專利名稱：用于在板上定位固體生長(zhǎng)培養(yǎng)基的表面的方法和裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明主要涉及一種利用微生物樣本參與固體生長(zhǎng)培養(yǎng)基的接種，并接著對(duì)接種體劃線以制造隔離的菌落的裝置，主要用于在實(shí)驗(yàn)室內(nèi)的診斷目的，例如醫(yī)學(xué)診斷的目的。本發(fā)明具體涉及一種方法和裝置，用于在自動(dòng)劃線設(shè)備內(nèi)在板上定位固體生長(zhǎng)培養(yǎng)基的表
面，以幫助隨后的劃線操作。然而，本發(fā)明不應(yīng)局限于該應(yīng)用。
背景技術(shù)：
在許多微生物實(shí)驗(yàn)室中，單獨(dú)的微生物(尤其是細(xì)菌)群體的隔離是重要的程序。傳統(tǒng)上，由有經(jīng)驗(yàn)的實(shí)驗(yàn)室技術(shù)人員人工地執(zhí)行該細(xì)菌隔離，該實(shí)驗(yàn)室技術(shù)人員首先將微生物樣本分配到諸如皮氏培養(yǎng)皿(Petri dish)內(nèi)的瓊脂的固體生長(zhǎng)培養(yǎng)基(以下將簡(jiǎn)稱為"瓊脂板"內(nèi)的"培養(yǎng)基"或簡(jiǎn)單地為"板"內(nèi)的"培養(yǎng)基")的表面上，接著利用手工工具將樣本分布在培養(yǎng)基的表面上(稱為"劃線")。
手工工具典型地包括用于在培養(yǎng)基上產(chǎn)生跨過培養(yǎng)基的多條接種體的增強(qiáng)稀釋度的劃線的末端環(huán)(terminal loop)。增強(qiáng)稀釋度的劃線趨向于大致朝向劃線的尾部提供允許隔離出來的微生物群體在接種后生長(zhǎng)的許多單個(gè)細(xì)胞。這些隔離出來的群體可以接著被用于分析群體形態(tài)，并且可以經(jīng)歷染色及其他程序確定例如以前未識(shí)別的生物體的屬、種和品系。
如上所述類型的接種和劃線非常具有重復(fù)性的，并且在許多病理學(xué)診斷的微生物學(xué)實(shí)驗(yàn)室通常以很大的數(shù)量操作，例如數(shù)量上高達(dá)每天1000到15000板。這是單調(diào)乏味且艱巨的工作，因此易于出現(xiàn)錯(cuò)誤和不精確。這是很明顯適合于部分或者全部自動(dòng)化的工作。
文獻(xiàn)中充滿了怎樣最好地使這些實(shí)驗(yàn)室功能自動(dòng)化的建議，然而這些建議中極少曾經(jīng)在商業(yè)實(shí)驗(yàn)室環(huán)境中取得實(shí)際成功。因此，合適的實(shí)驗(yàn)儀器能夠成功地工作至今已經(jīng)證明
6似乎是難以實(shí)現(xiàn)的。
能夠在下面的文獻(xiàn)中找到用于自動(dòng)化這些實(shí)驗(yàn)室功能的三個(gè)最近的建議美國(guó)專利 4,981,802 (C. Wylieetal)標(biāo)題為"用于對(duì)培養(yǎng)基劃線的方法和裝置"，美國(guó)專利6,617,146 (F.Naccaratoetal)標(biāo)題為"用于自動(dòng)對(duì)來自標(biāo)本容器的細(xì)菌樣本進(jìn)行自動(dòng)接種培養(yǎng)基的 方法和裝置"，以及國(guó)際專利公開WO2005/071055 (Medvet Science Pty Ltd)標(biāo)題為"微生 物劃線設(shè)備"(授權(quán)給本申請(qǐng)人)。
Wylie和Naccarato的專利描述運(yùn)用類似于上述手工劃線工具的、可再利用的劃線工具 的自動(dòng)和半自動(dòng)的裝置，而沒有描述用于那些裝置的合適的系統(tǒng)或者機(jī)構(gòu)，以在三維空間 確定培養(yǎng)基的表面的精確位置。
盡管Medvet科學(xué)公開文獻(xiàn)描述了一種新型的劃線工具的使用，該劃線工具是包括一 系列間隔開的接觸面(用于接觸固體生長(zhǎng)培養(yǎng)基的表面)的劃線敷料器，接觸面由公共的 支撐構(gòu)件有彈性地可回復(fù)地支撐，該新的劃線工具也當(dāng)然需要放置在培養(yǎng)基的表面上。 Medvet科學(xué)公開建議當(dāng)工具被合適在表面上時(shí)，通過設(shè)置具有壓力傳感裝置的設(shè)備能夠處 理其以進(jìn)行確定。
應(yīng)該了解的是板內(nèi)例如瓊脂的培養(yǎng)基的高度將依賴于許多因素而波動(dòng)。例如，不僅不 同的板并且固體生長(zhǎng)培養(yǎng)基供應(yīng)者不變地生產(chǎn)瓊脂板，例如從一個(gè)供應(yīng)者到下一個(gè)具有各 式各樣的表面高度，而且即使相同的供應(yīng)者也會(huì)提供具有不同的培養(yǎng)基高度的他們自己的 板。而且，被用來這個(gè)目的的培養(yǎng)基的不同成分和壽命也趨向于生產(chǎn)具有不同的培養(yǎng)基表 面高度的板。因此，由于這樣的高度波動(dòng)，對(duì)于自動(dòng)劃線裝置來說，通常不可能相信所有 板中的培養(yǎng)基的表面高度相同。
因此，對(duì)于例如這樣的自動(dòng)裝置的培養(yǎng)裝置(inoculating device)來說，不能相信對(duì)于 每個(gè)要被處理的板能夠?qū)⒔臃N體(inoculum)放在處于三維空間中的相同位置的培養(yǎng)基的 表面上，并且這樣做的裝置將會(huì)很困難并且很復(fù)雜。作為另一個(gè)示例，對(duì)于這樣的自動(dòng)裝 置的劃線裝置，在三維空間中，在設(shè)法將劃線工具放置在每個(gè)板的相同位置的培養(yǎng)基的表 面(以便展開接種體而不鑿削表面)上還有潛在的困難和復(fù)雜。
