基板搬運裝置的制造方法
【技術領域】
[0001 ]本發(fā)明涉及搬運硅晶圓、玻璃晶圓等基板的基板搬運裝置，尤其涉及具備搬運基板的兩個手部的基板搬運裝置。
【背景技術】
[0002]以往已知有稱為多處理室系統(tǒng)(mult1-chamber system)的半導體處理設備。該多處理室系統(tǒng)具備多個半導體處理室以及裝載室。半導體處理室以及裝載室分別通過門與一個搬運室連接，在搬運室內(nèi)配置有搬運裝置。搬運裝置從裝載室以及半導體處理室取出晶圓后，將該晶圓搬運至下一個半導體處理室的規(guī)定的基板載置位置，并且載置于該基板載置位置。對搬運至基板載置位置的半導體晶圓實施規(guī)定的工藝處理，進而由搬運裝置搬運至下一個基板載置位置。作為搬運裝置，例如已知如專利文獻I所公開的具備兩個手部的搬運裝置。
[0003]該搬運裝置具有旋轉(zhuǎn)連桿和兩個手部機構。旋轉(zhuǎn)連桿通過旋轉(zhuǎn)用驅(qū)動機構進行轉(zhuǎn)動。在旋轉(zhuǎn)連桿上可轉(zhuǎn)動地安裝有手部機構的臂部。在手部機構的臂部上可轉(zhuǎn)動地安裝有手部機構的手部。兩個手部機構的臂部分別通過臂部用傳動帶等連接于對應的手部用驅(qū)動機構。手部用驅(qū)動機構形成為使臂部用傳動帶工作而轉(zhuǎn)動對應的臂部的結(jié)構。手部機構的手部通過聯(lián)動機構連接于對應的手部機構的臂部。聯(lián)動機構形成為使手部與手部機構的臂部的轉(zhuǎn)動連動地旋轉(zhuǎn)的結(jié)構。手部機構的手部形成為能夠保持晶圓的結(jié)構。
[0004]形成為如上所述結(jié)構的搬運裝置通過旋轉(zhuǎn)用驅(qū)動機構使旋轉(zhuǎn)連桿轉(zhuǎn)動，且通過一側(cè)的手部用驅(qū)動機構使對應于該手部用驅(qū)動機構的手部機構轉(zhuǎn)動，以使該手部機構的手部朝與門的開口方向大致一致的方向行進，從而搬運保持于手部的晶圓。借助于此，能夠避免晶圓或手部機構的臂部等與門接觸。
[0005]現(xiàn)有技術文獻:
專利文獻:
專利文獻1:日本特開2011-161554號公報。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]發(fā)明要解決的問題:
然而，專利文獻I記載的搬運裝置由于在一側(cè)的手部機構伸展的期間，以使一側(cè)的手部機構的手部朝向與門的開口方向大致一致的方向的形式由旋轉(zhuǎn)用驅(qū)動機構轉(zhuǎn)動旋轉(zhuǎn)連桿，因此無法以使另一側(cè)的手部機構的手部朝向與另一個門的開口方向大致一致的方向的形式由旋轉(zhuǎn)用驅(qū)動機構轉(zhuǎn)動旋轉(zhuǎn)連桿，存在基板的搬運效率較低的問題。另外，這樣的問題不限于半導體晶圓，由與多處理室系統(tǒng)具有相同結(jié)構的基板處理系統(tǒng)進行處理的半導體晶圓以外的基板中也同樣地發(fā)生。
[0007]解決問題的手段:
為了解決上述問題，根據(jù)本發(fā)明的基板搬運裝置具備:能夠以旋轉(zhuǎn)軸線為中心轉(zhuǎn)動的旋轉(zhuǎn)部;相對于包括所述旋轉(zhuǎn)軸線的對稱面對稱地設置在所述旋轉(zhuǎn)部的第一手部機構以及第二手部機構;和驅(qū)動所述第一手部機構以及第二手部機構的搬運裝置驅(qū)動機構;所述第一手部機構包括:第一下臂部，其一端部安裝于所述旋轉(zhuǎn)部且能夠以平行于所述旋轉(zhuǎn)軸線的第一軸線為中心轉(zhuǎn)動;第一上臂部，其一端部安裝于所述第一下臂部的另一端部且能夠以平行于所述旋轉(zhuǎn)軸線的第二軸線為中心轉(zhuǎn)動;第一手部，其梢端部是第一基板保持部，其基端部安裝于所述第一上臂部的另一端部且能夠以平行于所述旋轉(zhuǎn)軸線的第三軸線為中心