專利名稱：水稻缽苗機插育秧盤的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及插秧機輔助器具，具體為一種水稻缽苗機插育秧盤。
背景技術(shù)：
隨著農(nóng)業(yè)經(jīng)濟的發(fā)展和科技的進(jìn)步，水稻機械化栽植技術(shù)、水稻的規(guī)格化育秧，商品化供秧、機械化插秧已成為必然趨勢，人為插秧逐步被機械化而取代。機械化栽植體系中，機插育秧是機插水稻高產(chǎn)栽培技術(shù)中的關(guān)鍵環(huán)節(jié)，為適應(yīng)機械播種，秧苗普遍采用育秧盤育種，育秧盤上設(shè)有缽體，缽體內(nèi)開設(shè)缽苗穴，缽體按橫向和縱向均勻排列在缽盤主體上，如專利號為99201642. 8的《水稻缽苗育秧盤》實用新型專利,這類育秧盤存在缽體密度大、缽體的缽苗穴形狀單一(通常為上口大下口小的圓錐臺形狀)、缽體育苗空間小、秧苗的品質(zhì)差等，不能充分發(fā)揮水稻缽苗栽培技術(shù)的增產(chǎn)潛力。
(三)實用新型內(nèi)容為此，本實用新型提出了一種水稻缽苗機插育秧盤。本實用新型水稻缽苗機插育秧盤的技術(shù)方案包括長方形缽苗盤體，所述缽苗盤體上分布有按長度方向為縱向和按寬度方向為橫向均勻排列的缽體，所述各缽體內(nèi)開設(shè)缽苗穴，所不同的是所述缽苗穴為以其自身中心線左右對稱的長方形錐臺腔，與圓錐臺形的缽苗穴相比，可最大限度地使缽苗穴能容納更多的培養(yǎng)基，使育秧成的秧苗強壯。為在缽苗盤體上布置更多的缽體(最多為434個)，缽體按缽苗穴的寬度方向沿缽苗盤體的縱向、缽苗穴的長度方向沿缽苗盤體的橫向排列。為使育出的秧苗成片、串根少、機插過程中不傷根、種植后返苗快，一種合理的缽苗穴形狀尺寸為所述缽苗穴的橫向錐面?zhèn)缺陂_口夾角為35°，頂面開口距離為8mm 15臟，深度為8mm 15臟，底部圓角R3.0 ;所述缽苗穴的縱向錐面?zhèn)缺陂_口夾角為46°，頂面開口距離為6_ 12mm,深度為6_ IOmm,底部圓角Rl. O。為了啟盤方便，可將秧盤周邊處缽苗穴的錐面?zhèn)缺陂_口夾角、頂面開口距離和深度加大，即所述缽苗盤體縱向盤邊至少一排缽苗穴，其橫向錐面?zhèn)缺陂_口夾角為45°，頂面開口距離為IOmm 17mm,深度為8mm 15mm,底部圓角R3. 0 ;所述缽苗盤體橫向周邊至少三排缽苗穴，其縱向錐面?zhèn)缺陂_口夾角為47°，頂面開口距離為9mm 15臟，深度為7mm Ilmm,底部圓角R2. 5。與所述缽苗穴形狀和深度相適應(yīng)，所述缽體高度設(shè)為15mm，其底部為長X寬為12mmXllmm的長方形，所述缽體底部長方形的寬度方向沿缽苗盤體的縱向，長度方向沿缽苗盤體的橫向。與所述缽體高度相適應(yīng)，所述缽苗盤體的高度設(shè)為18mm 26mm,所述缽體與缽苗盤體同底。本實用新型的優(yōu)點本實用新型水稻缽苗機插育秧盤為一種能與各種水稻插秧機配套的機插秧盤，育秧盤容納育秧培養(yǎng)基多，長出的秧苗強壯、均勻，秧苗自成模塊不串根，便于機插流暢，不傷根，而且還能方便啟盤脫模。


圖I是本實用新型一種實施方式的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2為圖I實施方式左上角的局部放大圖。圖3(a)為圖I實施方式中的A-A剖視圖。圖3(b)為圖I實施方式中的B-B剖視圖。圖號標(biāo)識1、缽苗盤體；2、缽體；3、缽苗穴；4、滲流孔。
具體實施方式
下面結(jié)合圖例對本實用新型的技術(shù)方案作進(jìn)一步說明本實用新型水稻缽苗機插育秧盤的主體為長X寬X深等于600_X290_X24_的缽苗盤體I (僅為系列中的一個規(guī)格)，將缽苗盤體I的長度方向設(shè)為縱向，缽苗盤體I的寬度方向設(shè)為橫向，沿縱向和橫向于缽苗盤體I上均勻排列布置有缽體2,縱向排列31個缽體，間距為19mm，橫向排列14個缽體2，間距為20mm，所述缽體2與缽苗盤體I同底,缽體2聞度為15mm，如圖I、圖2所不。