需要帶有硬度大的硬刺的刷子。在任何特定的場合，硬刺材料的長度將決定刷子的使用壽命。
在本發(fā)明中，離開霧化器10的顆粒霧上各個顆粒的帶電量一般隨著元件28的轉速增加而增加，隨著硬刺材料導電性增加而降低，并隨著顆粒材料導電性的增加而降低。在大部分場合，通過改變刷子元件28的轉速，可以改變和調整元件28的性能。
在特定實施例中，需要霧化降低和顆粒尺寸，要選擇帶有特性材料硬刺的刷子，該硬刺具有特定的橫向直徑及特定的縱向長度。硬刺的橫截面是圓形或矩形。當橫截面是矩形時，硬刺的旋轉方向和其橫向的柔韌性有所不同。這對于霧化和顆粒減小是重要的，因上述現(xiàn)象被認為取決于硬刺和顆粒的碰撞，其中硬刺碰撞顆粒使其移向一側，產生橫向運動，從而允許顆?；遗鲎擦硪挥泊獭Ｒ虼?，硬刺分子越密集，顆粒與硬刺的碰撞越容易發(fā)生。長度與旋轉方向的橫向尺寸的比率以及刷子的旋轉速度決定了顆粒與硬刺之間的碰撞量的大小。長度與旋轉方向的橫向尺寸的比率以及硬剌的密度和刷子的旋轉速度決定了顆粒與硬刺之間發(fā)生碰撞的次數。
在特定的實施例中，硬刺包括天然硬刺，合成聚合物硬刺和金屬硬刺。硬刺長度范圍從相當短到極其長。硬刺的橫向尺寸范圍從2至3倍于被霧化顆粒的尺寸到50倍于最大被霧化顆粒的尺寸。實際上，硬刺被限定為，其最大橫向尺寸從大約4微米至15,000微米，其長度從幾英寸到幾英尺。
硬刺的縱向長度與橫向尺寸的比率對顆粒尺寸的降低和元件28的霧化能力是很有影響的，而刷子28的整個直徑被認為對霧化和顆粒尺寸減小的影響很小。選擇較大直徑的元件28，在氣流方向上的文氏管的縱向長度增加，因而顆粒和硬刺之間碰撞的次數增加。但顆粒與硬刺之間的碰撞力取決于硬刺的硬度和上述的硬刺的縱向長度和橫向尺寸間的比率。因此增大元件28的直徑并保持硬刺相同的長度和橫向尺寸比率僅僅是增加了顆粒碰撞的次數，而不會改變發(fā)生碰撞的形式。因此在大部分場合，關鍵在于硬刺的長度和其橫向尺寸的比率以及硬剌材料的性能，而不在于刷子28的直徑。
但在特定的實施例中，硬刺的長度與其橫向尺寸的比率可以從200比/變到800比1，硬刺長度從大約半英寸變至5英寸，在旋轉方向上的硬刺的橫向尺寸從0.001英寸變至0.062英寸，在垂直于旋轉方向上的硬刺的橫向尺寸從0.001英寸變至0.062英寸，使得硬刺的長度與其橫向尺寸的比率在200比1到800比1的范圍內。
在特定的實施例中，底殼26，元件28和翼板50可以是細長的，用于寬壁涂鍍加工，或根據需要使其長度與元件28的直徑之纟小于1。在特定的實施例中，文氏管的厚度或元件28和底殼26之間的距離可以在從0.001至0.1英寸的范圍內而元件28以大約700到400轉/分鐘的速度被驅動，這些都取決于轉子的直徑尺寸和每分鐘的轉數，從而利用本發(fā)明改進的霧化器對粉末進行較理想地霧化。另外，在那些實施例中，元件28與底殼端部有一定距離，該端被拆去，為了便于觀察轉子元件28和文氏管32且元件28與翼板50相距0.001到0.020英寸。在這些特定實施例中，具有顆粒尺寸從大約2微米至300微米的粉末可以被霧化成均勻的顆粒霧，其具有相當均勻的顆粒尺寸，整個霧狀體，無論是流動方向還是其橫向，分布都很均勻。
漏斗20可以是任何形式用于粉末材料的傳統(tǒng)的漏斗。漏斗20可以是如圖1和2所示的幾何形狀或是非對稱的，例如其一個壁是豎眭的，而另一壁與豎直和水平都成一定角度。漏斗20的壁最好與水平所成的角度都大于漏斗壁上的材料以及被進給的粉末的休止角。漏斗20獨立于粉末霧化器10安裝并可安裝在彈簧(未示出)上，也可配置上述的振動器22。