關(guān)于培養(yǎng)裝置，需要了解的是分配末端在z方向(高度)的不正確定位將引起接種體 從過高分配(并且因此沒有根據(jù)需要分配)，或者與表面接觸，從而該末端鑿削培養(yǎng)基的 表面。與劃線裝置有關(guān)，接觸表面在z方向(高度)的不正確定位將引起無論怎樣都不會(huì) 與接種體接觸，或者接觸過多，從而該劃線工具也在培養(yǎng)基的表面鑿削軌跡。本發(fā)明的目的是提供能夠在例如對(duì)板進(jìn)行接種和劃線之前將培養(yǎng)基的表面在板中定 位的方法和裝置。在這點(diǎn)上，和上面預(yù)先介紹的那樣，本發(fā)明的目的還在于在上述進(jìn)行接 種和劃線場(chǎng)合以外的其它實(shí)驗(yàn)室場(chǎng)合得到運(yùn)用的方法和裝置。實(shí)際上，本發(fā)明的方法和裝 置可以在任何實(shí)驗(yàn)室中獲得應(yīng)用，以簡(jiǎn)單地提供用于出于任何目的將固體生長(zhǎng)培養(yǎng)基的表 面在板中定位的處理。
在轉(zhuǎn)入本發(fā)明的發(fā)明內(nèi)容之前，必須了解的是，上述現(xiàn)有技術(shù)的描述被提供僅僅作為 背景技術(shù)以解釋本發(fā)明的背景。不應(yīng)將其視為承認(rèn)所提及的任何材料被公開或知道，或者 在澳大利亞或其它地方成為公知常識(shí)的一部分。
提供將要用來限定該裝置及其各個(gè)部分的空間關(guān)系的一些術(shù)語的解釋也是有用的。在 這點(diǎn)上，貫穿該說明書的空間基準(zhǔn)將主要基于在自動(dòng)劃線裝置中沿豎直方向最終被接種和 劃線的板，板內(nèi)的培養(yǎng)基的表面通常平坦且水平。以此情況為基礎(chǔ)，可能參考"水平"定 義裝置及其部分部件，允許進(jìn)一步參考"上"或"向上地"和"下"或"向下地"，也可 參考"垂直"。在這點(diǎn)上，同樣也可釆用空間參考x,y和z維數(shù)，即參考X方向(或軸)、y 方向(或軸)和z方向(或軸)的傳統(tǒng)幾何空間，x和y方向通常水平布置，而z方向通 常豎直布置。
最后，本發(fā)明的最終單獨(dú)(不在使用環(huán)境下)主張的一些方面可能仍然很難描述和單 獨(dú)理解。因此， 一些隨后的說明不在如此的應(yīng)用環(huán)境下(例如，與自動(dòng)劃線裝置內(nèi)的攜帶 培養(yǎng)基的板相關(guān)聯(lián))描述本發(fā)明及其實(shí)施例。當(dāng)然，需要了解的是使用這種說明和使用上 述空間關(guān)系來定義本發(fā)明，不應(yīng)被視為是一種限制，當(dāng)然不應(yīng)被視為是僅對(duì)應(yīng)用環(huán)境的限 制，除非清楚地提到了該意圖。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種用于在處于板工作位置的板內(nèi)定位固體生長(zhǎng)培養(yǎng)基的表面的方法，該
板工作位置包括傳感器并且具有在一維(Z)內(nèi)固定的基準(zhǔn)面，該方法包括 ~將板放置在板工作位置；
~使用傳感器檢測(cè)用于定位的板的培養(yǎng)基表面，并且測(cè)量到培養(yǎng)基表面的距離；及 ~將測(cè)量的距離與基準(zhǔn)面參照，以在一維(z)內(nèi)相對(duì)于基準(zhǔn)面確定用于定位的板內(nèi)的 培養(yǎng)基的表面的表面位置基準(zhǔn)。 因此，需要了解的是，借助于表面位置基準(zhǔn)的確定，處于其正常狀態(tài)的、通常是水平方位的板內(nèi)的培養(yǎng)基的表面因此能夠至少在z維內(nèi)定位。至少參考基準(zhǔn)面，這個(gè)有效地確 定了板內(nèi)培養(yǎng)基的高度。在優(yōu)選形式中，基準(zhǔn)面將要成為形成板平臺(tái)的一部分的水平(或 者表面)，板能夠被夾緊并且支撐在板平臺(tái)上。因此，在該優(yōu)選形式中，表面位置基準(zhǔn)的 確定有效地確定了安放在該板平臺(tái)上的培養(yǎng)基相對(duì)于板平臺(tái)的高度。這在用這樣的方式定 位培養(yǎng)基然后允許另一個(gè)可能是不相關(guān)的裝置以一定的精確度地對(duì)培養(yǎng)基的表面可操作 地相互作用是非常有用的，正如本發(fā)明被用在自動(dòng)劃線裝置中的要求(如下所述)。
在本發(fā)明的一個(gè)形式中，培養(yǎng)基高度不會(huì)在其最大范圍內(nèi)通過傳感器檢測(cè)，而僅僅在 作為最大范圍的一部分的檢測(cè)區(qū)域中被檢測(cè)。例如，在一個(gè)形式中，該方法在檢測(cè)區(qū)域內(nèi) 檢測(cè)培養(yǎng)基表面，并且在檢測(cè)區(qū)域內(nèi)測(cè)量到培養(yǎng)基表面的距離。在實(shí)踐中，該測(cè)量的距離 很可能是檢測(cè)區(qū)域整個(gè)面積的平均值，給出了由于表面缺陷等等引起的該表面高度的變化 而引起的跨過該區(qū)域的距離變化的可能性。
然而，如上所述，本發(fā)明的方法的優(yōu)選應(yīng)用是在板內(nèi)培養(yǎng)基的接種和劃線，這通常需 要在三維空間確定跨過培養(yǎng)基表面的線的定位，而不只是確定一維空間內(nèi)的點(diǎn)(或者區(qū) 域)，以便沿著該線展開接種體然后沿著該線(有時(shí)稱為"定位線")定位劃線工具。
本發(fā)明因此也提供一種用于定位處于板工作位置的板內(nèi)的固體生長(zhǎng)培養(yǎng)基的表面的
方法，板工作位置包括傳感器并且具有在二維空間(x,y)中固定在預(yù)定位置的假想作用線，
并且具有在一維(z)固定的基準(zhǔn)面，該方法包括-~將板放置在板工作位置；
~使用傳感器為定位的板檢測(cè)在檢測(cè)區(qū)域內(nèi)的培養(yǎng)基表面，并且測(cè)量到該檢測(cè)區(qū)域內(nèi)
