一種3d顯示裝置及其制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種3D顯示裝置及其制作方法。
【背景技術(shù)】
[0002]請(qǐng)參考圖1，圖1為現(xiàn)有技術(shù)中的3D顯示裝置的一結(jié)構(gòu)示意圖，該3D顯示裝置包括:顯示面板(2D panel) 10和3D光柵20，顯示面板10和3D光柵20通過(guò)粘接層30粘合。其中，顯示面板10包括:下偏光片11、陣列基板12、液晶層13、彩膜基板14和上偏光片15。3D光柵20包括:下偏光片21、陣列基板22、液晶層23、對(duì)向基板24和上偏光片25。從圖1中可以看出，3D光柵20的放置高度h等于以下部件的厚度之和:3D光柵的陣列基板22+下偏光片21+粘接層30+上偏光片15+彩膜基板14。該種結(jié)構(gòu)的3D顯示裝置中，3D光柵的放置高度大，不利于高PPI的3D顯示。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]有鑒于此，本發(fā)明提供一種3D顯示裝置及其制作方法，能夠降低3D顯示裝置中的3D光柵的放置高度，使得高PPI的3D顯示成為可能。
[0004]為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明提供一種3D顯示裝置，包括顯示面板以及設(shè)置于所述顯示面板出光側(cè)的3D光柵，所述3D光柵包括相對(duì)設(shè)置的第一基板和第二基板以及位于所述第一基板和第二基板之間的液晶層，所述第一基板和第二基板分別包括:襯底基板以及直接形成在所述襯底基板上的光柵偏振片，兩光柵偏振片的狹縫的延伸方向垂直。
[0005]優(yōu)選地，所述顯示面板為液晶顯示面板，所述液晶顯示面板包括相對(duì)設(shè)置的陣列基板和彩膜基板，所述陣列基板和彩膜基板分別包括:襯底基板以及直接形成在所述襯底基板上的光柵偏振片，兩光柵偏振片的狹縫的延伸方向垂直。
[0006]優(yōu)選地，所述第一基板為靠近所述顯示面板的基板，所述第一基板和所述彩膜基板共用一襯底基板。
[0007]優(yōu)選地，所述第一基板為靠近所述顯示面板的基板，所述第一基板和所述彩膜基板共用一光柵偏振片。
[0008]優(yōu)選地，所述彩膜基板和所述第一基板的組合結(jié)構(gòu)包括:
[0009]共用的襯底基板；
[0010]設(shè)置于所述共用的襯底基板一側(cè)的光柵偏振片、平坦層和濾光層；
[0011]設(shè)置于所述共用的襯底基板另一側(cè)的薄膜晶體管器件層。
[0012]優(yōu)選地，所述光柵偏振片的周期小于可見(jiàn)光波長(zhǎng)，占空比為0.3-0.7，槽深為100nm-200nmo
[0013]優(yōu)選地，所述光柵偏振片采用金屬材料制成。
[0014]本發(fā)明還提供一種3D顯示裝置，包括顯示面板以及設(shè)置于所述顯示面板出光側(cè)的3D光柵，所述顯示面板包括相對(duì)設(shè)置的陣列基板和彩膜基板以及位于所述陣列基板和彩膜基板之間的液晶層，所述陣列基板和彩膜基板分別包括:襯底基板以及直接形成在所述襯底基板上的光柵偏振片，兩光柵偏振片的狹縫的延伸方向垂直。
[0015]本發(fā)明還提供一種3D顯示裝置的制造方法，包括形成顯示面板以及在所述顯示面板出光側(cè)形成3D光柵的步驟，所述3D光柵包括相對(duì)設(shè)置的第一基板和第二基板以及位于所述第一基板和第二基板之間的液晶層，所述第一基板和第二基板分別包括:襯底基板以及直接形成在所述襯底基板上的光柵偏振片，兩光柵偏振片的狹縫的延伸方向垂直。
[0016]優(yōu)選地，所述顯示面板為液晶顯示面板，所述液晶顯示面板包括相對(duì)設(shè)置的陣列基板和彩膜基板，所述陣列基板和彩膜基板分別包括:襯底基板以及直接形成在所述襯底基板上的光柵偏振片，兩光柵偏振片的狹縫的延伸方向垂直，所述第一基板為靠近所述顯示面板的基板，所述第一基板和所述彩膜基板共用一襯底基板和一光柵偏振片。
[0017]優(yōu)選地，形成所述彩膜基板和所述第一基板的步驟包括:
[0018]提供一共用的襯底基板；
[0019]在所述共用的襯底基板的一側(cè)形成光柵偏振片、平坦層和濾光層；
[0020]在所述共用的襯底基板另一側(cè)形成薄膜晶體管器件層。
[0021]優(yōu)選地，采用納米壓印工藝或者電子束曝光工藝形成所述光柵偏振片。
[0022]本發(fā)明還提供一種3D顯示裝置的制造方法，包括形成顯示面板以及在所述顯示面板出光側(cè)形成3D光柵的步驟，所述顯示面板包括相對(duì)設(shè)置的陣列基板和彩膜基板以及位于所述陣列基板和彩膜基板之間的液晶層，所述陣列基板和彩膜基板分別包括:襯底基板以及直接形成在所述襯底基板上的光柵偏振片，兩光柵偏振片的狹縫的延伸方向垂直。
[0023]本發(fā)明的上述技術(shù)方案的有益效果如下:
[0024]3D光柵中采用直接形成在3D光柵上的、且厚度為納米級(jí)尺寸的光柵偏振片替代現(xiàn)有的貼附在3D光柵的襯底基板外側(cè)的偏光片，以降低3D光柵的放置高度，使得高PPI的3D顯示成為可能。同時(shí)，使得3D顯示裝置薄型化。
【附圖說(shuō)明】
[0025]圖1為現(xiàn)有技術(shù)中的3D顯示裝置的一結(jié)構(gòu)示意圖；
[0026]圖2為本發(fā)明實(shí)施例一的3D顯示裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0027]圖3為本發(fā)明實(shí)施例的光柵偏振片的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0028]圖4為本發(fā)明實(shí)施例二的3D顯示裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0029]圖5為本發(fā)明實(shí)施例三的3D顯示裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0030]圖6為本發(fā)明實(shí)施例四的3D顯示裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0031]圖7為本發(fā)明實(shí)施例五的3D顯示裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0032]圖8為本發(fā)明實(shí)施例的采用納米壓印工藝形成光柵偏振片的方法示意圖。
[0033]附圖標(biāo)記說(shuō)明:
[0034]現(xiàn)有技術(shù):
[0035]10顯示面板；
[0036]11下偏光片；12陣列基板；13液晶層；14彩膜基板；15上偏光片；
[0037]20 3D 光柵；
[0038]21下偏光片；22陣列基板；23液晶層；24對(duì)向基板；25上偏光片；
[0039]30粘接層；
[0040]h 3D光柵的放置高度；
[0041]本發(fā)明實(shí)施例:
[0042]40顯示面板；
[0043]41陣列基板；411襯底基板；412絕緣層；413薄膜晶體管器件層；42彩膜基板；421襯底基板；422平坦層；423濾光層；43液晶層；
[0044]50 3D 光柵；
[0045]51第一基板；511襯底基板；512薄膜晶體管器件層；513絕緣層；52第二基板；521襯底基板；53液晶層；
[0046]30粘接層；
[0047]60光柵偏振片；61光柵條；62狹縫；
[0048]70襯底基板；
[0049]h 3D光柵的放置高度；
[0050]101基板；102金屬薄膜；103光刻膠；104壓模板。
【具體實(shí)施方式】
[0051]下面將結(jié)合附圖和實(shí)施例，對(duì)本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】作進(jìn)一步詳細(xì)描述。以下實(shí)施例用于說(shuō)明本發(fā)明，但不用來(lái)限制本發(fā)明的范圍。
[0052]請(qǐng)參考圖2，圖2為本發(fā)明實(shí)施例一的3D顯示裝置的結(jié)構(gòu)示意圖，該3D顯示裝置包括:顯示面板40以及設(shè)置于所述顯示面板40出光側(cè)的3D光柵50，所述3D光柵50為液晶光柵，包括相對(duì)設(shè)置的第一基板51和第二基板52以及位于所述第一基板51和第二基板52之間的液晶層53，其中，所述第一基板51包括:襯底基板511以及直接形成在所述襯底基板511上的光柵偏振片60，所述第一基板52包括:襯底基板521以及直接形成在所述襯底基板521上的光柵偏振片60，兩光柵偏振片60的狹縫的延伸方向垂直。
[0053]所述光柵偏振片60直接形成在襯底基板上的含義為:光柵偏振片60在制作第一基板51和第二基板52的過(guò)程中直接形成，而非與現(xiàn)有的偏光片一樣，單獨(dú)制作，通過(guò)粘合膠等貼附于基板上。
[0054]所述光柵偏振片60的厚度為納米級(jí)尺寸，所謂納米級(jí)尺寸為I?1000納米之間。
[0055]請(qǐng)參考圖3，圖3為本發(fā)明實(shí)施例的光柵偏振片的結(jié)構(gòu)示意圖，所述光柵偏振片包括多個(gè)平行設(shè)置的光柵條61，相鄰的光柵條61之間形成一狹縫62，該狹縫62的寬度和厚度均為納米級(jí)尺寸，使得該種結(jié)構(gòu)的光柵偏振片僅透過(guò)一定偏振方向的偏振光，具體的，光柵偏振片僅能透過(guò)偏振方向位于所述光柵偏振片所在平面且與光柵偏振片的狹縫62的延伸方向垂直的偏振光。
[0056]由于光柵偏振片僅透過(guò)一定偏振方向的偏振光，因此可替代現(xiàn)有的偏光片。且光柵偏振片的厚度為納米級(jí)尺寸，而現(xiàn)有的偏光片的厚度約為lOOum，因此，采用光柵偏振片替代偏光片之后，可明顯可降