轉(zhuǎn)動，并且從動于所述第一上臂部的轉(zhuǎn)動進行轉(zhuǎn)動;和使所述第一手部從動于所述第一上臂部的轉(zhuǎn)動進行轉(zhuǎn)動的第一從動機構;并且所述第一手部機構形成為如下結(jié)構:通過所述第一下臂部、所述第一上臂部以及所述第一手部的轉(zhuǎn)動，能夠使所述第一基板保持部在所述第一基板保持部離所述旋轉(zhuǎn)軸線近的縮回位置、和相比于所述縮回位置第一基板保持部離所述旋轉(zhuǎn)軸線遠的伸展位置之間移動;所述第二手部機構包括:第二下臂部，其一端部安裝于所述旋轉(zhuǎn)部且能夠以平行于所述旋轉(zhuǎn)軸線的第四軸線為中心轉(zhuǎn)動;第二上臂部，其一端部安裝于所述第二下臂部的另一端部且能夠以平行于所述旋轉(zhuǎn)軸線的第五軸線為中心轉(zhuǎn)動;第二手部，其梢端部是第二基板保持部，其基端部安裝于所述第二上臂部的另一端部且能夠以平行于所述旋轉(zhuǎn)軸線的第六軸線為中心轉(zhuǎn)動，并且從動于所述第二上臂部的轉(zhuǎn)動進行轉(zhuǎn)動；和使所述第二手部從動于所述第二上臂部的轉(zhuǎn)動進行轉(zhuǎn)動的第二從動機構；并且所述第二手部機構形成為如下結(jié)構:通過所述第二下臂部、所述第二上臂部以及所述第二手部的轉(zhuǎn)動，能夠使所述第二基板保持部在所述第二基板保持部離所述旋轉(zhuǎn)軸線近的縮回位置、和相比于所述縮回位置第二基板保持部離所述旋轉(zhuǎn)軸線遠的伸展位置之間與所述第一基板保持部同步地移動。
[0008]根據(jù)該結(jié)構，能夠同時驅(qū)動第一手部機構以及第二手部機構并進行基板的搬運，因此能夠改善基板的搬運效率。此外，能夠通過三個軸實現(xiàn)。
[0009]又，本發(fā)明的基板搬運裝置能夠應用于以如下形式配置的半導體處理設備，假定在從旋轉(zhuǎn)軸線延伸的方向觀察時以相等的中心角分割為兩個假想?yún)^(qū)域，則使進行相同處理的處理室位于同一側(cè)區(qū)域。
[0010]第一基板保持部形成為如下結(jié)構:以使保持于第一基板保持部的基板在所述對稱面的一側(cè)區(qū)域移動的形式執(zhí)行動作;第二基板保持部形成為如下結(jié)構:以使保持于第二基板保持部的基板在所述對稱面的另一側(cè)的區(qū)域移動的形式執(zhí)行動作。
[0011]根據(jù)該結(jié)構，能夠防止保持于第一基板保持部以及第二基板保持部的基板相互干擾。
[0012]也可以是所述搬運裝置驅(qū)動機構包括:使所述旋轉(zhuǎn)部轉(zhuǎn)動的第一驅(qū)動部;使所述第一下臂部以及第二下臂部聯(lián)動地向相反方向轉(zhuǎn)動的第二驅(qū)動部;和使所述第一上臂部以及第二上臂部聯(lián)動地向相反方向轉(zhuǎn)動的第三驅(qū)動部。
[0013]根據(jù)該結(jié)構，能夠使基板搬運裝置的結(jié)構簡單化，又，有利于制造，且制造成本也低廉。
[0014]也可以是所述第一從動機構使所述第一手部從動于所述第一上臂部的轉(zhuǎn)動且以1.35以上且1.65以下的減速比轉(zhuǎn)動;所述第二從動機構使所述第二手部從動于所述第二上臂部的轉(zhuǎn)動且以1.35以上且1.65以下的減速比轉(zhuǎn)動。
[0015]根據(jù)該結(jié)構，能夠以避開第一手部機構以及第二手部機構中任意一方手部機構的形式使另一方手部機構的手部從動于上臂部的轉(zhuǎn)動并進行轉(zhuǎn)動。
[0016]也可以是所述第一手部在所述縮回位置上采取從第三軸線越靠近第一基板保持部的中心則離所述對稱面越遠的姿勢;所述第二手部在所述縮回位置上采取從第六軸線越靠近第二基板保持部的中心則離所述對稱面越遠的姿勢。