所示的漏斗20的底部開口24位于文氏管入口32的上方。在特定實施例中的文氏管入口32可以收斂于一點，使得所有的粉末從漏斗20落入霧化器10。文氏管32的出口38和翼板50把通過氣流均勻發(fā)送的顆粒霧流導向和定向傳送至傳統(tǒng)的靜電涂鍍器49的吸入口46的區(qū)域。對霧狀體的導向或定向至目標區(qū)域是通過翼板50和傳統(tǒng)的附壁效應的氣流技術來完成的。翼板50還有封閉霧化器10元件上部區(qū)域的作用，以保證塵土不進入霧化器周圍的空氣。
十分令人奇怪的是離開文氏管出口38的霧狀體不是象人們預料的那樣從快速旋轉的元件28上甩出。而是徹底相反，帶有顆粒的均勻霧狀體表現(xiàn)為環(huán)繞著元件28的弧形外圓周表面轉過至少90°，甚至轉過360°。因此，必須提供翼板來把霧狀體從環(huán)繞元件28中剝離出來。
翼板的作用不僅是把霧關體從元件28上剝離，而且還把霧狀體導向預定的區(qū)域。因此，在所有實施例申，翼板的導向緣實際上需要靠近元件28的圓周。在所作的實驗中，當翼板與刷子距離盡可能近時，元件28能很好地起作用。
在霧化器10的工作過程中，十分令人驚奇的是粉末霧化器10和除鍍器48之間的區(qū)域不必完全封閉，這是由于從文氏管排出的顆粒霧一般沿著元件28旋轉的第一圓弧軌道和翼板的第二表面94運動且該霧狀體不會象其它種設計的粉末霧化器那樣在環(huán)繞霧化器的整個空間內失控地發(fā)送。霧化器10把很大的速度傳給霧狀體，使周圍的滯止的空氣對該霧狀體產生附壁效應。
一旦霧狀體被導入靜電涂鍍器48的入口46區(qū)域，該霧狀體就處于靜電場的影響之下，并受到涂鍍器的電極52的電離作用，同時又受到通過涂鍍器48的霧狀體氣流載體的作用。在特定的實施例中，涂鍍器48可以是專利US5,279,863所公開的任意一種類型，該專利的公開說明書可以逐字逐句地轉寫到這里，與本說明書相結合。
在特定的實施例中，翼板50可以固定于漏斗20或振動器上，用于減小其上粉末的積聚，翼板也可單獨被支撐，或固定于底殼26上。
參照圖3和4，所示的霧化器10和裝置12用于涂鍍基片14的底側53。粉末供給裝置18也采用漏斗20的形式。在圖3和4中，所示的漏斗沒有振動器22，但與漏斗20相連設有輸送裝置54，用于保證漏斗20裝滿粉末。類似地，在另外的實施例中，如在圖1和2所示的實施例也可設置輸送裝置54，也可采用或不采用振動器22。輸送裝置54工作的速度必須與霧化器工作的速度一致，使連續(xù)和足夠的粉末從輸送機54流入漏斗20和霧化器10并進入涂鍍器48。
在該實施例中，漏斗20和霧化器10可以與上述的相同。但翼板50靠近出口38，橫跨底殼26和涂鍍器48的入口46區(qū)域。翼板50的形狀和定位部可以參照傳統(tǒng)的氣流技術。整體上均勻發(fā)送的顆粒霧被從元件28上剝離并供入涂鍍器48的入口46，此時霧狀體處于涂鍍器48的靜電場的影響下，而霧狀體通過裝器48的運動也如以往受到裝置的排空和重力的控制。
奇怪地是，幾乎沒有粉末不被霧化成可以被空氣充分運載的粉末尺寸。基本上被粉末進給裝置18進給至霧化器10的所有粉末都被充分霧化成所需的顆粒尺寸，且?guī)缀鯖]有粉末不被空氣運載，通過粉末出口56在其下游排出。因而，用于把不能被從霧化器10排放的氣霧所運載的大尺寸顆粒移走的粉末排出口56對于霧化器10的結構被認為是不必要和多余的。
在所有的場合，基片14相對于霧化器10，粉末進給裝置18和涂鍍器48通過輸送技術被移動?；?，即空白基片的傳送方向或是遠離霧化器，或是靠近霧化器，這取決于涂鍍工藝。與其它靜電涂鍍裝置相比，從本發(fā)明的霧化器10直接排出的更加集中的霧狀體對空白基片14的撞擊更為理想。在涂鍍加工中，當被涂鍍基片到達霧化器時，最好使集中的霧狀體粉末增加。
在圖3和4所示的對于基片底面進行涂鍍的實施例中，涂鍍效果與底殼20和翼板50的導電率無關。由于所有裝置位于被涂鍍表面的下方，任何從裝置落下的結團都不會影響表面涂鍍的質量。
