的理發(fā)設(shè)備I上實(shí)施。便攜處理單元2尤其包括電子卡(未示出)，該電子卡被配置用于控制兩個(gè)加熱板17，18和蒸發(fā)室的激活。該電卡布置在兩個(gè)臂3，4中的一個(gè)臂的內(nèi)部，例如在第一臂3的近端部3a中。如圖1所示，便攜處理單元2包括簧片開(kāi)關(guān)即ILS類型的磁傳感器25，其允許檢測(cè)夾鉗的關(guān)閉位置，根據(jù)該關(guān)閉位置，兩個(gè)表面5，6彼此相對(duì)地靠近并且?jiàn)A緊發(fā)綹。在一個(gè)變型例中，可用磁阻傳感器即MRS替代簧片開(kāi)關(guān)。
[0044]如圖1至3所示，凹槽10在第一加熱板17的下游部分17a(或者不需為加熱表面的第一表面5)中相對(duì)于便攜處理單元2從發(fā)根到發(fā)梢的移動(dòng)方向?qū)嵤?，如圖2的箭頭26所示。這允許在通過(guò)加熱處理發(fā)綹(或通過(guò)不必加熱的夾緊)之前通過(guò)蒸汽處理發(fā)綹。凹槽10優(yōu)選地在其兩個(gè)端部通向第一表面5的縱向邊緣5a，5bο然而，可設(shè)置變型例，根據(jù)該變型例，凹槽10僅通向縱向邊緣5a，5b中的一個(gè)縱向邊緣上。如圖2所示，凹槽10的中線27與第一加熱板17的下游側(cè)邊緣29間隔一距離dl定位。該距離dl與該加熱板17的寬度11的比率優(yōu)選地介于0.1和0.4之間。例如，板的寬度等于28.9mm，并且距離dl等于6.25mm，這對(duì)應(yīng)于0.22的比率。
[0045]如圖1至3所示，溝槽9布置在第二加熱板18的下游部分18a中并且與凹槽10相對(duì)。根據(jù)該實(shí)施方式，溝槽9和凹槽10-具有大致相同的形狀和體積。溝槽或溝槽與凹槽的整體允許形成用于封閉擴(kuò)散的蒸汽的封閉機(jī)構(gòu)。與凹槽10 —樣，溝槽9在其兩個(gè)端部通向第二表面6的縱向邊緣6a，6b上。溝槽9和凹槽10被確定尺寸用于同時(shí)構(gòu)成蒸汽的封閉空間28，該蒸汽從孔12開(kāi)始循環(huán)。該封閉空間28允許由于通過(guò)孔12循環(huán)的蒸汽的更新而在該蒸汽通過(guò)溝槽9和凹槽10的端部排出之前，圍繞被夾在兩個(gè)表面5，6之間的發(fā)綹而容納蒸汽。蒸汽的封閉有助于通過(guò)蒸汽處理發(fā)絡(luò)，同時(shí)使用優(yōu)選地介于0.9g/min和1.2g/min之間的減小的蒸汽流量，同時(shí)確保便攜處理單元2沿著發(fā)綹的或快或慢的移動(dòng)。另外，在兩個(gè)加熱板17，18之間的封閉空間28的實(shí)施有利地允許加熱封閉在該空間中的蒸汽。為了實(shí)施該封閉空間28，優(yōu)選地選擇凹槽10的寬度介于2mm和6mm之間且優(yōu)選地為2.5mm，并且選擇凹槽10的深度介于0.5mm和2mm之間且優(yōu)選地為1mm。另外，凹槽10的體積優(yōu)選地介于200mm3和275mm 3之間且優(yōu)選地為225mm3。凹槽10的長(zhǎng)度優(yōu)選地介于20mm和220mm之間且優(yōu)選地為90mm。溝槽9的尺寸和體積優(yōu)選地是與凹槽相似的，這允許獲得封閉空間28的介于400mm3和550mm3之間且優(yōu)選地為450mm 3的體積。
[0046]如圖4所示，便攜處理單元2包括蒸汽防護(hù)裝置20，該蒸汽防護(hù)裝置布置在第一臂3上、在第一表面5的近處的縱向邊緣5a處。該蒸汽防護(hù)裝置20允許阻止從封閉空間28排出的蒸汽進(jìn)入由兩個(gè)臂3，4的近端部3a，4a所構(gòu)成的便攜處理單元2的握持區(qū)域。
[0047]圖5示出蒸汽噴射或擴(kuò)散機(jī)構(gòu)7在第一表面5上的實(shí)施的變型例。這些蒸汽噴射或擴(kuò)散機(jī)構(gòu)7包括兩個(gè)相鄰的凹槽10，10’，所述凹槽與圖1至3所示的凹槽的結(jié)構(gòu)類似，它們布置在第一加熱板17的下游部分17a上。每個(gè)凹槽10，10’包括布置在所述凹槽10，10’的底部11，11’中的孔12，12’，蒸汽通過(guò)這些孔而噴射、擴(kuò)散和運(yùn)送。根據(jù)該實(shí)施方式，布置在第二加熱板18a上的溝槽9具有一寬度，該寬度與兩個(gè)凹槽10，10’的總的寬度相對(duì)應(yīng)。蒸汽流量也介于0.5g/min和2g/min之間，優(yōu)選地介于0.9g/min和1.2g/min之間。在該情況下，封閉空間的體積通過(guò)溝槽9和凹槽10，10’的體積而構(gòu)成。該體積在圖1至3的實(shí)施方式的封閉空間28的體積的兩倍的值的范圍內(nèi)。事實(shí)上，這涉及到將前述實(shí)施方式的蒸汽通道或溝槽加倍，使得蒸汽沿著雙通道前進(jìn)并且發(fā)綹雙倍地被蒸汽處理。所述通道可在一個(gè)或多個(gè)表面的端部中的一個(gè)端部處流體循環(huán)。在通過(guò)呈完整U形形狀的通道使平行通道的蒸汽循環(huán)的該構(gòu)造中，替換例為蒸汽輸出孔僅存在于通道(未示出)中的一個(gè)通道上。
