1.一種實現(xiàn)離子源均勻照射鍍膜基片的屏蔽罩，涉及離子源對承載在可旋轉鍍膜傘架上的鍍膜基片進行鍍膜，其特征在于：所述屏蔽罩設置在所述離子源的外圍，所述屏蔽罩的罩體頂部開設有扇形或類扇形開口，所述扇形或類扇形開口位于所述離子源的上方。
2.根據(jù)權利要求1所述的一種實現(xiàn)離子源均勻照射鍍膜基片的屏蔽罩，其特征在于：所述扇形或類扇形開口的大小滿足于使所述離子源發(fā)射的荷能粒子在所述鍍膜傘架上的投影覆蓋所述鍍膜基片的要求。
3.根據(jù)權利要求1所述的一種實現(xiàn)離子源均勻照射鍍膜基片的屏蔽罩，其特征在于：所述扇形或類扇形開口的圓心位于所述鍍膜傘架的中垂線上。