參見圖5和6，漏斗20被專利US5,314,090所公開的粉末進給裝置60所代替。如圖示，該專利的粉末進給裝置60可以重復并精確地把己定量的粉末進給至本發(fā)明的霧化器10。因此，粉末進給裝置可以用于與上述漏斗20相比，在加工過程中對供入霧化器的粉末進行控制是更關鍵的場合以及更需要控制的場合。
漏斗62作為粉末進給裝置60的粉末貯器。在特定實施例中，漏斗62與漏斗20相同，并可配有或不采用振動器22。如圖所示，漏斗62具有底部開口24，其開口于腔室63，在該腔室中，彈性可變形元件或刷子66沿著箭頭67的方向旋轉。元件66固定于軸68，該軸在腔室64的兩相對壁(未示出)上軸頸定位。軸68的一端與可變速發(fā)動機相聯(lián)。腔室64具有腹側72，底部74和一對側部78。腔室64充分封閉了元件66。
元件66基本上是圓柱形。腔室64可以由塑料或其它合適的非導電性材料制成。其它的實施例中的腔室64由透明塑料材料制成或在腔室64上開有進出門(未示出)，便于在工作時進行觀察和調整。元件66位于腔室64中，用于截斷漏斗開口24。
在大多數特定的實施例中，元件66最好是刷子，其具有環(huán)繞輪轂81并徑向延伸的密度均勻分布的大量硬刺80。硬刺80可以是天然纖維或任何合適材料制成的纖維，使刷子66可以“阻擋”從漏斗62的底部開口24流出的粉末。硬刺80必須具有依選定的旋轉速度而定的合適的長度和尺寸，刷子66允許粉末從漏斗62以精確的形式穿過硬刺80，當刷子旋轉時，粉末被其運載，并被定量傳送通過底部74的出口82進入本發(fā)明的霧化器10。如專利US5,314,090所公開的，驅動元件66的速度總是低于靠離心力使粉末從元件66甩出的必要速度。
粉末從漏斗62通過出口82的流速由其它因素控制，如刷子沿箭頭67旋轉的速度，刷子66的直徑，刷子66的粉末容量以及開口24的尺寸。刷子66的粉末載運容量由硬刺80的長度和密度控制。粉末從漏斗62流經進給裝置60的速度影響粉末到達霧化器10的整體流速。
進給裝置60的出口82的位置與上述的圖1至4所示的漏斗20的底部開口24的位置相類似，使排出的粉末落入文氏管32的入口34。如圖5和6所示，腔室64也設有底殼26和翼板50，從而形成即包括元件66又包括元件28的普通腔室。這種腔室把底殼26向上延伸形成材料進給裝置60的漏斗62以及翼板50而封閉了元件66，用底殼26既限定了用于隔離元件66和28的出口34、82，又適當地限定了文氏管的入口34和出口38。
在圖5和6中，基片14可以移至霧化器10也可遠離霧化器10。另外，霧化器10的出口38和顆粒霧可以如圖5和6向下偏轉，也可依需要向上偏轉。這種選擇通常取決于顆粒尺寸和霧狀體的顆粒尺寸分布以及在把較大的顆粒噴鍍在基片上的場合是否考慮借助于重力為好。
在圖5和6的實施例中，一般不考慮底殼20和翼板50的導電性，因為所示實施例用于涂鍍豎直設置的基片，所有裝置都位于所要涂鍍表面的一側，從裝置落下的結團不會影響表面涂鍍質量。
在圖1至6所示的實施例中，結構上存在多種不同。底殼26和元件28可以有任意直徑尺寸。被霧化器10霧化的粉末量可以較大，元件28和底殼26越大，形成的文氏管32就越大，而粉末被霧化成的氣體容積就越大。
只要元件28是刷子，硬刺的長度就有所不同。但當刷子28的轉速大于由于離心力使粉末離開霧化器的速度時，硬刺的長度就不重要了。
刷子與底殼之間的距離確是很重要的，并對元件28及其運動速度有作用。在特定實施例中，該距離的范圍從0.005至0.1英寸。元件28的運行速度足以產生離心力把被霧化的粉末從元件28上甩出，其必須足以使空氣在文氏管內產生足夠的紊流度并產生足夠速度把粉末霧化成氣流。所以，如果元件28的速度較大，則元件28和底殼26間的距離就較大，反之亦然。在特定的實施例中，元件28的直徑最好是2英寸或大點或更大，并以700至4000轉/分鐘的速度驅動。
