專(zhuān)利名稱(chēng)：多孔泡沫金屬材料的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及泡沫金屬材料的制造，特別涉及一種多孔泡沫金屬材料的制造方法，以及一種用于實(shí)施該方法的制造設(shè)備。
背景技術(shù)：
近年來(lái)，各研究機(jī)構(gòu)在材料學(xué)核心刊物和學(xué)術(shù)會(huì)議上發(fā)表的有關(guān)多孔金屬材料性能的研究論文與日俱增，這表明業(yè)界對(duì)多孔金屬性能的研究興趣越來(lái)越濃厚。
多孔泡沫金屬材料的一個(gè)特點(diǎn)是顯著擴(kuò)大了金屬性能的范圍，這些性能包括各種物理性能、力學(xué)性能和熱學(xué)性能等，例如機(jī)械強(qiáng)度、阻熱耐熱性、導(dǎo)電性以及聲學(xué)降噪性能等(其等于材料實(shí)體的體積百分比ρ/ρS與熱流有效系數(shù)的乘積)。
多孔泡沫金屬材料的導(dǎo)熱性主要由其實(shí)體部分的導(dǎo)熱所決定，而氣體的作用、穿越氣孔的熱輻射、孔內(nèi)的對(duì)流則起到有效的冷卻效果，因此可應(yīng)用于需要實(shí)現(xiàn)熱交換、阻尼及過(guò)濾等功能的場(chǎng)合。該種材料的導(dǎo)電性的表現(xiàn)也與導(dǎo)熱性類(lèi)似。
總之，多孔泡沫金屬材料的優(yōu)點(diǎn)是相對(duì)低的密度、合適的平臺(tái)應(yīng)力水平、良好的耐熱性和阻燃性，因此，它們可用于交通、建筑、汽車(chē)、軍事、航空等工業(yè)，例如如機(jī)動(dòng)車(chē)尾氣凈化催化劑、多孔金屬蜂窩載體、粉末冶金、熱交換、阻熱、電磁屏蔽等等。
多孔泡沫金屬材料可以利用各種工藝制造，例如包括但不限于電鍍、電鑄造、氧化、化學(xué)鍍、化學(xué)轉(zhuǎn)換膜處理、熱浸鍍、熱噴涂、涂料與涂裝、化學(xué)熱處理、堆焊、物理氣相沉積(PVD)、離子注入、化學(xué)氣相沉積(CVD)、電泳及靜電噴涂、熱燙印、沖擊鍍、超硬膜、激光表面處理等各種生產(chǎn)工藝，但是現(xiàn)有工藝的缺點(diǎn)是制造過(guò)程復(fù)雜，成本很高，而且不利于環(huán)保。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的一個(gè)目的是提供一種多孔泡沫金屬材料的制造方法，其具有工藝簡(jiǎn)單和成本低等優(yōu)點(diǎn)。
本發(fā)明的上述通過(guò)下列技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)一種多孔泡沫金屬材料的制造方法，包含以下步驟在該基材表面形成一層導(dǎo)電層；利用電鍍工藝在該基材的導(dǎo)電層之上形成一層金屬或合金層；通過(guò)燒結(jié)處理去除該基材的發(fā)泡體聚合物，從而獲得一層多孔泡沫金屬層；以及對(duì)該多孔泡沫金屬層進(jìn)行還原處理。
優(yōu)選地，在上述方法中，所述發(fā)泡體聚合物為聚酯型、聚酯聚醚型或聚醚型聚氨酯泡沫體。
優(yōu)選地，在上述方法中，所述發(fā)泡體聚合物的開(kāi)孔率為80％～99％，PPI孔數(shù)為3～50個(gè)，密度為30±3公斤/立方米，厚度范圍為0.8～100mm。
優(yōu)選地，在上述方法中，在形成所述導(dǎo)電層之前先對(duì)所述基材進(jìn)行去油酯處理。