到培養(yǎng)基表面的平均距離； ~將測(cè)量的距離與基準(zhǔn)面參照，以在一維(z)內(nèi)相對(duì)于基準(zhǔn)面確定用于定位的板內(nèi)培
養(yǎng)基的表面的表面位置基準(zhǔn)；并且 ~使用表面位置基準(zhǔn)和假想作用線以在三維空間(x,y,z)內(nèi)確定代表跨過定位的板內(nèi) 的培養(yǎng)基表面的線的線。 在本發(fā)明另一個(gè)優(yōu)選形式中，該方法包括另外的步驟以上檢測(cè)極限在基準(zhǔn)面上方且 下檢測(cè)極限在基準(zhǔn)面下方的形式設(shè)定上檢測(cè)極限和下檢測(cè)極限，以限定上下限之間的檢測(cè) 范圍。這樣的檢測(cè)范圍能夠與用于單獨(dú)確定表面位置基準(zhǔn)的方法或者用于根據(jù)表面位置基 準(zhǔn)確定表示的表面線的方法相關(guān)聯(lián)而采用。
這種檢測(cè)范圍是任意的范圍并且因此檢測(cè)范圍的上下限能夠被任意地設(shè)定。檢測(cè)范圍
9能夠提供校準(zhǔn)(calibration)機(jī)會(huì)，并且允許識(shí)別例如可以應(yīng)用于檢測(cè)范圍內(nèi)的多個(gè)校準(zhǔn)子 范圍。例如，在本發(fā)明的一些形式中，可能不需要或者不希望該方法能夠確定定位在板工 作位置的板是否仍然包括其上的蓋，或者也許己經(jīng)被倒置地放到板工作位置。因此，通過 采用狹窄的檢測(cè)范圍，上限僅僅剛好在培養(yǎng)基的表面希望處于位置的上方，且下限僅僅剛 好在培養(yǎng)基的表面希望處于位置的下方，由于傳感器檢測(cè)板蓋的表面或者板底部的表面， 如果處于板工作位置的板的可檢測(cè)的高度在該窄范圍之外，傳感器將不會(huì)工作。
相反地，存在這樣的情況，即例如蓋有蓋子的板或者空的板處于板工作位置時(shí)，可能 需要該方法能夠提供警報(bào)。如果已經(jīng)設(shè)定了合適地足夠?qū)挼臋z測(cè)范圍，傳感器將檢測(cè)蓋壁 或者底壁的存在，并且將測(cè)量到該表面的距離，而不是到板內(nèi)的培養(yǎng)基表面的距離。因此， 通過規(guī)定具有用于警報(bào)條件(例如，蓋的板或者空板)和用于非警報(bào)條件(無蓋的直立板) 的校準(zhǔn)子范圍的合適地寬的檢測(cè)范圍，該校準(zhǔn)子范圍能夠引起警報(bào)條件的識(shí)別(借助于確 定表面位置基準(zhǔn)和其在一個(gè)警報(bào)校準(zhǔn)子范圍內(nèi)的存在)，以允許該方法正常地起作用。
例如，依賴于板的可能厚度和其中使用的培養(yǎng)基的可能高度，在一個(gè)形式的檢測(cè)范圍 能夠設(shè)定在大約30mm，具有在上限設(shè)定為基準(zhǔn)面上方20mm，且下限設(shè)定為基準(zhǔn)面下方 10mm。在該形式中，參考典型的板，蓋著的板(在任一方向)可以生成在上限下方大約 7mm的表面位置基準(zhǔn)，無蓋直立的板可以生成在上限下方大約14mm的表面位置基準(zhǔn)(用 于其培養(yǎng)基表面)，且無蓋而空的板可以生成在上限下方大約18mm的表面位置基準(zhǔn)(這 僅僅是基準(zhǔn)面上方的板的底壁的厚度)。
本發(fā)明還提供一種用于在處于板工作位置的板內(nèi)定位固體生長(zhǎng)培養(yǎng)基的表面的方法， 該板工作位置包括傳感器并且具有固定在一維(z)的基準(zhǔn)面，該方法包括
~設(shè)定上限和下限以限定上下限之間的檢測(cè)范圍；
~將板放置在板工作位置；
~使用傳感器以在檢測(cè)范圍內(nèi)檢測(cè)用于定位的板的培養(yǎng)基表面，并且測(cè)量到培養(yǎng)基表 面的距離；和
~將測(cè)量的距離與基準(zhǔn)面相參照，以在一維(z)內(nèi)相對(duì)于基準(zhǔn)面提供用于定位的板內(nèi) 的培養(yǎng)基的表面的表面位置基準(zhǔn)。 進(jìn)一步，本發(fā)明還可以提供一種用于定位處于板工作位置的板內(nèi)的固體生長(zhǎng)培養(yǎng)基的 表面的方法，板工作位置包括傳感器并且具有在二維空間(x，y)中固定在預(yù)定位置的假想、 作用線，并且具有固定在一維(z)的基準(zhǔn)面，該方法包括
10~設(shè)定上限和下限以限定上下限之間的檢測(cè)范圍； ~將板放置在板工作位置；
~使用傳感器在檢測(cè)范圍內(nèi)檢測(cè)在定位的板的檢測(cè)區(qū)域內(nèi)的培養(yǎng)基表面，并且在檢測(cè)
區(qū)域內(nèi)測(cè)量到培養(yǎng)基表面的平均距離； ~將測(cè)量的距離與基準(zhǔn)面相參照，以在一維(Z)內(nèi)相對(duì)于基準(zhǔn)面確定用于定位的板內(nèi)
培養(yǎng)基的表面的表面位置基準(zhǔn)；并且 ~使用表面位置基準(zhǔn)和假想作用線以在三維空間(x,y,z)確定代表跨過定位的板內(nèi)的 培養(yǎng)基的表面的線的線。 如上所述，較好地該基準(zhǔn)面被固定且因此是該裝置中已知的參數(shù)。在本發(fā)明的一個(gè)形 式中，基準(zhǔn)面被固定作為平臺(tái)的最高表面，該平臺(tái)構(gòu)造為將板保持在板工作位置，該最高 表面因此是板下方緊接的表面。出于這個(gè)考慮，平臺(tái)本身較好地在Z方向固定，從而其在 Z方向的定位是不變的和已知的，不管是否要求平臺(tái)在x或者y方向移動(dòng)來作為其正常操
作的一部分。
更加有益的是本發(fā)明進(jìn)一步包括這樣的部分，有規(guī)律地檢驗(yàn)該定位沒有變動(dòng)的能力， 例如通過能夠以每日、每周或每月為基礎(chǔ)進(jìn)行檢驗(yàn)，或者能夠在本發(fā)明的方法和裝置的每 次操作流程之前進(jìn)行檢驗(yàn)，或者甚至在每次進(jìn)行測(cè)量之前(盡管這個(gè)不大可能)。實(shí)際上，