漏斗底部開口24到文氏管入口34的豎直距離也可以有所不同，只要該距離保證粉末落下并有效地被供入文氏管。在特定實施例中，該距離范圍從1英寸到6英寸或更多。
文氏管入口34及其出口38之間的徑向位置也可有所不同，在特定實施例中，該距離可從180°到45°。在圖5和6所述實施例中，本發(fā)明的霧化器10與專利US5,314,090所公開的材料進給裝置相連，元件66和元件28的直徑之比可以是任意數值，在大部分特定實施例中，該比值為1或大于1，類似的，速度比最好盡可能高。元件28和66兩軸線之間的距離通常剛剛大于一個直徑尺寸，但一般大約從幾英寸到6英寸或更大。
在本的所有實施例中，從文氏管32出的粉末沿著翼板50的輪廓運動而被導向目的區(qū)域。通過文氏管的粉末被霧化而當硬刺是非導電性又產生摩擦起電效應，而后排出文氏管32，粉末的每一顆粒都帶有相同電荷。此時，從文氏管32排出的粉末在對顆粒進行霧化的空氣紊流的作用以及帶有相同電荷顆粒間的排斥力作用下被迫均勻分散于基片的橫向和縱向。
由于顆粒霧靠近翼板的速度作用，其沿著翼板50的弧面運動。在特定的實施例中，粉末霧化器與基片相距4至6英寸，可以觀察到顆粒霧以大約2至6英寸寬的噴涂直徑相當均勻地導入基片，在基片的縱向和橫向都十分均勻。在該噴涂直徑的周邊外側位置，集中顆粒霧的均勻度會顯著降低。在圖1和2所述實施例的上述模式里，顆粒霧被導向霧化器下方的目標區(qū)域，重力與霧流共同作用，把已霧化顆粒分送至目標區(qū)域，上述的2至6英寸的噴涂直徑可擴展到4至10英的噴涂直徑。類似地，如圖3和4所示的實施例中，當作用于從文氏管32排出的顆粒霧的重力與顆粒霧的運動方向相背時，上述的2至6英寸的噴涂直徑會下降到1至3英寸。
在任何場合，由于這樣現(xiàn)象的存在，當對與本發(fā)明霧化器相距4至6英寸的豎直基片進行均勻涂鍍就產生了問題。例如，當對12英寸高，水平移動的豎直基片進行均勻涂鍍時，把本發(fā)明的霧化器設置于靠近基片的下邊界，這樣只能均勻涂鍍基片下面的4到6英寸區(qū)域，而基片上方6英寸區(qū)域的粉末沉積量明顯小于基片下方6英寸區(qū)域的粉末沉積量。
參照圖7，所示的粉末進給裝置和霧化器的組合一般用于對豎直設置、水平傳送、橫向尺寸大于2至4英寸的基片進行涂鍍。如圖7所示，具有上述粉末進給裝置60所有結構的粉末進給裝置60安裝于基片84上方。進給裝置60下方安裝本發(fā)明的霧化器10，元件28與基片84間隔設置，但元件28與豎直和水平都成一定角度設置。粉末滑槽86從底部開口82延伸至文氏管入口34，通過該滑槽粉末從進給裝置60落入文氏管32，該文氏管由底殼26環(huán)繞刷子元件28形成。翼板50從文氏管出口延伸至基片84。翼板50、底殼26和元件28各自與基片84均勻間隔，在特定實施例中，霧化器10的整個軸向長度4至6英寸。
由于粉末進給裝置60和霧化器10可以有任意軸向長度，圖7所述的實施例可以用于涂鍍豎直設置，水平傳送的片材或一系列豎直懸掛于水平傳送的輸送機上的元件，其可以有任意橫向或高度尺寸。
如圖7所示的，對豎直基片進行涂鍍的實施例中，一般不考慮底殼20和翼板50的導電性。因為所有裝置位于被涂鍍表面一側，從裝置落下的結團不會影響表面涂鍍質量。