優(yōu)選地，在上述方法中，通過(guò)在該發(fā)泡體聚合物基材表面涂覆一層納米級(jí)石墨導(dǎo)電涂料層并烘干來(lái)形成導(dǎo)電層。
優(yōu)選地，在上述方法中，通過(guò)下列工藝中的一種在該發(fā)泡體聚合物基材表面形成導(dǎo)電層化學(xué)鍍、電弧噴涂、電弧噴涂、線爆噴涂、等離子噴涂、真空蒸鍍、濺射鍍膜和離子鍍。
優(yōu)選地，在上述方法中，按照下列方式在所述導(dǎo)電層上形成所述金屬或合金層將多個(gè)陽(yáng)極板和多個(gè)陰極板交替設(shè)置在電鍍槽內(nèi)，所述基材固定于所述陰極板上，并且使所述陰極板相對(duì)于位于其兩側(cè)的所述陽(yáng)極板作往復(fù)運(yùn)動(dòng)。
優(yōu)選地，在上述方法中，所述金屬包括Cu、Ag、Sn、Fe、Ni、Zn、Pb中的至少一種，所述合金包括鋅合金、鋅鐵合金、錫合金、錫鈷合金、銅合金、鎳合金、銅鎳合金、鐵鎳合金中的至少一種。
優(yōu)選地，在上述方法中，燒結(jié)處理在300℃～500℃下的空氣氣氛下進(jìn)行，還原處理在700℃～980℃下的氫氣和氮?dú)鈿夥障逻M(jìn)行。
本發(fā)明的另一個(gè)目的是提供一種用于多孔泡沫金屬材料的電鍍裝置，其具有工藝簡(jiǎn)單、生產(chǎn)效率高和可方便加厚成品的鍍層厚度等優(yōu)點(diǎn)。
本發(fā)明的上述目的通過(guò)下列技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)一種電鍍裝置，用于在由發(fā)泡體聚合物制成的基材的導(dǎo)電層之上形成一層金屬或合金層，包含一個(gè)主鍍槽；一個(gè)設(shè)置在所述主鍍槽敞口附近的回流槽；一個(gè)循環(huán)槽，一方面通過(guò)進(jìn)液管路與所述主鍍槽的底部相連以將設(shè)定成份、配比、溫度和PH值的電鍍液送入所述主鍍槽，另一方面通過(guò)回流管路與所述回流槽相連以回收從所述主鍍槽敞口溢出的電鍍液；以及交替設(shè)置在主鍍槽內(nèi)的多個(gè)陽(yáng)極和多個(gè)陰極。
優(yōu)選地，在上述電鍍裝置中，所述陰極為一個(gè)由絕緣材料制成的框架，用于固定由發(fā)泡體聚合物制成的基材的周邊。
優(yōu)選地，在上述電鍍裝置中，所述陰極進(jìn)一步包含一個(gè)由絕緣材料制成的屏蔽板，其與所述框架固定在一起以遮擋所述鍍件的部分表面。
優(yōu)選地，在上述裝置中，進(jìn)一步包括一個(gè)設(shè)置于所述主鍍槽上方的滑動(dòng)架，與所述框架的一個(gè)側(cè)邊相連并帶動(dòng)所述框架相對(duì)于位于其兩側(cè)的所述陽(yáng)極作往復(fù)運(yùn)動(dòng)。
本發(fā)明的有益效果包括(1)工藝簡(jiǎn)單，大幅度降低了制造成本；(2)由于鍍件可以?xún)擅嫱瑫r(shí)電鍍，因此提高了生產(chǎn)效率；(3)由于可方便地使金屬或合金的鍍層加厚，因此提高了產(chǎn)品的性能，擴(kuò)大其應(yīng)用范圍。
附圖簡(jiǎn)述以下借助附圖描述本發(fā)明的較佳實(shí)施方式，所示圖表僅是示意性的，并不構(gòu)成對(duì)本發(fā)明保護(hù)范圍的任何限定。


圖1為按照本發(fā)明一個(gè)較佳實(shí)施例的電鍍裝置示意圖。
圖2為圖1所示電鍍裝置1的主鍍槽11的俯視圖，其示出了陽(yáng)極與陰極的排列方式。