需要了解的是即使 正常的機(jī)械操作振動(dòng)(或者溫度變化)可以引起基準(zhǔn)面在z方向的定位
變動(dòng)(即使是輕微地變動(dòng))，這會(huì)對(duì)本方法和裝置的操作的精確性產(chǎn)生影響。
該傳感器能夠是任何種類的傳感器，只要能夠被編程并且被控制以通過上述方式檢測(cè) 表面的存在，然后測(cè)量到傳感器的距離，理想地是從作為傳感器的一部分的固定基準(zhǔn)點(diǎn)。 該傳感器可以是例如激光傳感器或者超聲波傳感器。較好地，該傳感器包括可編程序控制
器，該可編程序控制器能夠另外地執(zhí)行如上所述的基準(zhǔn)任務(wù)(referencingtasks)。
在優(yōu)選的形式中，傳感器是超聲波傳感器，包括能夠?qū)⒕劢沟氖峁┑脚囵B(yǎng)基表面上 的超聲波束聚焦元件，較好地將聚焦束提供在如上所述的檢測(cè)區(qū)域內(nèi)。在本發(fā)明的組成中， 表示的線將由表面位置基準(zhǔn)確定，該檢測(cè)區(qū)域因此較好地以如上所述的預(yù)定的假想作用線 為中心。
該傳感器較好地剛性安裝到主框架，從而限定板工作位置的總定位(general location)。 在這個(gè)形式中，傳感器被理想地安裝在板工作位置上方且操作地靠近在直接在傳感器下方 保持在板平臺(tái)中的定位的板，該定位的板具有向上開放的培養(yǎng)基表面。因此，本發(fā)明還提供一種用于定位處于板工作位置的板內(nèi)的固體生長(zhǎng)培養(yǎng)基的表面的 裝置，該板工作位置包括傳感器并且具有在一維(z)固定的基準(zhǔn)面，其中該傳感器能夠檢 測(cè)用于定位的板的培養(yǎng)基表面，并且測(cè)量到培養(yǎng)基表面的距離，該裝置還包括用于將測(cè)量 的距離與基準(zhǔn)面相參照，以在一維(Z)內(nèi)相對(duì)于基準(zhǔn)面確定用于定位的板內(nèi)的培養(yǎng)基的表 面的表面位置基準(zhǔn)的單元。
本發(fā)明進(jìn)一步提供一種用于定位處于板工作位置的該板內(nèi)的固體生長(zhǎng)培養(yǎng)基的表面 的裝置，該板工作位置包括傳感器并且具有在二維空間(x，y)內(nèi)固定在預(yù)定位置的假想作 用線，并且具有在一維(z)中固定的基準(zhǔn)面，其中該傳感器能夠檢測(cè)在檢測(cè)區(qū)域內(nèi)用于定 位的板的培養(yǎng)基表面并且測(cè)量在檢測(cè)區(qū)域內(nèi)到培養(yǎng)基表面的平均距離，該裝置還包括用于 參考到基準(zhǔn)面的測(cè)量距離以相對(duì)于基準(zhǔn)面在一維(z)內(nèi)確定用于定位的板內(nèi)的培養(yǎng)基的表 面的表面位置基準(zhǔn)，然后使用該表面位置基準(zhǔn)和假想作用線以在三維空間(x,y,z)確定代 表跨過定位的板內(nèi)的培養(yǎng)基的表面的線的線的單元。
進(jìn)一步，本發(fā)明還提供一種用于定位處于板工作位置的板內(nèi)的固體生長(zhǎng)培養(yǎng)基的表面 的裝置，該板工作位置包括傳感器并且具有在一維(z)內(nèi)固定的基準(zhǔn)面，其中該傳感器具 有上限和下限以限定上下限之間的檢測(cè)范圍，并且能夠在該檢測(cè)范圍內(nèi)檢測(cè)用于定位的板 的培養(yǎng)基表面，并且測(cè)量到培養(yǎng)基表面的距離，該裝置還包括用于將測(cè)量的距離與基準(zhǔn)面 相參照，以在一維(z)內(nèi)提供用于定位的板內(nèi)的培養(yǎng)基的表面的表面位置基準(zhǔn)的單元。
更進(jìn)一步，本發(fā)明還可以提供一種用于定位處于板工作位置的板內(nèi)的固體生長(zhǎng)培養(yǎng)基 的表面的裝置，該板工作位置包括傳感器并且具有在二維空間(x，y)內(nèi)固定在預(yù)定位置的 假想作用線，并且還具有在一維(z)內(nèi)固定的基準(zhǔn)面，其中該傳感器具有上限和下限以在 上下限之間限定檢測(cè)范圍，并且能夠在該檢測(cè)范圍內(nèi)檢測(cè)在檢測(cè)區(qū)域內(nèi)的用于定位的板的 培養(yǎng)基表面，并且測(cè)量在該檢測(cè)區(qū)域內(nèi)的到培養(yǎng)基表面的平均距離，該裝置包括用于將測(cè) 量的距離與基準(zhǔn)面相參照，以相對(duì)于基準(zhǔn)面在一維(z)內(nèi)確定用于定位的板內(nèi)的培養(yǎng)基的 表面的表面位置基準(zhǔn)，然后使用該表面位置基準(zhǔn)和假想作用線以在三維空間(x,y,z)確定 代表跨過定位的板內(nèi)的培養(yǎng)基的表面的線的線的單元。
而且，當(dāng)然應(yīng)該了解的是用于定位的板內(nèi)的培養(yǎng)基的表面的表面位置基準(zhǔn)及表示的 線，將具體到僅僅在定位板內(nèi)的培養(yǎng)基，并且可以與處于板工作位置處理的下一個(gè)板的表 面相比是(并且事實(shí)上可能是)不同的表面位置基準(zhǔn)及表示的線。
最終，設(shè)想本發(fā)明的方法及裝置將另外獲得使用通過直立的徑向壁分離的板的兩半并且每半包含培養(yǎng)基的半板(half-plates)(經(jīng)常稱為雙板)，該培養(yǎng)基的高度將以如上所述的 方式確定。在該情況下，如上所述的方法能夠變型為也準(zhǔn)許直立的壁的定位的檢測(cè)或者確 認(rèn)，然后在兩半上兩次啟動(dòng)與板有關(guān)的本發(fā)明的方法的操作。替換地，該方法顯然能夠變 型為簡(jiǎn)單地準(zhǔn)許該裝置以其他方式被通知存在雙板，以便接著在兩半上均啟動(dòng)該方法的操 作。
