1.一種測量方法，其特征在于，包括：
通過將來自光源的光分成參照光束和測試光束并且引起參照光束和透過測試對(duì)象的測試光束之間的干涉，在多個(gè)波長處測量參照光束和測試光束之間的相位差；以及
通過基于參照對(duì)象的已知的相位折射率相對(duì)于波長的斜率計(jì)算與相位差中包括的2π的整數(shù)倍對(duì)應(yīng)的值，計(jì)算測試對(duì)象的相位折射率。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測量方法，其中，基于測試對(duì)象的相位折射率相對(duì)于波長的斜率和參照對(duì)象的相位折射率相對(duì)于波長的斜率之間的差，計(jì)算所述與相位差中包括的2π的整數(shù)倍對(duì)應(yīng)的值。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測量方法，其中，基于參照對(duì)象的相位折射率相對(duì)于波長的斜率的公差，計(jì)算所述與相位差中包括的2π的整數(shù)倍對(duì)應(yīng)的值。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測量方法，還包括：
在測試對(duì)象的溫度為第一溫度的條件下，在多個(gè)波長處測量參照光束和測試光束之間的相位差；
在測試對(duì)象的溫度為不同于第一溫度的第二溫度的條件下，在多個(gè)波長處測量參照光束和測試光束之間的相位差；以及
基于在第一溫度和第二溫度中的每一個(gè)下測量的參照光束和測試光束之間的相位差，計(jì)算測試對(duì)象的厚度。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測量方法，還包括：
通過將測試對(duì)象放置在第一介質(zhì)中，在多個(gè)波長處測量參照光束和測試光束之間的相位差；
通過將測試對(duì)象放置在具有與第一介質(zhì)的折射率不同的折射率的第二介質(zhì)中，在多個(gè)波長處測量參照光束和測試光束之間的相位差；以及
基于通過將測試對(duì)象放置在第一介質(zhì)和第二介質(zhì)中的每一個(gè)中所測量的參照光束和測試光束之間的相位差，計(jì)算測試對(duì)象的厚度。
6.一種光學(xué)元件制造方法，其特征在于，包括：
模塑光學(xué)元件；以及
通過測量光學(xué)元件的折射率，評(píng)估所模塑的光學(xué)元件，
其中，通過測量方法來測量光學(xué)元件的折射率，所述測量方法包括：
通過將來自光源的光分為參照光束和測試光束、允許測試光束入射在測試對(duì)象上以及引起參照光束和透過測試對(duì)象的測試光束之間的干涉，在多個(gè)波長處測量參照光束和測試光束之間的相位差，以及
通過基于參照對(duì)象的已知的相位折射率相對(duì)于波長的斜率計(jì)算與相位差中包括的2π的整數(shù)倍對(duì)應(yīng)的值，計(jì)算測試對(duì)象的相位折射率。
7.一種測量裝置，其特征在于，包括：
光源；
干涉光學(xué)系統(tǒng)，被配置為將來自光源的光分為參照光束和測試光束并且引起參照光束和透過測試對(duì)象的測試光束之間的干涉；
檢測器，被配置為檢測參照光束和測試光束之間的干涉光，所述干涉光由干涉光學(xué)系統(tǒng)形成；以及
計(jì)算機(jī)，被配置為基于從檢測干涉光的檢測器獲得的干涉信號(hào)來計(jì)算參照光束和測試光束之間的相位差，
其中，計(jì)算機(jī)通過基于參照對(duì)象的已知的相位折射率相對(duì)于波長的斜率計(jì)算與相位差中包括的2π的整數(shù)倍對(duì)應(yīng)的值來計(jì)算測試對(duì)象的相位折射率。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的測量裝置，其中，計(jì)算機(jī)基于測試對(duì)象的相位折射率相對(duì)于波長的斜率和參照對(duì)象的相位折射率相對(duì)于波長的斜率之間的差來計(jì)算所述與相位差中包括的2π的整數(shù)倍對(duì)應(yīng)的值。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的測量裝置，其中，計(jì)算機(jī)基于參照對(duì)象的相位折射率相對(duì)于波長的斜率的公差來計(jì)算所述與相位差中包括的2π的整數(shù)倍對(duì)應(yīng)的值。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的測量裝置，其中，計(jì)算機(jī)基于在測試對(duì)象的溫度為第一溫度的條件下在多個(gè)波長處測量的參照光束和測試光束之間的相位差以及在測試對(duì)象的溫度為不同于第一溫度的第二溫度的條件下在多個(gè)波長處測量的參照光束和測試光束之間的相位差來計(jì)算測試對(duì)象的厚度。
11.根據(jù)權(quán)利要求7所述的測量裝置，其中，計(jì)算機(jī)基于在測試對(duì)象被放置在第一介質(zhì)中的狀態(tài)下在多個(gè)波長處測量的參照光束和測試光束之間的相位差以及在測試對(duì)象被放置在具有與第一介質(zhì)的折射率不同的折射率的第二介質(zhì)中的狀態(tài)下在多個(gè)波長處測量的參照光束和測試光束之間的相位差來計(jì)算測試對(duì)象的厚度。