圖3為圖1所示電鍍裝置中滑動(dòng)架懸臂與框架結(jié)合的示意圖。
具體實(shí)施例方式
以下描述按照本發(fā)明一個(gè)較佳實(shí)施例的多孔泡沫金屬材料的制造方法。
在本發(fā)明的制造方法中，選作基材的材料為發(fā)泡體聚合物，其幾何尺寸以及理化參數(shù)可根據(jù)實(shí)際情況選定或以仿形切割機(jī)(ContourCutting Machine)切出所需形狀。例如在本實(shí)施例中，可以采用諸如聚酯型、聚酯聚醚型或聚醚型聚氨酯泡沫體之類(lèi)的發(fā)泡體聚合物作為基材材料，該基材的厚度在0.8～100mm之間(例如厚度為40mm)，長(zhǎng)寬比為300mm×400mm，開(kāi)孔率為80％～99％，PPI孔數(shù)為3～50個(gè)，密度為30±3公斤/立方米。
對(duì)于聚酯型、聚酯聚醚型或聚醚型聚氨酯泡沫體，需要進(jìn)行去除油脂的處理。為此，在步驟中，將基材放入除油槽中的除油溶液進(jìn)行浸泡一定的時(shí)間(例如10分鐘左右)，除油溶液中的除油劑可選用碳酸鈉(Na2CO3)或氫氧化鈉(NaOH)，溶液的PH值不宜過(guò)高(例如不超過(guò)8.5)，以免起不到除油的效果。比較好的是將溶液溫度控制在30～50℃之間。
在步驟2中，用純水沖洗浸泡過(guò)的基材以去除基材中包含的除油溶液，并用吸水材料(例如包括但不限于吸水泡棉)將基材中的水吸除干凈。
在步驟3中，將經(jīng)過(guò)步驟2處理的基材表面涂覆一層納米級(jí)石墨導(dǎo)電涂料層，涂覆方式例如可以為，利用橡膠輥在基材表面反復(fù)碾壓導(dǎo)電涂料層，使得涂料沉積在基材的表面以形成導(dǎo)電膜層。
在步驟4中，對(duì)經(jīng)過(guò)步驟3處理的基材進(jìn)行烘干，烘干溫度和時(shí)間視基材材料而定，例如在本實(shí)施例中，可以先將在120～150℃的溫度下烘干，持續(xù)時(shí)間為若干分鐘，然后在50～90℃的溫度下烘干6～15小時(shí)。
值得指出的是，也可通過(guò)其它的工藝在上述基材表面形成導(dǎo)電膜層，這些工藝?yán)绨ǖ幌抻诨瘜W(xué)鍍、電弧噴涂、電弧噴涂、線爆噴涂、等離子噴涂、真空蒸鍍、濺射鍍膜和離子鍍等。
在步驟5中，可以利用電鍍工藝，在形成導(dǎo)電膜層的基材上電鍍所需的金屬或合金層。為了形成泡沫鎳金屬材料，電鍍液的主要成份及其配比為氨基磺酸鎳〔Ni(SO3NH2)2·4H2O〕300～450g/L，氯化鎳(NiCl2·6H2O)10～20g/L，硼酸(H3BO3)30～45g/L；添加劑包括無(wú)水硫酸鈉(Na2SO4)0.5～15g/L，糖精0.8～1.0g/L，十二烷基硫酸鈉(C12H25SO4Na)0.05～1g/L。電鍍液的pH值可控制在3.8～4.8的范圍內(nèi)，電鍍液的溫度控制在40℃～55℃之間，陰極電流密度例如可以取為0.8～1.5A·dm-1，陽(yáng)極采用金屬鎳板或含硫鎳球的形式。
為了形成泡沫銅金屬材料，電鍍液可采用焦磷酸鹽鍍銅溶液，具體而言，電鍍液以焦磷酸鉀(K4P2O7.3H2O)為主絡(luò)合劑，主要成分包括焦磷酸銅(Cu2P2O7)、焦磷酸鉀(K4P2O7.3H2O)、硝酸鹽(NH4NO3)、氨水(NH4OH)等，其中，焦磷酸銅(Cu2P2O7)、焦磷酸鉀(K4P2O7.3H2O)、檸檬酸和氨水的用量分別為60～70g/L、300～320g/L、20～25g/L和2～3ml/L，電鍍液的PH值控制在8～9的范圍內(nèi)，溫度控制在40～45℃范圍內(nèi)，電流密度為0.8～1.2A/dm2，陽(yáng)極采用電解銅板制成的陽(yáng)極板。