所述缽體2為以自身中心線左右對稱的長方形錐臺，其底部為長X寬等于12mmXllmm的長方形寬底結(jié)構(gòu)，缽體2的寬度方向沿缽苗盤體I的縱向，缽體2的長度方向沿缽苗盤體I的橫向，缽體2相對的錐面外壁成24°夾角，缽體2的底部開設(shè)有￠3. Omm的滲流孔4，如圖I、圖2、圖3 (a)、圖3(b)所示。如圖I、圖2所示，所述缽體2內(nèi)開設(shè)的缽苗穴3為以其自身中心線左右對稱的長方形錐臺腔，與長方形錐臺形的缽體2方向一致，所述缽苗穴3的寬度方向沿缽苗盤體I的縱向，缽苗穴3的長度方向沿缽苗盤體I的橫向。如圖3(b)所示，缽苗盤體I縱向盤邊(兩對邊)一排缽苗穴3的橫向錐面?zhèn)缺陂_口夾角為45°，頂面開口距離為14mm，深度為12mm，底部圓角R3. 0，其余缽苗穴3的橫向錐面?zhèn)缺陂_口夾角為35°，頂面開口距離為12mm，深度為12mm，底部圓角R3.0 ;如圖3(a)所示，缽苗盤體I橫向盤邊(兩對邊)三排缽苗穴3的縱向錐面?zhèn)缺陂_口夾角為47°，頂面開口距離為12mm，深度為10mm，底部圓角R2. 5，其余缽苗穴3的縱向錐面?zhèn)缺陂_口夾角為46° ,頂面開口距離為9mm,深度為9mm,底部圓角Rl. O。
權(quán)利要求1.水稻缽苗機插育秧盤，包括長方形缽苗盤體(I)，所述缽苗盤體(I)上分布有按長度方向為縱向和按寬度方向為橫向均勻排列的缽體(2)，各缽體(2)內(nèi)開設(shè)缽苗穴(3)，其特征在于所述各缽苗穴(3)為以其自身中心線左右対稱的長方形錐臺腔。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的水稻缽苗機插育秧盤，其特征在于所述缽苗穴(3)的寬度方向沿缽苗盤體(I)的縱向，缽苗穴(3)的長度方向沿缽苗盤體(I)的橫向。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的水稻缽苗機插育秧盤，其特征在干所述缽苗穴(3)的橫向錐面?zhèn)缺陂_ロ夾角為35° ,頂面開ロ距離為8mm 15mm,深度為8mm 15mm,底部圓角R3. O ;所述缽苗穴(3)的縱向錐面?zhèn)缺陂_ロ夾角為46°，頂面開ロ距離為6mm 12mm，深度為6_ IOmm,底部圓角Rl. O。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的水稻缽苗機插育秧盤，其特征在于所述缽苗盤體(I)縱向盤邊至少ー排缽苗穴(3)，其橫向錐面?zhèn)缺陂_ロ夾角為45°，頂面開ロ距離為IOmm 17mm，深度為8mm 15mm，底部圓角R3. O ;所述缽苗盤體(I)橫向周邊至少三排缽苗穴(3)，其縱向錐面?zhèn)缺陂_ロ夾角為47° ,頂面開ロ距離為9mm 15mm,深度為7mm Ilmm,底部圓角R2. 5。
5.根據(jù)權(quán)利要求I 4中任意一項所述的水稻缽苗機插育秧盤，其特征在于所述缽體⑵高度為15mm,其底部為長X寬為12_X Ilmm的長方形,所述缽體⑵底部長方形的寬度方向沿缽苗盤體(I)的縱向，長度方向沿缽苗盤體(I)的橫向。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的水稻缽苗機插育秧盤，其特征在干所述缽苗盤體(I)高度為18mm 26mm,所述缽體(2)與缽苗盤體(I)同底。
專利摘要本實用新型公開了一種水稻缽苗機插育秧盤，包括長方形缽苗盤體，缽苗盤體上分布有按長度方向為縱向和按寬度方向為橫向均勻排列的缽體，各缽體內(nèi)的缽苗穴為以其自身中心線左右對稱的長方形錐臺腔，缽苗穴的寬度方向沿缽苗盤體的縱向，缽苗穴的長度方向沿缽苗盤體的橫向；缽苗穴的橫向錐面?zhèn)缺陂_口夾角為35°，頂面開口距離為12mm，深度為12mm，底部圓角R3，缽苗穴的縱向錐面?zhèn)缺陂_口夾角為46°，頂面開口距離為9mm，深度為9mm，底部圓角R1；缽體高度為15mm，其底部為長×寬為12mm×11mm的長方形，長方形的寬度方向沿缽苗盤體的縱向，長度方向沿缽苗盤體的橫向，缽苗盤體高度為24mm，缽體與缽苗盤體同底。
文檔編號A01G9/10GK202444876SQ2012200101
公開日2012年9月26日 申請日期2012年1月11日 優(yōu)先權(quán)日2012年1月11日
發(fā)明者張金平, 王軍平, 蔣宏偉 申請人:桂林高新區(qū)科豐機械有限責(zé)任公司