參見圖8和9，示出了本發(fā)明另一種形式改進的粉末進給裝置，霧化器和霧化電極的組合，其用于上述豎直設置，水平傳送類型的基片。在該實施例中，進給裝置60位于霧化器10上方，粉末滑槽86在進給裝置60的出口82和文氏管32的入口之間延伸，霧化器10配有螺旋形翼板50，其具有螺旋形導向緣88，用于把顆粒霧從元件28上剝離下來，元件28具有圓柱形橫截面，橫跨元件28整個長度的螺旋形端緣90與被涂鍍的基片相距4至6英寸。該實施例僅僅用于基片的橫向尺寸或豎直高度要小于螺旋形翼板50的豎直高度，范圍在±1～6英寸。
盡管在特定實施例中，進給裝置60在基片84的上方或在其一側，但霧化器10總是位于靠近基片84的底緣92，而螺旋形翼極50必須在基片84的整個豎直尺寸上延伸。
圖9是圖8所示霧化器10的底殼26、刷子元件28和螺旋形翼板50的立體圖，較好地示出了翼板50的形狀及其與文氏管出口38和文氏管入口34的關系。
圖7所示的粉末滑槽86是分段滑槽，是相互平行間隔的豎直壁。在圖8中，滑槽86被描述為非分段滑槽，不具有隔板，相對端之間也不沒有壁。根據基片的尺寸和要被霧化粉末的性能，這些滑槽可以互換。
在圖8和9所示的用于涂鍍豎直基片的實施例中，一般不考慮底殼26和翼板50的導電性。由于所有的裝置都位于涂鍍表面一側，從裝置落下的結團不會影響表面涂鍍質量。
在圖1和4所示實施例的工作過程中，漏斗20內的粉末通過底部開口24供入文氏管32的入口34。通過選擇底部開口24為特定尺寸或控制振動器22的作用來控制進入文氏管32的粉末流。當粉末進入文氏管32，元件28抽吸氣體載體以紊流形式高速通過文氏管。當元件28轉速大于靠離心力將粉末甩出的速度時，元件28將所有與其接觸的粉末霧化。當需要時，可根據顆粒材料，元件28的硬刺剛度，在霧化器10內減小顆粒尺寸。在氣體載體內以霧的形式分送的粉末從文氏管出口38排出。該霧狀體不但每單位體積的氣體載體內的粉末量是均勻的，而且在氣流方向及其橫向上的顆粒尺寸分布都是均勻的。另外，當文氏管內的紊流的氣流載體足以霧化粉末時，整霧狀體內的顆粒尺寸分布一般是均勻的。在任何場合，通過適當選擇元件速度，相當均勻尺寸的粉末會被均勻散布于整個霧狀體，顆粒密度和顆粒尺寸分布都十分均勻。
在利用本發(fā)明的霧化器10及其元件28或重力對粉末進行操作時，幾乎沒有機械加工。當粉末進給裝置60和本發(fā)明的霧化器10共同使用時，精確定量的粉末可供入霧化器10。用傳統(tǒng)的方式控制粉末從漏斗62到進給裝置的流動并控制元件66的速度，精確定量的粉末可被供入霧化器10。振動和重力可把粉末從漏斗62送至元件66，元件幾乎沒有對粉末進行機械作用就把其送至出口82。在特定實施例中，元件是刷子，粉末被送進硬刺80中，刷子轉動，靠重力把粉末運至出口82。因此選擇振動速率(若采用了振動器22)，具有特定尺寸的出口24的腔室，刷子66及其轉速，精確定量的粉末可以被傳送至本發(fā)明的霧化器10中。
當刷子元件66轉動時，元件面對漏斗62中的粉末且在硬刺之間充滿粉末，同時轉過出口82，這樣元件66攜帶著粉末并將其排出。一旦粉末從粉末進給裝置18或60排放霧化器10，粉末就進入文氏管32的入口34，并受到元件28通過文氏管抽吸產生的高速移動的氣流載體的作用。元件28靠離心力把所有粉末甩出，并以紊流形式移動氣流載體通過文氏管32，到達文氏管出口38。一旦粉末離開文氏管出口30°，均勻的顆粒霧就沿著元件28的曲面運動，直至其被翼板50從元件28上剝離，然后按照傳統(tǒng)的氣流定律把顆粒霧導向至涂鍍器48的入口46。如圖1和2所示，從出口38出來的顆粒霧可以被本發(fā)明的霧化器10向下導向，至進而涂鍍基片的頂側。如圖3和4所示，霧化器10可以把顆粒霧從文氏管出口38向上導向，從而涂鍍基片的底側。基片可以兩面涂鍍，其可如圖1-4、圖5和6以及圖7-9分別所示，或者水平定位，或者豎直定位。