在步驟5的電鍍處理中，為了提高生產(chǎn)效率并且使形成于石墨導(dǎo)電層上的金屬或合金層能夠達(dá)到更大的厚度，可以將多個(gè)陽(yáng)極和多個(gè)陰極以圖2所示的方式交替設(shè)置在電鍍槽內(nèi)，使得每個(gè)陰極的前后兩側(cè)都面對(duì)陽(yáng)極。此外，基材被固定于陰極上，并且使陰極相對(duì)于位于其前后兩側(cè)的陽(yáng)極作往復(fù)運(yùn)動(dòng)。
值得指出的是，上面雖然以鎳和銅為例描述了電鍍處理過(guò)程，但是本發(fā)明中電鍍的金屬或合金并不局限于上述情形，還包括但不限于銅、銀、金、錫、鐵、鎳、鋅、鉛、鎘、鋅合金、鋅鐵合金、錫合金、錫鈷合金、銅合金、鎳合金、銅鎳合金、鐵鎳合金和鉬合金等。
對(duì)于本領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，只需對(duì)電鍍工藝進(jìn)行相應(yīng)的調(diào)整(例如改變電鍍?nèi)芤汉完?yáng)極金屬)即可制造出其它金屬或合金的泡沫金屬材料，此處不再一一舉例說(shuō)明。
在步驟6中，通過(guò)燒結(jié)處理使得發(fā)泡體聚合物完全揮發(fā)，從而獲得一層多孔泡沫金屬。燒結(jié)處理立場(chǎng)可在300℃～600℃下的空氣氣氛下進(jìn)行。
優(yōu)選地，在步驟6的燒結(jié)處理之前，將電鍍處理后的基材進(jìn)行酸洗，然后再烘干。
在步驟7中，對(duì)燒結(jié)后的多孔泡沫金屬進(jìn)行還原處理。還原處理例如可在700℃～1000℃下的氫氣和氮?dú)鈿夥障逻M(jìn)行。
以下借助附圖按照本發(fā)明另一個(gè)實(shí)施例的電鍍裝置。
圖1為按照本發(fā)明一個(gè)較佳實(shí)施例的電鍍裝置示意圖。
參見(jiàn)圖1，電鍍裝置1包括主鍍槽11、回流槽12、循環(huán)槽13、回流管路14和進(jìn)液管路15。
為回收從主鍍槽1敞口溢出的電鍍液，回流槽12圍繞主鍍槽11的敞口設(shè)置并且密封固定于主鍍槽11敞口附近的外壁上?；亓鞑?2的下方開(kāi)設(shè)有通往循環(huán)槽13的出口，以使電鍍液能夠保持不斷循環(huán)。
循環(huán)槽13分別通過(guò)回流管路14和進(jìn)液管路15與回流槽12和主鍍槽11連通。優(yōu)選地，循環(huán)槽13的進(jìn)口設(shè)置為低于回流槽12出口，因此回流槽12內(nèi)回收的電鍍液依靠重力即可自流入循環(huán)槽13，與此同時(shí)，在主鍍槽11下部設(shè)置進(jìn)口，因此來(lái)自循環(huán)槽13的電鍍液從主鍍槽11下部進(jìn)入并向上和旁邊流動(dòng)，從而與原有的電鍍液實(shí)現(xiàn)充分的混合和熱交換，并使原有的電鍍液溢出到回收槽2。由于循環(huán)槽3的出口低于主鍍槽11的進(jìn)口111，因此在進(jìn)液管路15內(nèi)設(shè)置一個(gè)過(guò)濾機(jī)151，通過(guò)調(diào)整過(guò)濾機(jī)的電鍍液抽取速度來(lái)調(diào)節(jié)主鍍槽1的液位。在循環(huán)槽13的底部還設(shè)置有加熱管道和冷卻管道(未畫(huà)出)，以將電鍍液的溫度控制在所需的范圍內(nèi)。此外，還可以通過(guò)改變循環(huán)槽13內(nèi)的電鍍液的成份、配比和PH值來(lái)調(diào)節(jié)主鍍槽1內(nèi)電鍍液的成份、配比和PH值。
