本實(shí)用新型涉及輻射監(jiān)測領(lǐng)域，確切地說是一種低本底環(huán)形屏蔽裝置。

背景技術(shù)：

輻射監(jiān)督管理部門在地質(zhì)、環(huán)境和生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域進(jìn)行輻射環(huán)境與輻射防護(hù)檢測時(shí)，需要可以滿足測量低能β放射性核素為主的儀器來測量，目前，光探測裝置與光屏蔽分別采用鋁制光室與簡易的遮光布制成，沒有外部鉛屏蔽裝置，其缺點(diǎn)是：由于裝置結(jié)構(gòu)過于簡易，操作較為復(fù)雜，僅適合該裝置的相關(guān)技術(shù)人員操作。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題是在屏蔽室內(nèi)鉛環(huán)一體澆筑不容易清洗，分體設(shè)置容易脫落，設(shè)置固定結(jié)構(gòu)，加固鉛環(huán)，防止脫落。

為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型采用如下技術(shù)手段：

一種低本底環(huán)形屏蔽裝置，包括屏蔽室，屏蔽室下部設(shè)有底座，屏蔽室上部設(shè)有蓋體，屏蔽室內(nèi)設(shè)有可封閉的屏蔽空腔；所述的屏蔽空腔內(nèi)設(shè)有屏蔽環(huán)，屏蔽環(huán)可設(shè)置在屏蔽室內(nèi)側(cè)的環(huán)形槽內(nèi)，環(huán)形槽內(nèi)設(shè)有固定凸起，固定凸起為六個(gè)，均勻分布在環(huán)形槽內(nèi)，屏蔽室為分層結(jié)構(gòu)，分為內(nèi)層、外層和中間層。

作為優(yōu)選，本實(shí)用新型更進(jìn)一步的技術(shù)方案是：

所述的屏蔽室的中間層為低本底鉛層，厚度為10厘米。

所述的蓋體一側(cè)設(shè)有壓桿，蓋體上方設(shè)有拉環(huán)。

所述的屏蔽室內(nèi)設(shè)有兩條環(huán)形槽。

所述的屏蔽室的內(nèi)層為無氧銅層，厚度為3毫米。

所述的屏蔽室的外層為低碳鋼層，厚度為1厘米。

所述的屏蔽環(huán)為鉛環(huán)。

所述的環(huán)形槽直徑略大于鉛環(huán)的直徑。

本實(shí)用新型可使用低本底鉛整體澆筑，從新鉛至50年以上低本底老鉛多種選擇，對應(yīng)不同需求。新鉛經(jīng)過電解提純，不含雜質(zhì)；老鉛經(jīng)過Pb-210至少2個(gè)半衰期的儲(chǔ)存時(shí)間。屏蔽腔體均采用專業(yè)一次成型澆筑，避免內(nèi)部起泡，保證密度均勻，無屏蔽薄弱點(diǎn)，具有純度高、本底低等特點(diǎn)。通過設(shè)置環(huán)形槽，加固鉛環(huán)，防止脫落。

附圖說明

圖1為本實(shí)用新型的一種具體實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2為本實(shí)用新型的環(huán)形槽的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖3為本實(shí)用新型的屏蔽環(huán)的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖4為本實(shí)用新型的另一種具體實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)示意圖。

附圖標(biāo)記說明：1－底座；2－屏蔽室；3－拉環(huán)；4－蓋體；5－壓桿；6－環(huán)形槽；7－固定凸起；8－屏蔽環(huán)。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合實(shí)施例，進(jìn)一步說明本實(shí)用新型。

參見圖1、圖2、圖3、圖4可知，本實(shí)用新型一種低本底環(huán)形屏蔽裝置，由屏蔽室2，屏蔽室2下部設(shè)有底座1，屏蔽室2上部設(shè)有蓋體4，屏蔽室2內(nèi)設(shè)有可封閉的屏蔽空腔；所述的屏蔽空腔內(nèi)設(shè)有屏蔽環(huán)8，屏蔽環(huán)8可設(shè)置在屏蔽室2內(nèi)側(cè)的環(huán)形槽6內(nèi)，環(huán)形槽6內(nèi)設(shè)有固定凸起7，固定凸起7為六個(gè)，均勻分布在環(huán)形槽6內(nèi)，屏蔽室2為分層結(jié)構(gòu)，分為內(nèi)層、外層和中間層，所述的屏蔽室2的中間層為低本底鉛層，厚度為10厘米，蓋體4一側(cè)設(shè)有壓桿5，蓋體4上方設(shè)有拉環(huán)3，屏蔽室2內(nèi)設(shè)有兩條環(huán)形槽6，屏蔽室2的內(nèi)層為無氧銅層，厚度為3毫米，屏蔽室2的外層為低碳鋼層，厚度為1厘米，屏蔽環(huán)8為鉛環(huán)，環(huán)形槽6直徑略大于鉛環(huán)的直徑。

由于以上所述僅為本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式，但本實(shí)用新型的保護(hù)不限于此，任何本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員所能想到本技術(shù)方案技術(shù)特征的等同的變化或替代，都涵蓋在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。