從上文顯然可知，本發(fā)明的裝置和方法主要適用于自動(dòng)劃線裝置，理想地是用于在 2008年1月11日提交的本申請(qǐng)人的國(guó)際專利申請(qǐng)(標(biāo)題"用于接種和劃線板內(nèi)的培養(yǎng)基 的方法和裝置")中大致描述的類型，該國(guó)際專利申請(qǐng)主張澳大利亞臨時(shí)專利申請(qǐng) 2007900146的優(yōu)先權(quán)，該文獻(xiàn)的所有內(nèi)容通過引用而接合到本文中。出于這個(gè)目的，該劃 線裝置的一種形式通常地包括
(a) 能夠存儲(chǔ)位于反向方位的原始板的板供給源；
(b) 板傳輸饋送機(jī)構(gòu)，該板傳輸饋送機(jī)構(gòu)能夠從板供給源獲得翻轉(zhuǎn)的原始板，使原始板 無蓋并且定向該原始板使其底部最低，并且將該定向的并且無蓋的原始板傳輸?shù)浇?種和劃線站中的板工作位置；
(c) 本發(fā)明的該裝置是能夠在對(duì)板進(jìn)行接種和劃線之前對(duì)定位的板內(nèi)的培養(yǎng)基的表面 進(jìn)行定位的傳感器；
(d) 能夠?qū)⒔臃N體分配到定位的板內(nèi)的培養(yǎng)基的表面上的接種設(shè)備；
(e) 劃線設(shè)備，該劃線設(shè)備能夠從劃線敷料器供給源獲得劃線敷料器，然后移動(dòng)所述劃 線敷料器使得劃線敷料器的一系列間隔的接觸面在定位板為了劃線而旋轉(zhuǎn)之前接 觸定位的板內(nèi)的培養(yǎng)基的表面；
(f) 能夠存儲(chǔ)處于反向方位的處理過的板的板存儲(chǔ)器；和
(g) 板傳輸存儲(chǔ)機(jī)構(gòu)，該板傳輸存儲(chǔ)機(jī)構(gòu)能夠從板工作位置取回處理的板，重新定向并 且重新蓋上該處理的板，并且將該處理的板傳輸?shù)桨宕鎯?chǔ)器。
因此，在一個(gè)形式(盡管不是其唯一形式)，本發(fā)明的方法和裝置適合于用作上述自 動(dòng)劃線裝置的板工作位置的傳感器。


已經(jīng)簡(jiǎn)要地描述了與本發(fā)明相關(guān)的總體構(gòu)思，現(xiàn)在將描述根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例。 然而，需要理解的是，以下說明不應(yīng)限制上述描述的通用性。附圖中
圖1是從根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例的裝置上方看的立體圖，顯示靠近板工作位置的板 平臺(tái)；
圖2是從圖1的裝置的上方看的立體圖，顯示保持在處于板工作位置的板平臺(tái)中的板； 圖3是從圖1的裝置的一部分的上方看的立體圖，顯示該裝置被使用以及三維作用線；
和
圖4是圖1的裝置被使用的示意屈，顯示各種幾何和數(shù)學(xué)關(guān)系。
具體實(shí)施例方式
圖1和2中說明的是用于定位固體生長(zhǎng)培養(yǎng)基12的表面的裝置10,該固體生長(zhǎng)培養(yǎng) 基12具有在處于板工作位置A的板14內(nèi)的表面13，且培養(yǎng)基12和板14在圖1中沒有顯 示。圖1顯示板平臺(tái)30，該板平臺(tái)30能夠在定中心和夾緊的位置接收板14以沿著箭頭X 的方向?qū)⒃摪逡苿?dòng)進(jìn)入到板工作位置A。板平臺(tái)30安裝在用于響應(yīng)于合適的控制器沿著導(dǎo) 軌33滑動(dòng)移動(dòng)的支撐31上。板平臺(tái)30包括板夾持構(gòu)件32，板夾持構(gòu)件32為由凸輪設(shè)備 (未顯示)操作的三個(gè)可活動(dòng)的突起的形式，這些突起優(yōu)選還能夠起到用于在平臺(tái)30上 使板定中心的板定中心單元的作用。這在隨后對(duì)板14的操作是有用的。
在本發(fā)明的該實(shí)施例中，該實(shí)施例是用于使用上述類型的自動(dòng)劃線裝置的實(shí)施例，該 板工作位置A包括在預(yù)定位置在二維空間(x,y)中固定的假想作用線B (在圖1中通過虛 線顯示)。然而，以及如上所述的，在本發(fā)明的一些實(shí)施例中，可能不需要確定用于培養(yǎng) 基的表面的位于三維空間中的線(由跨過其表面的線表示，對(duì)于本實(shí)施例由例如圖3中的 線D說明)，從而不需要預(yù)定假想作用線B。
在該實(shí)施例中，假想作用線B在預(yù)定位置在二維空間(x,y)中固定。該作用線B在 這里稱為"假想"作用線，該"假想"作用線不是可視的作用線，且在三維空間中不會(huì)具 有確定的位置，直到板14內(nèi)的培養(yǎng)基12的表面13的定位被確定。
板工作位置A包括基準(zhǔn)面C，其在圖1中顯示為板平臺(tái)30上的最高表面(如圖2中 明顯顯示的，在板工作位置A內(nèi)最后被定位)。
裝置10包括傳感器20，該傳感器20包括具有超聲波束聚焦元件的超聲波傳感器22， 該超聲波束聚焦元件能夠?qū)⒕劢故峁┰谂囵B(yǎng)基表面12上，較好地將聚焦束提供在以預(yù) 定假想作用線B為中心的檢測(cè)區(qū)域(圖2和3中為顯示)內(nèi)。傳感器20通過傳感器支架
14臂24被剛性地安裝到主框架26，從而限定板工作位置A的總定位。在這個(gè)形式中，傳感 器20被理想地安裝以使得其在板工作位置A上方，且操作地鄰近緊接其下保持在板平臺(tái) 30中的板14，板14具有向上開放的表面13，如圖3中顯示的。
參照?qǐng)D3，本發(fā)明的該實(shí)施例的方法因此需要傳感器20，以檢測(cè)用于定位的板14的 培養(yǎng)基表面13，并且測(cè)量到培養(yǎng)基表面13的距離。然后，該測(cè)量的距離參照基準(zhǔn)面C， 以相對(duì)于基準(zhǔn)面C在一維(z)對(duì)于定位的板14內(nèi)的表面13確定表面位置基準(zhǔn)。通過這 樣的方式，需要了解的是，借助于該表面位置基準(zhǔn)的確定，表面13因此能夠至少在z維被 定位。這有效地至少參考基準(zhǔn)面C確定板14內(nèi)的培養(yǎng)基12的高度。在這方面，如附圖中 所示，基準(zhǔn)面C是形成板平臺(tái)30的一部分的表面，在該板平臺(tái)30的上板14被夾緊并且 支撐。因此，在該實(shí)施例中，表面位置基準(zhǔn)的確定有效地確定了培養(yǎng)基12相對(duì)于板平臺(tái) 30的高度，培養(yǎng)基12安放在該板平臺(tái)30上。