優(yōu)選地，在主鍍槽11內(nèi)還設(shè)置有甩干機(jī)(未畫(huà)出)，因此當(dāng)鍍件完成電鍍后用甩干機(jī)脫干基材內(nèi)的電鍍液以節(jié)省生產(chǎn)成本。
由上可見(jiàn)，按照本發(fā)明的實(shí)施例，通過(guò)采用主鍍槽11、回流槽12和循環(huán)槽13的組合來(lái)保持主鍍槽11內(nèi)液位的平穩(wěn)，并且借助循環(huán)槽13來(lái)調(diào)節(jié)電鍍液的溫度、PH值和成份和配比等，從而使基材上的金屬或合金層具有良好的結(jié)晶度和均勻性。
圖2為圖1所示電鍍裝置1的主鍍槽11的俯視圖，其示出了陽(yáng)極與陰極的排列方式。如圖2所示，在主鍍槽11內(nèi)，陽(yáng)極112a～112c與陰極113a和113b交替設(shè)置，使得每個(gè)陰極的前后表面都面對(duì)一個(gè)陽(yáng)極。陽(yáng)極112a～112c與電源(未畫(huà)出)的正極相連，其例如可以是由所鍍金屬或合金的材料制成的金屬板，在另一種可選方式中，陽(yáng)極也可采用導(dǎo)電鈦籃的形式，其中，將所鍍金屬塊或條置于該導(dǎo)電鈦籃內(nèi)。
鍍件(這里為已經(jīng)形成導(dǎo)電膜層的發(fā)泡體聚合物基材)應(yīng)設(shè)置于陰極113a和113b附近，在一種可選方式下，陰極113a和113b可采用圖3所示的框架結(jié)構(gòu)。參見(jiàn)圖3，該框架31的框體312可固定住基材或鍍件33的周邊，此外，在框架內(nèi)還設(shè)置有導(dǎo)電金屬棒(未畫(huà)出)作為陰極導(dǎo)線，從而可將容納在框架內(nèi)的鍍件與電源的負(fù)極相連。優(yōu)選地，框架由絕緣材料制成，以避免在框架上形成所鍍金屬或合金。
在圖2所示的電鍍裝置1中，由于每個(gè)陰極的兩個(gè)面都面對(duì)陽(yáng)極，因此可以加快電鍍速度或提高電鍍層的厚度和均勻度。此外，為了進(jìn)一步提高電鍍厚度和均勻度，還可在主鍍槽11上方設(shè)置一個(gè)滑動(dòng)架114a和114b，分別用于帶動(dòng)陰極113a和113b沿圖2中箭頭所示方向運(yùn)動(dòng)。
圖3示出了作為陰極的框架與滑動(dòng)架的連接結(jié)構(gòu)，如圖3所示，框架31的上側(cè)邊形成有掛鉤311從而可將整個(gè)框架31懸掛在圖2所示滑動(dòng)架113a或113b的懸臂32上，這樣，當(dāng)滑動(dòng)架沿圖2中箭頭所示方向運(yùn)動(dòng)時(shí)，鍍件33將隨滑動(dòng)架一起相對(duì)于鍍件前后兩側(cè)的陽(yáng)極作往復(fù)運(yùn)動(dòng)。
在鍍件33的表面可以覆蓋具有一定圖案的屏蔽板34，其由絕緣材料制成并且形狀例如可以是圖3所示的十字架形。參見(jiàn)圖3，屏蔽板34將鍍件33的表面分為4個(gè)小區(qū)域，當(dāng)開(kāi)始電鍍時(shí)，這種方式有利于在鍍件表面盡快形成穩(wěn)定的電鍍金屬層。當(dāng)經(jīng)過(guò)一段時(shí)間后，屏蔽板34即被移去，此時(shí)原先被屏蔽板遮擋的表面部分也開(kāi)始形成金屬層。屏蔽板34的十字架端部延伸至框架31的側(cè)面，從而可固定在鍍件33的表面。值得指出的是，屏蔽板的形狀并不局限于十字架形，還可以采用其它形狀，只要能夠?qū)㈠兗砻鎰澐譃槿舾蓞^(qū)域即可。