[0048]在圖6中，蒸汽噴射或擴(kuò)散機(jī)構(gòu)7與圖1至3的蒸汽噴射或擴(kuò)散機(jī)構(gòu)相似。另外，柵欄13布置在凹槽10的上方，這有助于在封閉空間28中所產(chǎn)生和移動(dòng)的蒸汽的均勻分配，該封閉空間與圖1至3所示的封閉空間相似。這種柵欄13可在圖5所示的實(shí)施方式的每個(gè)凹槽10，10’上實(shí)施。
[0049]在圖7的實(shí)施方式中，凹槽10包括彎曲的形狀。溝槽9包括凸起的柵欄14，該凸起的柵欄具有與所述彎曲的凹槽10的形狀互補(bǔ)的形狀。該凸起的柵欄允許均勻地分配封閉空間28中的蒸汽，并且允許在便攜處理單元2移動(dòng)時(shí)牽拉發(fā)綹。封閉空間28的體積在與圖1至3的實(shí)施方式的的值相似的值的范圍內(nèi)。
[0050]在圖8中，凹槽10和溝槽9為圓形形狀，并且當(dāng)夾鉗關(guān)閉時(shí)限定圓柱體15，所述圓柱體限定封閉空間28。另外，穿孔滾棒16沿著軸線X在圓柱體15的內(nèi)部旋轉(zhuǎn)地布置。該穿孔滾棒16可是電動(dòng)的。圓柱體15的體積在與圖1至3的實(shí)施方式的封閉空間28的體積的值相似的值的范圍內(nèi)。
[0051]圖9、10、11和12各自示出圖2的封閉機(jī)構(gòu)的實(shí)施方式的變型例，而其可單獨(dú)地或組合地實(shí)施在前述任何實(shí)施方式中。這些實(shí)施方式的共同點(diǎn)是一個(gè)或兩個(gè)參考元件30, 30a，所述一個(gè)或兩個(gè)參考元件特別地插入布置在一個(gè)或多個(gè)加熱板中的一個(gè)或兩個(gè)空間(又或者被稱為槽)中。插入板中的這種元件至少部分地限定了封閉機(jī)構(gòu)的輪廓。這一個(gè)或這些元件允許給通過(guò)所封閉的蒸汽的處理帶來(lái)額外的功能。
[0052]因此，圖9示出具有間隔的實(shí)施方式，該實(shí)施方式使用一個(gè)或兩個(gè)玻璃元件，所述一個(gè)或兩個(gè)玻璃元件分別插入布置的比加熱板的最終溝槽的空間更大的空間中。一個(gè)或多個(gè)溝槽在所述一個(gè)或兩個(gè)玻璃元件中形成。一個(gè)或多個(gè)玻璃元件可通過(guò)一個(gè)或多個(gè)電致發(fā)光二極管(LED)而被照亮，以便形成封閉溝槽的每側(cè)的光柱。
[0053]圖10示出一替換例，在該替換例中，蒸汽通過(guò)用于引導(dǎo)來(lái)自蒸發(fā)室的蒸汽的兩個(gè)通道31，31a被帶來(lái)。為此，特別的元件被插入布置在板的處理表面上的最大空間中。該元件允許將來(lái)自蒸發(fā)室的通過(guò)通道而到來(lái)的蒸汽改道。
[0054]圖11示出一個(gè)變型例，在該變型例中，一個(gè)或多個(gè)特別的元件是由鋁制成的，并且例如被著色，例如在所設(shè)置的空間中滑動(dòng)。固定通過(guò)楔形榫而進(jìn)行?？上胂笸ㄟ^(guò)替換一個(gè)或多個(gè)特別的元件來(lái)改變一個(gè)或多個(gè)溝槽的尺寸。
[0055]最后，圖12示出一個(gè)變型例，其中一個(gè)或多個(gè)特別的元件30，30a是由硅樹(shù)脂制成的。有利地并且如示出地，由硅樹(shù)脂制成的元件30，30a可在其就位時(shí)從加熱板17的表面突出，這因此形成在溝槽一側(cè)的頭發(fā)的拉伸區(qū)域32或牽引區(qū)域32，這允許發(fā)綹的更好且更不受妨礙的拉直。
[0056]在圖1中，梳子19布置在第一臂3上的第一表面5的下游處。該梳子19允許在發(fā)綹在兩個(gè)表面5，6之間通過(guò)之前梳理發(fā)綹并且使發(fā)綹通風(fēng)。
[0057]在本實(shí)用新型的范圍內(nèi)，其他的實(shí)施變型例可被考慮。尤其可設(shè)置一封閉空間，該封閉空間僅通過(guò)在第二表面6上的溝槽9的體積構(gòu)成，或者僅通過(guò)在第一表面5上的包括蒸汽擴(kuò)散或噴射孔12的凹槽