這個(gè)表面位置基準(zhǔn)然后能夠與假想作用線B(如圖l所示)一起使用，以在三維空間 (x,y,z)內(nèi)確定線D，其代表跨過在定位的板內(nèi)的表面13的線。
隨著用這樣的方式的表面的定位，培養(yǎng)裝置50能夠位于板工作位置A以按照上述的 方式接種表面12。通過已經(jīng)由合適的方法預(yù)先確定分配末端52在培養(yǎng)裝置50上的定位和 定向，分配末端52能夠根據(jù)需要靠近代表的線D (并且因此表面12)，以沿著其分配接種 體。對(duì)于在面13上操作地相互作用具有劃線工具(也未顯示)的劃線裝置(未顯示)，當(dāng) 然能夠獲得相同的好處。
如上所述，在本發(fā)明的實(shí)施例中，包括另外的步驟以上檢測(cè)極限在基準(zhǔn)面C上方且 下檢測(cè)極限在基準(zhǔn)面C下方的形式設(shè)定上檢測(cè)極限和下檢測(cè)極限，以限定上下限之間的檢 測(cè)范圍。這樣的檢測(cè)范圍的使用能夠與用于確定表面位置基準(zhǔn)(單獨(dú)地)的方法或者用于 根據(jù)該表面位置基準(zhǔn)確定代表的表面線D (如本發(fā)明的該實(shí)施例的圖1到圖3所示)的方 法相關(guān)聯(lián)地采用。
為了幫助說明這樣的檢測(cè)范圍的使用，而且為了幫助理解如上所述的數(shù)學(xué)的和幾何的 處理，參考圖4的示意圖(其大致上利用與圖1到3中使用的標(biāo)號(hào)不同的標(biāo)號(hào))。
在圖4中，顯示定位在板106內(nèi)的培養(yǎng)基104的表面102上方的傳感器100。板106 顯示為直立地位于被用來提供固定基準(zhǔn)面C的板平臺(tái)108上。傳感器100是超聲波傳感器， 其朝向表面102通過束IIO發(fā)射聲信號(hào)，以形成檢測(cè)區(qū)域112。
傳感器被操作來測(cè)量從其固定的基準(zhǔn)點(diǎn)101到表面102的距離d，該距離d通過傳感器100被計(jì)算為跨過檢測(cè)區(qū)域112的距離的平均值。測(cè)量的距離d然后被參照基準(zhǔn)面C， 其是從傳感器100已知的距離c。這樣的參照準(zhǔn)許相對(duì)于基準(zhǔn)面C在一維(z)對(duì)于定位的 板106內(nèi)的表面102確定表面位置基準(zhǔn)p。在該實(shí)施例中，由于利用了板平臺(tái)108的最高 表面作為基準(zhǔn)面C，表面位置基準(zhǔn)p非常接近于板106內(nèi)的培養(yǎng)基104的深度，由于板底 部的厚度，該測(cè)量?jī)H僅是近似值。
盡管如此，通過用這樣的方式定位表面102 (或者通過采取另外的步驟參考在三維空 間中的線定位表面102)，然后可以使例如如上所述的接種和劃線裝置的其他裝置到達(dá)表面 102，從而由于表面的定位的這樣地認(rèn)識(shí)，它們能夠根據(jù)需要與表面結(jié)合或者操作地相互 作用。
如圖4所示，檢測(cè)范圍R具有上限Rl和下限R2，其在基準(zhǔn)面C上方和下方的水平被 任意地設(shè)定。在這方面，需要了解的是檢測(cè)范圍R能夠被任意地設(shè)定在水平rl和r2，用 于不需要或者不想要確定的情況，例如，如果板106仍然包括其上的蓋，或者也許已經(jīng)放 置在缺少培養(yǎng)基的平臺(tái)108上。在這個(gè)情況下，并且在如此狹窄的檢測(cè)范圍，上限r(nóng)l僅僅 剛在表面102上方且下限r(nóng)2僅僅剛在表面102下方，如果板的可檢測(cè)的向上露出的表面在 該狹窄的范圍之外，由于傳感器100檢測(cè)板蓋的表面或者板底部的表面，傳感器100將不 起作用。
然而，在該實(shí)施例中，需要在這兩種情況下提供警報(bào)，并且因此設(shè)定相對(duì)足夠?qū)挼臋z 測(cè)范圍R。因此，在該實(shí)施例中，當(dāng)蓋壁或者底壁在通過上限R1和下限R2限定的檢測(cè)范 圍內(nèi)時(shí)，傳感器100能夠檢測(cè)蓋壁或者底壁的存在，并且將測(cè)量到表面的距離而不是到板 內(nèi)的培養(yǎng)基的表面的距離。通過在d和R1之間及r2和R2之間的校準(zhǔn)子范圍的規(guī)定，這 樣的校準(zhǔn)子范圍能夠識(shí)別警報(bào)狀態(tài)(借助于確定表面位置基準(zhǔn)和其在一個(gè)警報(bào)校準(zhǔn)子范圍 中的存在)，而且允許該方法的固有功能。
綜上所述，應(yīng)該了解的是，對(duì)這里所描述的配置可能有其他的變化和修改，這些變化 和修改也在本發(fā)明的范圍之內(nèi)。
1權(quán)利要求
1.一種用于在處于板工作位置的板內(nèi)定位固體生長(zhǎng)培養(yǎng)基的表面的方法，該板工作位置包括傳感器并且具有在一維(z)內(nèi)固定的基準(zhǔn)面，該方法包括～將板放置在所述板工作位置；～使用所述傳感器檢測(cè)所述定位的板的培養(yǎng)基表面，并且測(cè)量到所述培養(yǎng)基表面的距離；以及～將測(cè)量的距離與所述基準(zhǔn)面相參照，以便在一維(z)內(nèi)為所述定位的板內(nèi)的培養(yǎng)基的表面確定相對(duì)于所述基準(zhǔn)面的表面位置基準(zhǔn)。
2. 如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，借助于所述表面位置基準(zhǔn)的確定，使處于板的正常的、通常是水平方位的板內(nèi)的培養(yǎng)基的表面至少在z維內(nèi)定位。