按照本發(fā)明方法制成的多孔泡沫金屬的應(yīng)用范圍包括但不限于高彎曲剛度的輕量機(jī)構(gòu)件、輕量機(jī)構(gòu)的沖擊能量吸收、熱穩(wěn)定性/阻燃性的附加要求、吸聲和機(jī)械阻尼的輕量機(jī)構(gòu)、熱交換器、催化載體、過(guò)濾器的開(kāi)口機(jī)構(gòu)、多功能性和物理性能的開(kāi)發(fā)應(yīng)用、輕量化應(yīng)用(交通、變速機(jī)械和體育)、航空應(yīng)用、小規(guī)格軌道交通、公共交通及車(chē)輛、用于露天、隧道和室內(nèi)的吸音墻體材料以及具有自潔功能的墻體材料等。
以上借助具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作了描述，但是應(yīng)當(dāng)理解的是，對(duì)于本領(lǐng)域內(nèi)的普通技術(shù)人員而言，在閱讀上述說(shuō)明書(shū)描述的基礎(chǔ)上，無(wú)需創(chuàng)造性的勞動(dòng)即可在不偏離本發(fā)明精神和實(shí)質(zhì)的前提下，就上述實(shí)例作出各種變化和修改，因此本發(fā)明的保護(hù)范圍由所附權(quán)利要求限定。
權(quán)利要求
1.一種多孔泡沫金屬材料的制造方法，其特征在于，包含以下步驟在由發(fā)泡體聚合物制成的基材表面形成一層導(dǎo)電層；利用電鍍工藝在該基材的導(dǎo)電層之上形成一層金屬或合金層；通過(guò)燒結(jié)處理去除該基材的發(fā)泡體聚合物，從而獲得一層多孔泡沫金屬層；以及對(duì)該多孔泡沫金屬層進(jìn)行還原處理。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述發(fā)泡體聚合物為聚酯型、聚酯聚醚型或聚醚型聚氨酯泡沫體。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，所述發(fā)泡體聚合物的開(kāi)孔率為80％～99％，PPI孔數(shù)為3～50個(gè)，密度為30±3公斤/立方米，厚度范圍為0.8～100mm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任意一項(xiàng)所述的方法，在形成所述導(dǎo)電層之前先對(duì)所述基材進(jìn)行去油脂處理。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任意一項(xiàng)所述的方法，其中，通過(guò)在該發(fā)泡體聚合物基材表面涂覆一層納米級(jí)石墨導(dǎo)電涂料層并烘干來(lái)形成導(dǎo)電層。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任意一項(xiàng)所述的方法，其中，通過(guò)下列工藝中的一種在該發(fā)泡體聚合物基材表面形成導(dǎo)電層化學(xué)鍍、電弧噴涂、電弧噴涂、線爆噴涂、等離子噴涂、真空蒸鍍、濺射鍍膜和離子鍍。