一種過濾藍光防輻射的耐磨燈罩及其制造方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及一種過濾藍光防輻射的耐磨燈罩及其制造方法。
【背景技術】
[0002]隨著現(xiàn)代生活照明設備的普遍使用，人們長期暴露在燈光環(huán)境中，時間久了眼睛容易出現(xiàn)酸澀、疼痛、流淚等不舒服癥狀，更嚴重的會出現(xiàn)視力下降，這些不舒服的癥狀是因為眼睛長時間處于燈光環(huán)境中，由燈光所散發(fā)出來的有害光線所致。燈光持續(xù)照射我們的眼睛還會引起視覺系統(tǒng)失調，因為這些光線里面含有大量不規(guī)則頻率的高能短波藍光，這些短波藍光具有能量能穿透我們的眼球晶體直達視網膜，短波藍光持續(xù)照射視網膜會產生大量自由基離子，這些自由基離子會使得視網膜的色素上皮細胞衰亡，上皮細胞的衰亡會使感光細胞缺少養(yǎng)分而引起視力損傷；這些短波藍光也是引起黃斑部病變的主要起因，我們每天長時間面對燈光產生的藍光刺激，殊不知藍光波長短能量高，易引起眼睛視覺上的干澀、畏光、疲勞等早發(fā)性白內障、自發(fā)性黃斑部病變。藍光約占可見光的50~60%，而藍光也是引起黃斑部病變的主要原因之一，嚴重可能導致失明。藍光會刺激視網膜產生大量自由基離子，使得視網膜色素上皮的萎縮，再引起光敏感細胞的衰亡。
此外燈光還會不斷產生對人體有害的電子輻射、紫外線及遠紅外線，隨著人民健康意識的提高，如何有效的減低或防止輻射傷害越來越受到重視了。
[0003]目前，主要是通過在燈具外設置燈罩，用以聚光、防風雨以及解決上述問題，但是現(xiàn)有的燈罩過濾藍光的效果并不理想，另外，現(xiàn)有的燈罩較少有防輻射的功能，人們長期暴露在燈光環(huán)境中，身體受到了極大的影響。另外，燈罩在使用過程中很容易被刮花或蹭花，影響美觀，更嚴重的是，燈罩的表面刮花或蹭花后，內層暴露在空氣中，容易受腐蝕，影響使用壽命。

【發(fā)明內容】

[0004]本發(fā)明的目的在于提供一種過濾藍光防輻射的耐磨燈罩及其制造方法，該方法制造出來的燈罩具有防止有害藍光和電子輻射等對人體的傷害，而且具有高耐磨性。
[0005]為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用以下技術方案:
一種過濾藍光防輻射的耐磨燈罩，包括基板，所述基板的外表面從里到外依序設有第一膜層、第二膜層、第三膜層、第四膜層和第五膜層，所述第一膜層為五氧化三鈦層，第一膜層的厚度為10-100nm ;所述第二膜層為二氧化硅層，第二膜層的厚度為50_100nm ;所述第三膜層為金屬層，第三膜層的厚度為5-20nm;所述第四膜層為ΙΤ0層，第四膜層的厚度為10-100nm ;所述第五膜層為高硬度層，該第五膜層的厚度為10_50nm。
[0006]所述金屬層膜材為金、銀、鉑、釹、銅、鋅或鎳，并使用電子槍蒸鍍成型。
[0007]所述金屬層膜材為金合金、銀合金、鈾合金、釹合金、銅合金、鋅合金或鎳合金，并使用電子槍蒸鍍成型。
[0008]所述高硬度層膜材為三氧化二鋁、氧化鋯、二氧化硅晶體或一氧化硅晶體，并使用電子槍蒸鍍成型。
[0009]所述基板為樹脂或玻璃成型。
[0010]本發(fā)明公開了所述基板為樹脂成型時，所述過濾藍光防輻射的耐磨燈罩的制造方法，具體包括以下步驟:
1)對基板的外表面進行清洗；
2)對基板的外表面進行鍍膜；
A、鍍第一膜層:
將真空鍍膜艙內的真空度調整至大于或等于5.0X 10 3帕，并控制真空鍍膜艙內的溫度為50-70°C，采用電子槍轟擊第一膜層的膜材，第一膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于基板的外表面，同時控制第一膜層蒸鍍的速率為2.5A/S，第一膜層最終形成后的厚度為10-100nm，其中第一膜層的膜材為五氧化三鈦，形成五氧化三鈦層；
B、鍍第二膜層:
保持真空鍍膜艙內的真空度大于或等于5.0X 10 3帕，同時保持真空鍍膜艙內的溫度為50-70°C，采用電子槍轟擊第二膜層的膜材，第二膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于上述步驟A中第一膜層的表面，同時控制第二膜層蒸鍍的速率為7A/S，第二膜層最終形成后的厚度為50-100nm，其中第二膜層的膜材為二氧化硅，形成二氧化硅層；
C、鍍第三膜層:
保持真空鍍膜艙內的真空度大于或等于5.0X 10 3帕，同時保持真空鍍膜艙內的溫度為50-70°C，采用電子槍轟擊第三膜層的膜材，第三膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于上述步驟B中第二膜層的表面，同時控制第三膜層蒸鍍的速率為1A/S，第三膜層最終形成后的厚度為5-20nm，其中第三膜層的膜材為金、銀、鉑、釹、銅、鋅、鎳、金合金、銀合金、鈾合金、釹合金、銅合金、鋅合金或鎳合金，形成金屬層；
D、鍍第四膜層:
保持真空鍍膜艙內的真空度大于或等于5.0X 10 3帕，同時保持真空鍍膜艙內的溫度為50-70°C，采用電子槍轟擊第四膜層的膜材，第四膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于上述步驟C中第三膜層的表面，同時控制第四膜層蒸鍍的速率為1A/S，第四膜層最終形成后的厚度為10-100nm，其中第四膜層的膜材為ΙΤ0材料，形成ΙΤ0層；
E、鍍第五膜層:
保持真空鍍膜艙內的真空度大于或等于5.0X 10 3帕，同時保持真空鍍膜艙內的溫度為50-70°C，采用電子槍轟擊第五膜層的膜材，第五膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于上述步驟D中第四膜層的表面，同時控制第五膜層蒸鍍的速率為7A/S，第五膜層最終形成后的厚度為10-50nm，其中第五膜層的膜材為三氧化二鋁、氧化鋯、二氧化硅晶體或一氧化硅晶體，形成高硬度層。
[0011]所述步驟1)中，對基板清洗的具體方法如下:將基板放在真空腔內，用離子槍轟擊基板的外表面3分鐘。
[0012]本發(fā)明還公開了所述基板為玻璃成型時，所述過濾藍光防輻射的耐磨燈罩的制造方法，具體包括以下步驟:
1)對基板的外表面進行清洗；
2)對基板的外表面進行鍍膜； A、鍍第一膜層:
將真空鍍膜艙內的真空度調整至大于或等于5.0X 10 3帕，并控制真空鍍膜艙內的溫度為200-300°C，采用電子槍轟擊第一膜層的膜材，第一膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于基板的外表面，同時控制第一膜層蒸鍍的速率為2.5A/S，第一膜層最終形成后的厚度為10-100nm，其中第一膜層的膜材為五氧化三鈦，形成五氧化三鈦層；
B、鍍第二膜層:
保持真空鍍膜艙內的真空度大于或等于5.0X 10 3帕，同時保持真空鍍膜艙內的溫度為200-300°C，采用電子槍轟擊第二膜層的膜材，第二膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于上述步驟A中第一膜層的表面，同時控制第二膜層蒸鍍的速率為7A/S，第二膜層最終形成后的厚度為50-100nm，其中第二膜層的膜材為二氧化硅，形成二氧化硅層；
C、鍍第三膜層:
保持真空鍍膜艙內的真空度大于或等于5.0X 10 3帕，同時保持真空鍍膜艙內的溫度為200-300°C，采用電子槍轟擊第三膜層的膜材，第三膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于上述步驟B中第二膜層的表面，同時控制第三膜層蒸鍍的速率為1A/S，第三膜層最終形成后的厚度為5-20nm，其中第三膜層的膜材為金、銀、鉑、釹、銅、鋅、鎳、金合金、銀合金、鈾合金、釹合金、銅合金、鋅合金或鎳合金，形成金屬層；
D、鍍第四膜層:
保持真空鍍膜艙內的真空度大于或等于5.0X 10 3帕，同時保持真空鍍膜艙內的溫度為200-300°C，采用電子槍轟擊第四膜層的膜材，第四膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于上述步驟C中第三膜層的表面，同時控制第四膜層蒸鍍的速率為1A/S，第四膜層最終形成后的厚度為10-100nm，其中第四膜層的膜材為IT0材料，形成IT0層；
E、鍍第五膜層:
保持真空鍍膜艙內的真空度大于或等于5.0X 10 3帕，同時保持真空鍍膜艙內的溫度為200-300°C，采用電子槍轟擊第五膜層的膜材，第五膜層的膜材蒸發(fā)后以納米級分子形式沉積于上述步驟D中第四膜層的表面，同時控制第五膜層蒸鍍的速率為7A/S，第五膜層最終形成后的厚度為10-50nm，其中第五膜層的膜材為三氧化二鋁、氧化鋯、二氧化硅晶體或一氧化硅晶體，形成高硬度層。
[0013]所述步驟1)中，對基板清洗的具體方法如下:將基板放在真空腔內，用離子槍轟擊基板的外表面5-10分鐘。
[0014]本發(fā)明采用電子束