3. 如權(quán)利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述基準(zhǔn)面是形成板平臺(tái)的一部分的表面，板能夠被夾緊并且支撐在該板平臺(tái)上。
4. 如權(quán)利要求1到3中的任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所述表面位置基準(zhǔn)的確定確定了培養(yǎng)基參照所述板平臺(tái)的高度，該培養(yǎng)基安放與該板平臺(tái)上。
5. 如權(quán)利要求1到4中的任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，培養(yǎng)基在檢測(cè)區(qū)域中被檢測(cè)，使得測(cè)量的距離是所述檢測(cè)區(qū)域的整個(gè)面積的平均值。
6. —種用于定位處于板工作位置的板內(nèi)的固體生長(zhǎng)培養(yǎng)基的表面的方法，所述板工作位置包括傳感器并且具有在二維空間(x，y)中固定在預(yù)定位置的假想作用線，并且所述板工作位置具有固定在一維(z)內(nèi)的基準(zhǔn)面，該方法包括~將板放置在所述板工作位置；~使用所述傳感器為定位的板檢測(cè)在檢測(cè)區(qū)域內(nèi)的培養(yǎng)基表面，并且測(cè)量到該檢測(cè)區(qū)域內(nèi)的培養(yǎng)基表面的平均距離；~將測(cè)量的距離與所述基準(zhǔn)面相參照，以便在一維(z)內(nèi)為所述定位的板內(nèi)的培養(yǎng)基的表面確定相對(duì)于所述基準(zhǔn)面的表面位置基準(zhǔn)；并且~使用所述表面位置基準(zhǔn)和所述假想作用線以在三維空間(x，y,z)內(nèi)確定代表跨越所述定位的板內(nèi)的培養(yǎng)基的表面的線的線。
7. —種用于在處于板工作位置的板內(nèi)定位固體生長(zhǎng)培養(yǎng)基的表面的方法，該板工作位置包括傳感器并且具有在一維(z)內(nèi)固定的基準(zhǔn)面，該方法包括~設(shè)定上限和下限以限定在所述上限與所述下限之間的檢測(cè)范圍；~將板放置在所述板工作位置；~使用所述傳感器以在所述檢測(cè)范圍內(nèi)檢測(cè)所述定位的板的培養(yǎng)基表面，并且測(cè)量到所述培養(yǎng)基表面的距離；和~將測(cè)量的距離與所述基準(zhǔn)面相參照，以便在一維(z)內(nèi)為所述定位的板內(nèi)的培養(yǎng)基的表面提供相對(duì)于所述基準(zhǔn)面的表面位置基準(zhǔn)。
8. 如權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于，所述上檢測(cè)極限在所述基準(zhǔn)面上方，并且所述下檢測(cè)極限在所述基準(zhǔn)面下方。
9. 如權(quán)利要求7或者8所述的方法，其特征在于，所述檢測(cè)范圍設(shè)置有校準(zhǔn)子范圍。
10. 如權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，所述校準(zhǔn)子范圍識(shí)別警報(bào)條件。
11. 如權(quán)利要求IO所述的方法，其特征在于，所述警報(bào)條件是定位在所述板工作位置的板在其上仍舊包括它的蓋或者已經(jīng)被顛倒地放置在所述板工作位置。
12. 如權(quán)利要求11所述的方法，其特征在于，所述檢測(cè)范圍設(shè)定為大約30mm，且所述上限設(shè)定為在所述基準(zhǔn)面上方20mm，所述下限設(shè)定為在所述基準(zhǔn)面下方10mm。
13. —種用于定位處于板工作位置的板內(nèi)的固體生長(zhǎng)培養(yǎng)基的表面的方法，所述板工作位置包括傳感器并且具有在二維空間(x,y)中固定在預(yù)定位置的假想作用線，并且具有固定在一維(z)內(nèi)的基準(zhǔn)面，該方法包括~設(shè)定上限和下限以限定在所述上限與所述下限之間的檢測(cè)范圍；~將板放置在所述板工作位置；~使用所述傳感器在所述檢測(cè)范圍內(nèi)為定位的板檢測(cè)在檢測(cè)區(qū)域內(nèi)的培養(yǎng)基表面，并且測(cè)量到在所述檢測(cè)區(qū)域內(nèi)的培養(yǎng)基表面的平均距離；~將測(cè)量的距離與所述基準(zhǔn)面相參照，以便在一維(z)內(nèi)為所述定位的板內(nèi)培養(yǎng)基的表面確定相對(duì)于所述基準(zhǔn)面的表面位置基準(zhǔn)；并且~使用所述表面位置基準(zhǔn)和所述假想作用線以在三維空間(x,y,z)內(nèi)確定代表跨越所述定位的板內(nèi)的培養(yǎng)基的表面的線的線。
14. 如權(quán)利要求1到13中的任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所述傳感器是超聲波傳感器設(shè)備，包括能夠?qū)⒕劢沟氖峁┑剿雠囵B(yǎng)基表面上的超聲波束聚焦元件。
15. 如權(quán)利要求1到14中的任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所述傳感器剛性安裝到主框架，從而限定所述板工作位置的總定位。
16. 如權(quán)利要求1到15中的任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所述傳感器安裝為在所述板工作位置上方且操作地靠近直接在所述傳感器下方保持在板平臺(tái)中的定位的板，所述定位的板具有向上開放的培養(yǎng)基表面。