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任意一項(xiàng)所述的方法，其中，按照下列方式在所述導(dǎo)電層上形成所述金屬或合金層將多個(gè)陽(yáng)極和多個(gè)陰極交替設(shè)置在電鍍槽內(nèi)，所述基材固定于所述陰極上，并且使所述陰極相對(duì)于位于其兩側(cè)的所述陽(yáng)極作往復(fù)運(yùn)動(dòng)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其中，所述金屬包括銅、銀、金、錫、鐵、鎳、鋅、鉛和鎘中的至少一種，所述合金包括鋅合金、鋅鐵合金、錫合金、錫鈷合金、銅合金、鎳合金、銅鎳合金、鐵鎳合金和鉬合金中的至少一種。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任意一項(xiàng)所述的方法，其中，燒結(jié)處理在300℃～500℃下的空氣氣氛下進(jìn)行，還原處理在700℃～980℃下的氫氣和氮?dú)鈿夥障逻M(jìn)行。
10.一種電鍍裝置，用于在由發(fā)泡體聚合物制成的基材的導(dǎo)電層之上形成一層金屬或合金層，包含一個(gè)主鍍槽；一個(gè)設(shè)置在所述主鍍槽敞口附近的回流槽；一個(gè)循環(huán)槽，一方面通過(guò)進(jìn)液管路與所述主鍍槽的底部相連以將設(shè)定成份、配比、溫度和PH值的電鍍液送入所述主鍍槽，另一方面通過(guò)回流管路與所述回流槽相連以回收從所述主鍍槽敞口溢出的電鍍液；以及交替設(shè)置在主鍍槽內(nèi)的多個(gè)陽(yáng)極和多個(gè)陰極。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的電鍍裝置，其中，所述陰極為一個(gè)由絕緣材料制成的框架，用于固定由發(fā)泡體聚合物制成的基材的周邊。
12.如權(quán)利要求11所述的電鍍裝置，其中，所述陰極進(jìn)一步包含一個(gè)由絕緣材料制成的屏蔽板，其與所述框架固定在一起以遮擋所述鍍件的部分表面。
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的裝置，其中，進(jìn)一步包括一個(gè)設(shè)置于所述主鍍槽上方的滑動(dòng)架，與所述框架的一個(gè)側(cè)邊相連并帶動(dòng)所述框架相對(duì)于位于其兩側(cè)的所述陽(yáng)極作往復(fù)運(yùn)動(dòng)。
全文摘要
本發(fā)明提供一種多孔泡沫金屬材料的制造方法，該方法包含以下步驟在該基材表面形成一層導(dǎo)電層；利用電鍍工藝在該基材的導(dǎo)電層之上形成一層金屬或合金層；通過(guò)燒結(jié)處理去除該基材的發(fā)泡體聚合物，從而獲得一層多孔泡沫金屬層；以及對(duì)該多孔泡沫金屬層進(jìn)行還原處理。本發(fā)明的有益效果包括(1)工藝簡(jiǎn)單，大幅度降低了制造成本；(2)由于鍍件可以?xún)擅嫱瑫r(shí)電鍍，因此提高了生產(chǎn)效率；(3)由于可方便地使金屬或合金的鍍層加厚，因此提高了產(chǎn)品的性能，擴(kuò)大其應(yīng)用范圍。
文檔編號(hào)C25D1/00GK1995470SQ200610168979
公開(kāi)日2007年7月11日 申請(qǐng)日期2006年12月15日 優(yōu)先權(quán)日2006年12月15日
發(fā)明者薛攀霆 申請(qǐng)人:七二國(guó)際股份有限公司