[0017]根據(jù)該結(jié)構，能夠防止由初始姿勢的基板搬運裝置的第一基板保持部以及第二基板保持部中任意一方基板保持部保持的基板干擾由另一方基板保持部保持的基板。
[0018]也可以是所述第一基板保持部以及第二基板保持部形成為如下結(jié)構:以其軌跡繪制實質(zhì)上漸近于從所述旋轉(zhuǎn)軸線以輻射狀延伸的直線或者與該直線平行的直線的曲線的形式從所述縮回位置向所述伸展位置移動。
[0019]根據(jù)該結(jié)構，在伸展位置附近，第一基板保持部以及第二基板保持部能夠以大致繪制直線的形式移動，因此能夠使第一基板保持部以及第二基板保持部容易插入于基板處理室。
[0020]發(fā)明效果:
根據(jù)本發(fā)明，能夠改善基板搬運裝置的搬運效率。
【附圖說明】
[0021]圖1是示出具備根據(jù)本發(fā)明實施形態(tài)的基板搬運裝置的半導體處理設備的構成例的俯視圖；
圖2是從斜上方觀察圖1的基板搬運裝置的立體圖；
圖3是在鉛錘方向上對圖1所示基板搬運裝置的第一手部機構以及其周邊部分剖切后放大示出其截面的放大剖視圖；
圖4是在鉛錘方向上對圖1所示基板搬運裝置的第二手部機構以及其周邊部分剖切后放大示出其截面的放大剖視圖；
圖5是示意性地示出設置于圖1所示基板搬運裝置的旋轉(zhuǎn)部的齒輪的俯視圖；
圖6是示出第一手部機構以及第二手部機構的動作的俯視圖；
圖7是示出基板搬運裝置從圖1狀態(tài)下使第一手部機構以及第二手部機構伸出而使手部靠近門的狀態(tài)的俯視圖；
圖8是示出基板搬運裝置從圖7狀態(tài)下使第一手部機構以及第二手部機構進一步伸出而使手部插入于處理房的房間的狀態(tài)的俯視圖；
圖9是示出基板搬運裝置從圖8狀態(tài)下使第一手部機構以及第二手部機構進一步伸出而使手部移動至基板載置位置的狀態(tài)的俯視圖；
圖10是示出基板搬運裝置從圖1狀態(tài)下旋轉(zhuǎn)而使第一基板保持部以及第二基板保持部位于朝向另一處理房的位置的狀態(tài)的俯視圖；
圖11是示出基板搬運裝置從圖10狀態(tài)下使第一手部機構以及第二手部機構伸出而使手部靠近門的狀態(tài)的俯視圖；
圖12是示出基板搬運裝置從圖11狀態(tài)下使第一手部機構以及第二手部機構進一步伸出而使手部插入于處理房的房間的狀態(tài)的俯視圖；
圖13是示出基板搬運裝置從圖12狀態(tài)下使第一手部機構以及第二手部機構進一步伸出而使手部移動至基板載置位置附近的狀態(tài)的俯視圖； 圖14是示出基板搬運裝置從圖13狀態(tài)下使第一手部機構以及第二手部機構進一步伸出而使手部移動至基板載置位置的狀態(tài)的俯視圖；
圖15是示出基板搬運裝置從圖14狀態(tài)下使第一手部機構以及第二手部機構縮回而從基板載置位置取出基板的狀態(tài)的俯視圖；
圖16是示出基板搬運裝置從圖15狀態(tài)下使第一手部機構以及第二手部機構縮回而使手部靠近門的狀態(tài)的俯視圖；
圖17是示出基板搬運裝置從圖16狀態(tài)下使第一手部機構以及第二手部機構縮回而使基板穿過門的狀態(tài)的俯視圖；
圖18是示出基板搬運裝置從圖17狀態(tài)下使第一手部機構以及第二手部機構縮回而恢復至初始姿勢的狀態(tài)的俯視圖。
【具體實施方式】
[0022]以下，參照【附圖說明】本發(fā)明的實施形態(tài)。
[0023]半導體處理設備:
圖1是示出具備根據(jù)本發(fā)明實施形態(tài)的基板搬運裝置I的半導體處理設備100的構成例的俯視圖。半導體處理設備100是基板處理系統(tǒng)的一個示例。只要基板處理系統(tǒng)是在搬運空間的周圍配置有多個處理基板的處理室，且在該搬運空間內(nèi)配置有對各處理室取放基板的搬運裝置這樣的系統(tǒng)即可。如圖1所示的半導體處理設備100是用于對基板P實施熱處理、雜質(zhì)導入處理、薄膜形成處理、光刻處理、清洗處理以及平坦化處理等各種工藝處理的設