在所有實施例中，本發(fā)明霧化器10的粉末流量通過粉末進給裝置20或60把粉末供入文氏管32的速率來控制。由本發(fā)明霧化器10產生的霧狀體的顆粒密度是由被供入霧化器10的粉末量和被文氏管抽吸的氣流載體量決定的。在大部分實際應用中，被文氏管抽吸的氣流載體量由底殼26和元件28之間的距離以及元件28的轉速所控制。距離越小，載運氣體越少，距離越大，載運氣體越多。類似地，由粉末進給裝置供入文氏管的粉末量基本上是由漏斗20底部開口24的尺寸以及粉末流通情況決定的，或是由進給裝置60中的元件66的轉速和容量決定的。
本發(fā)明改進的霧化器產生相當均勻的顆粒霧并按照需要或者向上，或者向下地把霧狀體導入靜電涂鍍器。通過本發(fā)明，為所有的粉末涂鍍操作提供了一種改進的粉末霧化器，改進的粉末進給裝置和霧化器的組合，改進的粉末進給裝置，霧化器和霧化電極的組合。
本發(fā)明改進的粉末霧化器尤其適用于寬壁涂鍍加工，由于其能在壁的縱向和橫向上產生在橫截面上具有相當均勻尺寸顆粒的霧狀體，其在顆粒尺寸和顆粒尺寸分布方面都是高度均勻的。通過采用如專利US5,314,090所公開的顆粒進給裝置，利用本發(fā)明的改進的霧化器，進給裝置和霧化器的組合以及進給裝置、霧化器和霧化電極的組合，高精度定量的顆粒材料可以被霧化并置于基片的任意橫向尺寸上，該基片可以水平設置，豎直設置成傾斜設置。
本發(fā)明改進的粉末霧化器，改進的粉末進給裝置和霧化器的組合以及粉末進給裝置、霧化器和霧化電極的組合可以用于涂鍍水平設置壁的頂側和底側，也可以用于涂鍍豎直設置壁的兩側。本發(fā)明的上述改進裝置可以以合理的安裝和維護成本把粉末供入涂鍍裝置。最后，可以以具有所有上述理想特征的形式提供本發(fā)明的上述改進裝置。
這里為了說明，已描述和示出了本發(fā)明的特定實施例，但從本申請得到的任何可以作為專利保護的不是嚴格地限定在公開的實施例上，可以擴展到合理地落入下面的權利要求保護范圍內的所有結構和裝置。
權利要求
1.一種粉末霧化器，包括底殼，圓柱形元件，所述元件軸頸定位并沿軸線旋轉，所述底殼筒狀且與所述元件同軸設置，所述底殼部分地環(huán)繞所述元件，所述元件和底殼之間限定了柱形文氏管，粉末被供入其中，所速文氏管具有徑向間隔的入口和出口，該裝置可以在所述底殼內旋轉所述元件，該轉速要大于靠離心力從所述元件上甩出粉末所需的速度，所述元件抽吸氣體通過文氏管并對供入所述入口的粉末進行霧化從而產生均勻的顆粒霧，該裝置還可以用于減少所述底殼的電荷并防止在所述出口形成粉末結團。
2.一種粉末霧化器，包括底殼，圓柱形元件，所述元件軸頸定位并沿軸線旋轉，所述底殼筒狀且與所述元件同軸設置，所述底殼部分地環(huán)繞所述元件，所述元件和底殼之間限定了柱形文氏管，粉末被供入其中，所述文氏管具有徑向間隔的入口和出口，該裝置可以在所述底殼內旋轉所述元件，該轉速要大于靠離心力從所述元件上甩出粉末所需的速度，所述元件抽吸氣體通過文氏管并對供入所述入口的粉末進行霧化從而產生均勻的顆粒霧，所述底殼的靠近所述出口處由非導電性材料制成。
3.如權利要求2所述的霧化器，其特征在于所述非導電性材料的導電率大約是從1010至1016歐姆·厘米。
4.如權利要求2所述的霧化器，其特征在于所述非導電性材料要從包括聚合結構材料的集合中選取。
5.如權利要求2所述的霧化器，其特征在于所述非導電性材料要從聚合結構材料的集合中選取，包括聚碳酸脂，聚丙烯，乙縮醛和聚乙烯。
6.如權利要求2所述的霧化器，其特征在于靠近所述出口部分的底殼是尖角，因而限定了靠近所述元件的邊緣，所述底殼具有懸掛于所述邊緣的表面。
7.如權利要求6所述的霧化器，其特征在于懸掛于所述邊緣的所述表面基本上是豎直的。
8.如權利要求2所述的霧化器，其特征在于從所述文氏管所述出口至少到其最低點部分的所述底殼由非導電性材料制成。