17. —種用于定位處于板工作位置的板內(nèi)的固體生長(zhǎng)培養(yǎng)基的表面的裝置，其特征在于，該板工作位置包括傳感器并且具有在一維(z)內(nèi)固定的基準(zhǔn)面，其中該傳感器能夠?yàn)槎ㄎ坏陌鍣z測(cè)培養(yǎng)基表面并且測(cè)量到所述培養(yǎng)基表面的距離，該裝置還包括用于將測(cè)量的距離與所述基準(zhǔn)面相參照的單元，以便在一維(Z)內(nèi)為所述定位的板內(nèi)的培養(yǎng)基的表面確定相對(duì)于所述基準(zhǔn)面的表面位置基準(zhǔn)。
18. —種用于定位處于板工作位置的板內(nèi)的固體生長(zhǎng)培養(yǎng)基的表面的裝置，其特征在于，該板工作位置包括傳感器并且具有在二維空間(x,y)內(nèi)固定在預(yù)定位置的假想作用線，其中該傳感器能夠?yàn)槎ㄎ坏陌鍣z測(cè)在檢測(cè)區(qū)域內(nèi)的培養(yǎng)基表面并且測(cè)量到在所述檢測(cè)區(qū)域內(nèi)的培養(yǎng)基表面的平均距離，該裝置還包括用于將測(cè)量的距離與所述基準(zhǔn)面相參照的單元，以便在一維(z)內(nèi)為所述定位的板內(nèi)的培養(yǎng)基的表面確定相對(duì)于所述基準(zhǔn)面的表面位置基準(zhǔn)，然后使用該表面位置基準(zhǔn)和所述假想作用線以在三維空間(x,y,z)內(nèi)確定代表跨越所述定位的板內(nèi)的培養(yǎng)基的表面的線的線。
19. 一種用于定位處于板工作位置的板內(nèi)的固體生長(zhǎng)培養(yǎng)基的表面的裝置，其特征在于，該板工作位置包括傳感器并且具有在一維(z)內(nèi)固定的基準(zhǔn)面，其中該傳感器具有上限和下限以限定在所述上限與所述下限之間的檢測(cè)范圍，并且能夠在該檢測(cè)范圍內(nèi)為所述定位的板檢測(cè)培養(yǎng)基表面以及測(cè)量到所述培養(yǎng)基表面的距離，該裝置還包括用于將測(cè)量的距離與所述基準(zhǔn)面相參照的單元，以便在一維(z)內(nèi)為定位的板內(nèi)的培養(yǎng)基的表面提供相對(duì)于所述基準(zhǔn)面的表面位置基準(zhǔn)。
20. —種用于定位處于板工作位置的板內(nèi)的固體生長(zhǎng)培養(yǎng)基的表面的裝置，該板工作位置包括傳感器并且具有在二維空間(x,y)內(nèi)固定在預(yù)定位置的假想作用線，并且還具有在一維(z)內(nèi)固定的基準(zhǔn)面，其中該傳感器具有上限和下限以限定在所述上限與所述下限之間的檢測(cè)范圍，并且能夠在該檢測(cè)范圍內(nèi)為定位的板檢測(cè)在檢測(cè)區(qū)域內(nèi)的培養(yǎng)基表面以及測(cè)量到在所述檢測(cè)區(qū)域內(nèi)的培養(yǎng)基表面的平均距離，該裝置包括用于將測(cè)量的距離與所述基準(zhǔn)面相參照的單元，以便在一維(z)內(nèi)為所述定位的板內(nèi)的培養(yǎng)基的表面確定相對(duì)于所述基準(zhǔn)面的表面位置基準(zhǔn)，然后使用該表面位置基準(zhǔn)和所述假想作用線以在三維空間(x，y，z)內(nèi)確定代表跨越所述定位的板內(nèi)的培養(yǎng)基的表面的線的線。
21. 如權(quán)利要求17到20中的任一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，所述傳感器是超聲波傳感器設(shè)備，包括能夠?qū)⒕劢沟氖峁┑剿雠囵B(yǎng)基表面上的超聲波束聚焦元件。
22. 如權(quán)利要求17到2中的任一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，所述傳感器被剛性安裝到主框架，從而限定所述板工作位置的總定位。
23. 如權(quán)利要求17到22中的任一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，其中所述傳感器安裝成在所述板工作位置上方且操作地靠近直接在所述傳感器下方保持在板平臺(tái)中的定位的板，所述定位的板具有向上開放的培養(yǎng)基表面。
24. 如權(quán)利要求1所述的方法，實(shí)質(zhì)上如這里關(guān)于附圖描述的那樣。
25. 如權(quán)利要求6所述的方法，實(shí)質(zhì)上如這里關(guān)于附圖描述的那樣。
26. 如權(quán)利要求7所述的方法，實(shí)質(zhì)上如這里關(guān)于附圖描述的那樣。
27. 如權(quán)利要求13所述的方法，實(shí)質(zhì)上如這里關(guān)于附圖描述的那樣。
28. 如權(quán)利要求17所述的裝置，實(shí)質(zhì)上如這里關(guān)于附圖描述的那樣。
29. 如權(quán)利要求18所述的裝置，實(shí)質(zhì)上如這里關(guān)于附圖描述的那樣。
30. 如權(quán)利要求19所述的裝置，實(shí)質(zhì)上如這里關(guān)于附圖描述的那樣。
31. 如權(quán)利要求20所述的裝置，實(shí)質(zhì)上如這里關(guān)于附圖描述的那樣。
全文摘要
一種用于在處于板工作位置的板內(nèi)定位固體生長(zhǎng)培養(yǎng)基的表面的方法，該板工作位置包括傳感器并且具有在一維(z)固定的基準(zhǔn)面，該方法包括將板放置在板工作位置；使用傳感器檢測(cè)培養(yǎng)基表面以定位板，并且測(cè)量到培養(yǎng)基表面的距離；及將測(cè)量的距離與基準(zhǔn)面參照，以便為定位的板內(nèi)在培養(yǎng)基的表面在一維(z)確定相對(duì)于基準(zhǔn)面的表面位置基準(zhǔn)。
文檔編號(hào)C12M1/22GK101636481SQ200880001922
公開日2010年1月27日 申請(qǐng)日期2008年1月11日 優(yōu)先權(quán)日2007年1月12日
發(fā)明者利昂·拉治, 格里米·約翰·克羅茨, 邁克爾·約翰·湯姆林森, 鐘·基恩·奧伊 申請(qǐng)人:實(shí)驗(yàn)室技術(shù)系統(tǒng)有限公司