9.如權利要求1或2所述的霧化器，還包括與所述元件相距約從0.001至0.020英寸的翼板，所述翼板具有從所述元件開始并遠離該元件向上延伸的表面，所述表面是氣動光滑的，所述表面與水平面成一定角度，所述翼板具有與所述元件有一定距離的端表面，該端表面與水平面所成角度大于休止角，所述翼板具有背側表面，該背側表面與水平面所成角度大于休止角。
10.如權利要求9所述的霧化器，其特征在于所述翼板的所述非導電性材料的導電率約從1010至1016歐姆·厘米。
11.如權利要求9所述的霧化器，其特征在于所述氣動光滑表面和所述背側表面的所述角度小于90°，所述氣動光滑表面與所述元件有間隔并用被加工成與所述元件有間隔并用來導向所述霧狀體遠離所述元件，裝置還包括與所述翼板相距約1至6英寸的目標區(qū)域，所述氣動光滑表面把所述霧狀體導向所述目標區(qū)域。
12.如權利要求9所述的霧化器，其特征在于所述氣動光滑表面的所述角度小于90°。
13.如權利要求9所述的霧化器，其特征在于與所述元件相隔的所述表面的所述角久90°。
14.如權利要求9所述的霧化器，其特征在于所述背側表面的所述角度使得積聚其上的任何粉末從翼板上落入所述元件，從而得以回收。
15.如權利要求9所述的霧化器，其特征在于所述背側表面的所述角度約從45°到70°。
16.如權利要求9所述的霧化器，其特征在于所述氣動光滑表面的所述角度約從45°至70°。
17.如權利要求9所述的霧化器，其特征在于所述翼板具有靠近所述元件的圓柱形表面，該表面趨于最小化。
18.如權利要求9或40所述的霧化器，其特征在于所述目標區(qū)域是細長的，所述元件和底殼與所述目標區(qū)域的延長部分平行，所述翼板具有螺旋形邊緣，延伸至所述目標區(qū)域的整個橫向寬度。
19.如權利要求9或40所述的霧化器，其特征在于所述目標區(qū)域是細長的，所述元件、底殼和翼板橫向延伸于所述目標區(qū)域。
20.如權利要求1、2或31所述霧化器，其特征在于所述入口是分叉的。
21.如權利要求1、2或31所述霧化器，其特征在于所述出口是分叉的。
22.如權利要求1、2或31所述霧化器，其特征在于所述元件的轉速約從700至4000轉/分鐘。
23.如權利要求1、2或31所述霧化器，其特征在于所述文氏管在其入口和出口之間具有均勻的厚度，約從0.001至0.020英寸。
24.如權利要求1、2或31所述霧化器，其特征在于所述元件的直徑約大于2英寸。
25.如權利要求1、2或31所述霧化器，其特征在于所述粉末顆粒尺寸范圍約從2微米至300微米。
26.如權利要求1、2或31所述霧化器，其特征在于所述元件是刷子。
27.如權利要求1、2或31所述霧化器，其特征在于被供入所述文氏管內的粉末尺寸大于從所述文氏管排出的粉末尺寸。
28.如權利要求1、2或31所述霧化器，其特征在于所述粉末要從熱固性和熱塑性有機聚合物、有機材料以及它們的組合的粉末集合中選取。
29.如權利要求1、2或31所述霧化器，其特征在于所述霧狀體是把粉末顆粒均勻分送入緩慢流動的載運氣體而形成的十分均勻的摩擦帶電的霧狀體。
30.如權利要求1、2或31所述霧化器，其特征在于所述目標區(qū)域與所述入口徑向間隔約從45°至240°。
31.一種粉末霧化器，包括底殼，圓柱形元件，所述元件軸頸定位并沿其軸線旋轉，所述底殼筒形并與所述元件同軸，所述底殼部分地環(huán)繞所述元件，所述元件和底殼之間限定了柱形文氏管，粉末被供入其中，所述文氏管具有徑向間隔的入口和出口，該裝置可在所述底殼內旋轉所述元件該轉速大于靠離心力把粉末從所述元件甩出所需的速度，所述元件抽吸氣體通過所述文氏管并對供入所述入口的粉末進行霧化而產生均勻的顆粒霧，選擇所述元件使顆粒之間以及顆粒和元件之間的碰撞極大化從而對粉末霧化并減小供入文氏管內的粉末的顆粒尺寸。
32.如權利要求31所述霧化器，其特征在于所述元件是帶有硬刺的刷子，結合被供入所述文氏管內粉末的物理性能來選擇硬刺的橫向尺寸、長度和物理性能，從而霧化粉要并減小粉末的顆粒尺寸。
33.如權利要求32所述霧化器，其特征在于所述刷子的硬刺具有彈性，所述硬刺在與顆粒碰撞時產生彈性彎曲，從而提高霧化程度，減小粉末的顆粒尺寸。
34.如權利要求31所述霧化器，其特征在于所述硬刺實際上是圓柱形的，其長度和直徑之比約從10比1至5000比1。
35.如權利要求31所述霧化器，其特征在于所述硬刺的橫截面基本上是平行四邊形且其橫向和縱向長度比率約從200比1至800比1。
36.如權利要求31所述霧化器，其特征在于所述硬刺具有平行四邊形的橫截面，其在旋轉方向的厚度大于其橫向的，其旋轉方向與其橫向相比，具有較大的剛性和較小的柔韌性。
37.如權利要求31所述霧化器，其特征在于所述硬刺長度約從半英寸至5英寸。
38.如權利要求31所述霧化器，其特征在于所述底殼和元件的長度與直徑之比都大于1。
39.如權利要求31所述霧化器，還包括與所述元件相距約0.001至0.20英寸的翼板，因此還包括使所述霧狀體導入其中并與所述翼板相距約1至6英寸的目標區(qū)域。
40.如權利要求39或9所述霧化器，其特征在于所述目標區(qū)域是細長的，而所述元件和底殼與該目標區(qū)域成角度設置。
41.如權利要求39或9所述霧化器，其特征在于所述翼板橫截面是圓形。
42.如權利要求39或9所述霧化器，其特征在于所述翼板上有氣動表面，該表面是平面。
43.如權利要求39或9所述霧化器，其特征在于所述目標區(qū)域是細長的，所述元件和底殼平行于所述目標區(qū)域的延長部分，所述翼板具有螺旋狀凸緣，延伸于所述目標區(qū)域整個橫向寬度。
44.如權利要求32所述霧化器，其特征在于硬刺要從天然纖維、合成聚合物和金屬硬刺集合中選取。
45.如權利要求32所述霧化器，其特征在于所述硬刺的橫向尺寸范圍約從兩倍于顆粒尺寸到50倍于顆粒尺寸。
46.如權利要求32所述霧化器，其特征在于所述硬刺的橫向尺寸范圍約從0.001英寸至0.062英寸。
47.如權利要求32所述霧化器，其特征在于所述硬刺的長度和橫向尺寸比率約從10比1至5000比1。
48.如權利要求32所述霧化器，其特征在于所述硬刺旋轉方向的尺寸范圍約從0.001英寸至0.062英寸。
49.如權利要求31所述霧化器，其特征在于所述硬刺的與旋轉方向垂直方向的尺寸范圍約從0.001英寸至0.062英寸。
50.如權利要求31所述霧化器，其特征在于所述硬刺的長度與橫向尺寸的比率約從200比1至800比1。
全文摘要
一種改進的粉末霧化器包括筒狀底殼,圓柱形可彈性變形元件,該元件軸頸定位并在底殼內繞其軸線旋轉。該底殼與該元件同軸安裝。該元件和底殼之間限定了柱形文氏管,粉末被供入其中。文氏管具有徑向間隔的入口和出口。該裝置在底殼內可旋轉該元件,該轉速大于靠離心力把粉末從該元件甩出所需的速度。該元件抽吸周圍的空氣通過文氏管并對供入文氏管入口的粉末進行霧化,從而形成均勻流動的顆粒霧,該霧狀體在其軸線的縱向和側向都是均勻的。本發(fā)明還提供了一種霧化器進給裝置和霧化器和進給裝置的組合以及與霧化電極的組合,該進給裝置如專利US5,314,090所公開,其尤其適用于寬壁涂鍍加工,用于產生在壁的側向和縱向上都均勻的顆粒霧,且整個均勻流動的霧狀體在顆粒的分布和顆粒尺寸上都是均勻的。
文檔編號B05B7/14GK1176852SQ9711718
公開日1998年3月25日 申請日期1997年7月10日 優(yōu)先權日1996年7月10日
發(fā)明者G·R·阿勒山德爾, E·C·艾斯卡龍 申請人:材料科學有限公司